Рафинирование тантала методом электронно-лучевой плавки

Изложены результаты исследования процесса рафинирования тантала электронно-лучевой плавкой с применением высоковакуумной техники. Основное внимание уделяется поведению металлических примесей и примесей внедрения. Определены примеси, снижение содержания которых в исходном металле позволит получить не...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2002
1. Verfasser: Пилипенко, Н.Н.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79495
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Рафинирование тантала методом электронно-лучевой плавки / Н.Н. Пилипенко // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 1. — С. 37-39. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Изложены результаты исследования процесса рафинирования тантала электронно-лучевой плавкой с применением высоковакуумной техники. Основное внимание уделяется поведению металлических примесей и примесей внедрения. Определены примеси, снижение содержания которых в исходном металле позволит получить необходимую степень чистоты тантала. Представлено результати дослідження процесу рафінування танталу електронно-променевою плавкою із застосуванням високовакуумної техніки. Основна увага приділяється поведінці металевих домішок і домішок втілення. Визначено домішки, зниження вмісту яких в вихідному металі дозволить отримати необхідну ступінь чистоти танталу. The results of research of refining of tantalum by electron-beam melting using high vacuum equipment are given. Main consideration is given for behavior of metal impurities and interstitial impurities. The impurities which lowering of contents in initial metal will allow obtaining necessary purity of tantalum are determined.
ISSN:1562-6016