Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production

Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production

The new type of multipurpose plasma source based on the surface wave sustained discharge is presented. The plasma in the source is generated by the RF surface wave discharge excited by the antenna system placed inside a cylindrical metal chamber. Charged particle acceleration is carried out by a q...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2004
Hauptverfasser: Azarenkov, N.A., Bizyukov, A.A., Gapon, A.V., Olefir, V.P., Kashaba, A.Y., Sereda, K.N., Tarasov, I.K.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2004
Schlagworte:
Элементы ускорителей
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79361
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production / N.A. Azarenkov, A.A. Bizyukov, A.V. Gapon, V.P. Olefir, A.Y. Kashaba, K.N. Sereda, I.K. Tarasov // Вопросы атомной науки и техники. — 2004. — № 2. — С. 111-113. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-79361
record_format dspace
spelling Azarenkov, N.A.
Bizyukov, A.A.
Gapon, A.V.
Olefir, V.P.
Kashaba, A.Y.
Sereda, K.N.
Tarasov, I.K.
2015-03-31T14:41:27Z
2015-03-31T14:41:27Z
2004
Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production / N.A. Azarenkov, A.A. Bizyukov, A.V. Gapon, V.P. Olefir, A.Y. Kashaba, K.N. Sereda, I.K. Tarasov // Вопросы атомной науки и техники. — 2004. — № 2. — С. 111-113. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.50.DG
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79361
The new type of multipurpose plasma source based on the surface wave sustained discharge is presented. The plasma in the source is generated by the RF surface wave discharge excited by the antenna system placed inside a cylindrical metal chamber. Charged particle acceleration is carried out by a quasi-stationary electric field due to DC voltage applied to the cylindrical electrode mounted inside the chamber. The source can be used for production and acceleration of ion as well as electron beams. The source has stable low-pressure operation in the range of applied RF power from 50 to 1000 W and produce ion beam having a density up to 0.3 mA/cm2 in the energy range from 50 to 200 eV and 3% homogeneity on the 300 mm diameter.
Представлено новий тип багатоцільового плазмового джерела на основі розряду на поверхневих хвилях. Плазма у джерелі створюється ВЧ-розрядом на поверхневих хвилях, що збуджується за допомогою антенної системи, яка міститься всередині циліндричної камери. Прискорення заряджених частинок здійснюється квазістаціонарним електричним полем завдяки сталій напрузі, яка прикладена до циліндричного електроду, що міститься у камері. Джерело можна використовувати для отримання та прискорення як іонних, так і електронних пучків. Джерело стабільно працює при низькому тиску в діапазоні прикладеної ВЧ потужності від 50 до 1000 Вт і генерує іонний пучок з густиною до 0,3 мА/см2 в діапазоні енергій (50…200) еВ при 3% однорідності на діаметрі 300 мм.
Представлен новый тип многоцелевого плазменного источника на основе разряда на поверхностных волнах. Плазма в источнике генерируется ВЧ-разрядом на поверхностных волнах, возбуждаемым с помощью антенной системы, расположенной внутри цилиндрической камеры. Ускорение заряженных частиц осуществляется квазистационарным электрическим полем за счет постоянного напряжения, приложенного к цилиндрическому электроду, расположенному внутри камеры. Источник можно использовать для получения и ускорения как ионных, так и электронных пучков. Источник стабильно работает при низком давлении в диапазоне приложенной ВЧ мощности от 50 до 1000 Вт и генерирует ионный пучок с плотностью до 0,3 мА/см2 в диапазоне энергий (50…200) эВ при 3% однородности на диаметре 300 мм.
This work was supported by the Scientific Technical Centre of Ukraine, Project #1112.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Элементы ускорителей
Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
Плазмове джерело на поверхневих хвилях для одержання іонних і електронних пучків
Плазменный источник на поверхностных волнах для получения ионных и электронных пучков
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
spellingShingle Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
Azarenkov, N.A.
Bizyukov, A.A.
Gapon, A.V.
Olefir, V.P.
Kashaba, A.Y.
Sereda, K.N.
Tarasov, I.K.
Элементы ускорителей
title_short Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
title_full Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
title_fullStr Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
title_full_unstemmed Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
title_sort surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
author Azarenkov, N.A.
Bizyukov, A.A.
Gapon, A.V.
Olefir, V.P.
Kashaba, A.Y.
Sereda, K.N.
Tarasov, I.K.
author_facet Azarenkov, N.A.
Bizyukov, A.A.
Gapon, A.V.
Olefir, V.P.
Kashaba, A.Y.
Sereda, K.N.
Tarasov, I.K.
topic Элементы ускорителей
topic_facet Элементы ускорителей
publishDate 2004
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Плазмове джерело на поверхневих хвилях для одержання іонних і електронних пучків
Плазменный источник на поверхностных волнах для получения ионных и электронных пучков
description The new type of multipurpose plasma source based on the surface wave sustained discharge is presented. The plasma in the source is generated by the RF surface wave discharge excited by the antenna system placed inside a cylindrical metal chamber. Charged particle acceleration is carried out by a quasi-stationary electric field due to DC voltage applied to the cylindrical electrode mounted inside the chamber. The source can be used for production and acceleration of ion as well as electron beams. The source has stable low-pressure operation in the range of applied RF power from 50 to 1000 W and produce ion beam having a density up to 0.3 mA/cm2 in the energy range from 50 to 200 eV and 3% homogeneity on the 300 mm diameter. Представлено новий тип багатоцільового плазмового джерела на основі розряду на поверхневих хвилях. Плазма у джерелі створюється ВЧ-розрядом на поверхневих хвилях, що збуджується за допомогою антенної системи, яка міститься всередині циліндричної камери. Прискорення заряджених частинок здійснюється квазістаціонарним електричним полем завдяки сталій напрузі, яка прикладена до циліндричного електроду, що міститься у камері. Джерело можна використовувати для отримання та прискорення як іонних, так і електронних пучків. Джерело стабільно працює при низькому тиску в діапазоні прикладеної ВЧ потужності від 50 до 1000 Вт і генерує іонний пучок з густиною до 0,3 мА/см2 в діапазоні енергій (50…200) еВ при 3% однорідності на діаметрі 300 мм. Представлен новый тип многоцелевого плазменного источника на основе разряда на поверхностных волнах. Плазма в источнике генерируется ВЧ-разрядом на поверхностных волнах, возбуждаемым с помощью антенной системы, расположенной внутри цилиндрической камеры. Ускорение заряженных частиц осуществляется квазистационарным электрическим полем за счет постоянного напряжения, приложенного к цилиндрическому электроду, расположенному внутри камеры. Источник можно использовать для получения и ускорения как ионных, так и электронных пучков. Источник стабильно работает при низком давлении в диапазоне приложенной ВЧ мощности от 50 до 1000 Вт и генерирует ионный пучок с плотностью до 0,3 мА/см2 в диапазоне энергий (50…200) эВ при 3% однородности на диаметре 300 мм.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79361
fulltext
citation_txt Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production / N.A. Azarenkov, A.A. Bizyukov, A.V. Gapon, V.P. Olefir, A.Y. Kashaba, K.N. Sereda, I.K. Tarasov // Вопросы атомной науки и техники. — 2004. — № 2. — С. 111-113. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT azarenkovna surfacewaveplasmasourceforbroadbeamionandelectronproduction
AT bizyukovaa surfacewaveplasmasourceforbroadbeamionandelectronproduction
AT gaponav surfacewaveplasmasourceforbroadbeamionandelectronproduction
AT olefirvp surfacewaveplasmasourceforbroadbeamionandelectronproduction
AT kashabaay surfacewaveplasmasourceforbroadbeamionandelectronproduction
AT seredakn surfacewaveplasmasourceforbroadbeamionandelectronproduction
AT tarasovik surfacewaveplasmasourceforbroadbeamionandelectronproduction
AT azarenkovna plazmovedžerelonapoverhnevihhvilâhdlâoderžannâíonnihíelektronnihpučkív
AT bizyukovaa plazmovedžerelonapoverhnevihhvilâhdlâoderžannâíonnihíelektronnihpučkív
AT gaponav plazmovedžerelonapoverhnevihhvilâhdlâoderžannâíonnihíelektronnihpučkív
AT olefirvp plazmovedžerelonapoverhnevihhvilâhdlâoderžannâíonnihíelektronnihpučkív
AT kashabaay plazmovedžerelonapoverhnevihhvilâhdlâoderžannâíonnihíelektronnihpučkív
AT seredakn plazmovedžerelonapoverhnevihhvilâhdlâoderžannâíonnihíelektronnihpučkív
AT tarasovik plazmovedžerelonapoverhnevihhvilâhdlâoderžannâíonnihíelektronnihpučkív
AT azarenkovna plazmennyiistočniknapoverhnostnyhvolnahdlâpolučeniâionnyhiélektronnyhpučkov
AT bizyukovaa plazmennyiistočniknapoverhnostnyhvolnahdlâpolučeniâionnyhiélektronnyhpučkov
AT gaponav plazmennyiistočniknapoverhnostnyhvolnahdlâpolučeniâionnyhiélektronnyhpučkov
AT olefirvp plazmennyiistočniknapoverhnostnyhvolnahdlâpolučeniâionnyhiélektronnyhpučkov
AT kashabaay plazmennyiistočniknapoverhnostnyhvolnahdlâpolučeniâionnyhiélektronnyhpučkov
AT seredakn plazmennyiistočniknapoverhnostnyhvolnahdlâpolučeniâionnyhiélektronnyhpučkov
AT tarasovik plazmennyiistočniknapoverhnostnyhvolnahdlâpolučeniâionnyhiélektronnyhpučkov
first_indexed 2025-11-26T01:42:31Z
last_indexed 2025-11-26T01:42:31Z
_version_ 1850604636265775104

Ähnliche Einträge