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The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron

The results of calculations of atom flows, sputtered from a cathode of special cylindrical magnetron sputtering system, presented. The atoms flow in cylinder magnetron will be larger with respect to planar magnetron due to the axial symmetry of the system. It is shown that deposition rate weakly dep...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2005
Hauptverfasser:	Panchenko, O.A., Goncharov, A.A., Demchishin, A.V., Kostin, E.G., Pavlov, S.N., Stetsenko, B.V.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
Schlagworte:	Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79777
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron / O.A. Panchenko, A.A. Goncharov, A.V. Demchishin, E.G. Kostin, S.N. Pavlov, B.V. Stetsenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 170-172. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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