The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex

The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex

The modified pulsed electron beam source on voltage 200 kV and current 10 A with half-height pulse duration 2.5 ns and repetition rate 50 Hz is described. The source gun has been performed on the base of impregnated cathode with 20 mm diameter. The cathode pulse voltage is formed by storage capaci...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2006
Hauptverfasser: Akimov, A.V., Akimov, V.E., Bak, P.A., Kazarezov, I.V., Korepanov, A.A., Kulenko, Ya.V., Ribitskaia, T.V., Kuznetsov, G.I., Pachkov, A.A., Tiunov, M.A.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Schlagworte:
Ускорители заряженных частиц
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79734
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex / A.V. Akimov, V.E. Akimov, P.A. Bak, I.V. Kazarezov, A.A. Korepanov, Ya.V. Kulenko, T.V. Ribitskaia, G.I. Kuznetsov, A.A. Pachkov, M.A. Tiunov // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 3. — С. 84-86. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-79734
record_format dspace
spelling Akimov, A.V.
Akimov, V.E.
Bak, P.A.
Kazarezov, I.V.
Korepanov, A.A.
Kulenko, Ya.V.
Ribitskaia, T.V.
Kuznetsov, G.I.
Pachkov, A.A.
Tiunov, M.A.
2015-04-04T12:33:08Z
2015-04-04T12:33:08Z
2006
The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex / A.V. Akimov, V.E. Akimov, P.A. Bak, I.V. Kazarezov, A.A. Korepanov, Ya.V. Kulenko, T.V. Ribitskaia, G.I. Kuznetsov, A.A. Pachkov, M.A. Tiunov // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 3. — С. 84-86. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 27.17.+w
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79734
The modified pulsed electron beam source on voltage 200 kV and current 10 A with half-height pulse duration 2.5 ns and repetition rate 50 Hz is described. The source gun has been performed on the base of impregnated cathode with 20 mm diameter. The cathode pulse voltage is formed by storage capacitance discharge through IGBT switch and pulse transformer. The gun control unit located at the high voltage potential produces cathode heat voltage and control grid voltage. The source test results are presented.
Описан модифицированный источник электронного пучка на напряжение 200 кВ, импульсный ток до 10 А, длительность импульса на полувысоте 2,5 нс при частоте следования 50 Гц. Источник выполнен на базе импрегнированного катода диаметром 20 мм. Импульсное напряжение на катоде пушки формируется путем разряда накопительной емкости через IGBT-ключ и импульсный трансформатор. Блок управления пушкой, расположенный под высоким потенциалом, формирует напряжение накала и сеточное напряжение. Приведены результаты испытаний источника.
Описано модифіковане джерело електронного пучка на напругу 200 кВ, імпульсний струм до 10 А, тривалість імпульсу на напіввисоті 2,5 нс при частоті проходження 50 Гц. Джерело виконане на базі імпрегнуваного катоду діаметром 20 мм. Імпульсна напруга на катоді гармати формується шляхом розряду накопичувальної ємності через ІGBT-ключ і імпульсний трансформатор. Блок керування гарматою, розташований під високим потенціалом, формує напругу накалу і сіткову напругу. Наведено результати випробувань джерела.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Ускорители заряженных частиц
The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex
Модифицированный 200 кэВ импульсный источник электронного пучка для форинжектора комплекса ВЭПП-5
Модифіковане 200 кеВ імпульсне джерело електронного пучка для форінжектора комплексу ВЕПП-5
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex
spellingShingle The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex
Akimov, A.V.
Akimov, V.E.
Bak, P.A.
Kazarezov, I.V.
Korepanov, A.A.
Kulenko, Ya.V.
Ribitskaia, T.V.
Kuznetsov, G.I.
Pachkov, A.A.
Tiunov, M.A.
Ускорители заряженных частиц
title_short The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex
title_full The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex
title_fullStr The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex
title_full_unstemmed The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex
title_sort modified 200 kev pulsed electron beam source for the vepp-5 injection complex
author Akimov, A.V.
Akimov, V.E.
Bak, P.A.
Kazarezov, I.V.
Korepanov, A.A.
Kulenko, Ya.V.
Ribitskaia, T.V.
Kuznetsov, G.I.
Pachkov, A.A.
Tiunov, M.A.
author_facet Akimov, A.V.
Akimov, V.E.
Bak, P.A.
Kazarezov, I.V.
Korepanov, A.A.
Kulenko, Ya.V.
Ribitskaia, T.V.
Kuznetsov, G.I.
Pachkov, A.A.
Tiunov, M.A.
topic Ускорители заряженных частиц
topic_facet Ускорители заряженных частиц
publishDate 2006
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Модифицированный 200 кэВ импульсный источник электронного пучка для форинжектора комплекса ВЭПП-5
Модифіковане 200 кеВ імпульсне джерело електронного пучка для форінжектора комплексу ВЕПП-5
description The modified pulsed electron beam source on voltage 200 kV and current 10 A with half-height pulse duration 2.5 ns and repetition rate 50 Hz is described. The source gun has been performed on the base of impregnated cathode with 20 mm diameter. The cathode pulse voltage is formed by storage capacitance discharge through IGBT switch and pulse transformer. The gun control unit located at the high voltage potential produces cathode heat voltage and control grid voltage. The source test results are presented. Описан модифицированный источник электронного пучка на напряжение 200 кВ, импульсный ток до 10 А, длительность импульса на полувысоте 2,5 нс при частоте следования 50 Гц. Источник выполнен на базе импрегнированного катода диаметром 20 мм. Импульсное напряжение на катоде пушки формируется путем разряда накопительной емкости через IGBT-ключ и импульсный трансформатор. Блок управления пушкой, расположенный под высоким потенциалом, формирует напряжение накала и сеточное напряжение. Приведены результаты испытаний источника. Описано модифіковане джерело електронного пучка на напругу 200 кВ, імпульсний струм до 10 А, тривалість імпульсу на напіввисоті 2,5 нс при частоті проходження 50 Гц. Джерело виконане на базі імпрегнуваного катоду діаметром 20 мм. Імпульсна напруга на катоді гармати формується шляхом розряду накопичувальної ємності через ІGBT-ключ і імпульсний трансформатор. Блок керування гарматою, розташований під високим потенціалом, формує напругу накалу і сіткову напругу. Наведено результати випробувань джерела.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79734
fulltext
citation_txt The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex / A.V. Akimov, V.E. Akimov, P.A. Bak, I.V. Kazarezov, A.A. Korepanov, Ya.V. Kulenko, T.V. Ribitskaia, G.I. Kuznetsov, A.A. Pachkov, M.A. Tiunov // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 3. — С. 84-86. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT akimovav themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT akimovve themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT bakpa themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT kazarezoviv themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT korepanovaa themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT kulenkoyav themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT ribitskaiatv themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT kuznetsovgi themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT pachkovaa themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT tiunovma themodified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT akimovav modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT akimovve modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT bakpa modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT kazarezoviv modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT korepanovaa modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT kulenkoyav modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT ribitskaiatv modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT kuznetsovgi modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT pachkovaa modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT tiunovma modificirovannyi200kévimpulʹsnyiistočnikélektronnogopučkadlâforinžektorakompleksavépp5
AT akimovav modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT akimovve modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT bakpa modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT kazarezoviv modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT korepanovaa modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT kulenkoyav modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT ribitskaiatv modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT kuznetsovgi modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT pachkovaa modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT tiunovma modifíkovane200kevímpulʹsnedžereloelektronnogopučkadlâforínžektorakompleksuvepp5
AT akimovav modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT akimovve modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT bakpa modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT kazarezoviv modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT korepanovaa modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT kulenkoyav modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT ribitskaiatv modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT kuznetsovgi modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT pachkovaa modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
AT tiunovma modified200kevpulsedelectronbeamsourceforthevepp5injectioncomplex
first_indexed 2025-11-24T08:19:11Z
last_indexed 2025-11-24T08:19:11Z
_version_ 1850844303625027584

Ähnliche Einträge