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Relativistic electron beam pinching in plasma and cumulation of ions

A process of the high-current relativistic electron beam pinching propagating in plasma has been considered. A time of pinching of an electron - ion system has been defined. Maximum compression ratio, the ion density and temperature are found. Розглянуто процес пінчування релятивістського електронно...

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Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2005
Hauptverfasser:	Fainberg, Ya.B., Balakirev, V.A., Karas’, I.V., Karas’, V.I.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
Schlagworte:	Plasma electronics
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79795
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Relativistic electron beam pinching in plasma and cumulation of ions / Ya.B. Fainberg, V.A. Balakirev, I.V. Karas’, V.I. Karas’ // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 128-130. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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