Buchumschlag

Thermoionic Vacuum Arc (TVA) - one of the best suitable method for high purity compact smooth thin films deposition

Описан метод термоионной вакуумной дуги (ТВД) как новый наиболее подходящий метод для осаждения тонких пленок высокой чистоты с компактной структурой и очень гладких, удобный для получения пленок с наноструктурой. ТВД может производить источник плазмы чистых металлов внутри вакуумной камеры (включая...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2002
Hauptverfasser: Ehrich, H., Musa, G., Mustata, I.
Format: Artikel
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
Schlagworte:
Пленочные материалы и покрытия
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79510
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Thermoionic Vacuum Arc (TVA) - one of the best suitable method for high purity compact smooth thin films deposition / H. Ehrich, G. Musa, I. Mustata // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 1. — С. 169-171. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Ähnliche Einträge

Ähnliche Einträge