The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge
The dependence of ionization frequency in a stationary radio-frequency microdischarge on plasma density and DC voltage applied to the discharge plasma is found. Calculation is fulfilled for a plane geometry in assumption of uniformity of radio-frequency electric field. Розрахована залежність частоти...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2005 |
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2005
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79798 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge / N.A. Bogatov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 191-193. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-79798 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Bogatov, N.A. 2015-04-04T19:47:23Z 2015-04-04T19:47:23Z 2005 The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge / N.A. Bogatov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 191-193. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.80.P https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79798 The dependence of ionization frequency in a stationary radio-frequency microdischarge on plasma density and DC voltage applied to the discharge plasma is found. Calculation is fulfilled for a plane geometry in assumption of uniformity of radio-frequency electric field. Розрахована залежність частоти іонізації в стаціонарному високочастотному мікророзряді від концентрації плазми і постійної напруги, прикладеної до плазми розряду. Розрахунок виконаний для плоскої геометрії в припущенні однорідності високочастотного поля. Рассчитана зависимость частоты ионизации в стационарном высокочастотном микроразряде от концентрации плазмы и постоянного напряжения, приложенного к плазме разряда. Расчет выполнен для плоской геометрии в предположении однородности высокочастотного поля. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge Вплив постійного електричного поля на високочастотний мікророзряд Ияние постоянного электрического поля на высокочастотный микроразряд Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| spellingShingle |
The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge Bogatov, N.A. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title_short |
The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| title_full |
The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| title_fullStr |
The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| title_full_unstemmed |
The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| title_sort |
influence of a dc electric field on the radio-frequency microdischarge |
| author |
Bogatov, N.A. |
| author_facet |
Bogatov, N.A. |
| topic |
Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet |
Low temperature plasma and plasma technologies |
| publishDate |
2005 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Вплив постійного електричного поля на високочастотний мікророзряд Ияние постоянного электрического поля на высокочастотный микроразряд |
| description |
The dependence of ionization frequency in a stationary radio-frequency microdischarge on plasma density and DC voltage applied to the discharge plasma is found. Calculation is fulfilled for a plane geometry in assumption of uniformity of radio-frequency electric field.
Розрахована залежність частоти іонізації в стаціонарному високочастотному мікророзряді від концентрації плазми і постійної напруги, прикладеної до плазми розряду. Розрахунок виконаний для плоскої геометрії в припущенні однорідності високочастотного поля.
Рассчитана зависимость частоты ионизации в стационарном высокочастотном микроразряде от концентрации плазмы и постоянного напряжения, приложенного к плазме разряда. Расчет выполнен для плоской геометрии в предположении однородности высокочастотного поля.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79798 |
| citation_txt |
The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge / N.A. Bogatov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 191-193. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT bogatovna theinfluenceofadcelectricfieldontheradiofrequencymicrodischarge AT bogatovna vplivpostíinogoelektričnogopolânavisokočastotniimíkrorozrâd AT bogatovna iâniepostoânnogoélektričeskogopolânavysokočastotnyimikrorazrâd AT bogatovna influenceofadcelectricfieldontheradiofrequencymicrodischarge |
| first_indexed |
2025-12-07T16:16:18Z |
| last_indexed |
2025-12-07T16:16:18Z |
| _version_ |
1850866850240397313 |