Зображення обкладинки

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron

The results of calculations of atom flows, sputtered from a cathode of special cylindrical magnetron sputtering system, presented. The atoms flow in cylinder magnetron will be larger with respect to planar magnetron due to the axial symmetry of the system. It is shown that deposition rate weakly dep...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2005
Автори:	Panchenko, O.A., Goncharov, A.A., Demchishin, A.V., Kostin, E.G., Pavlov, S.N., Stetsenko, B.V.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79777
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron / O.A. Panchenko, A.A. Goncharov, A.V. Demchishin, E.G. Kostin, S.N. Pavlov, B.V. Stetsenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 170-172. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Technological accelerator with closed electron drift for surface treatment
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)

Morphology and sputtering of tungsten nitrides coatings exposed to deuterium plasma
за авторством: Tolstolutskaya, G.D., та інші
Опубліковано: (2023)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

Glow discharge with a hollow cathode in carbon dioxide
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)

Magnetic field influence on the shape of eroding surface of graphite cathodes
за авторством: Aksenov, I.I., та інші
Опубліковано: (2002)

Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)

Investigation of reflecting discharge with the sectioned metal-hydride hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2005)

Peculiarities of self-sustained discharge in closed electron drift accelerator based on permanent magnets
за авторством: Pavlov, S.N., та інші
Опубліковано: (2002)

The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)

Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Complex mathematical model and calculation method for high emission gas discharge hollow cathodes
за авторством: Nesterenko, S.Yu., та інші
Опубліковано: (2005)

Current compensation of hydrogen ion beam extracted from PIG with metal-hydride cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2007)

Method of increasing the longitudnal current of Н⁻ ions from pig with a metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2019)

Influence of metal hydride hollow cathode on Penning ion source operation
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)

Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)

An attempt for increasing the efficiency of penning source of Н ⁻ ions with a metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2020)

Modulation of negatively charged particle flux from penning discharge with metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2023)

Microwave resonator probe diagnoctics of plasma density fluctuations
за авторством: Kostrov, A.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)

Experimental studies of the interaction of ion- and plasma-streams with carbon-based targets placed near a cathode of plasma-focus facility
за авторством: Gribkov, V.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Plasma density measurement of RF ion source
за авторством: Voznyy, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Mechanisms affecting the speed and direction of vacuum arc cathode spots movement in a magnetic field
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2023)

The influence of nitrogen admixture on concentration of an electronic–excited helium atoms in atmospheric pressure glow discharge
за авторством: Arkhipenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)