The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge
The dependence of ionization frequency in a stationary radio-frequency microdischarge on plasma density and DC voltage applied to the discharge plasma is found. Calculation is fulfilled for a plane geometry in assumption of uniformity of radio-frequency electric field. Розрахована залежність частоти...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2005 |
| Main Author: | |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2005
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79798 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge / N.A. Bogatov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 191-193. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862691623318585344 |
|---|---|
| author | Bogatov, N.A. |
| author_facet | Bogatov, N.A. |
| citation_txt | The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge / N.A. Bogatov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 191-193. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The dependence of ionization frequency in a stationary radio-frequency microdischarge on plasma density and DC voltage applied to the discharge plasma is found. Calculation is fulfilled for a plane geometry in assumption of uniformity of radio-frequency electric field.
Розрахована залежність частоти іонізації в стаціонарному високочастотному мікророзряді від концентрації плазми і постійної напруги, прикладеної до плазми розряду. Розрахунок виконаний для плоскої геометрії в припущенні однорідності високочастотного поля.
Рассчитана зависимость частоты ионизации в стационарном высокочастотном микроразряде от концентрации плазмы и постоянного напряжения, приложенного к плазме разряда. Расчет выполнен для плоской геометрии в предположении однородности высокочастотного поля.
|
| first_indexed | 2025-12-07T16:16:18Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-79798 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T16:16:18Z |
| publishDate | 2005 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Bogatov, N.A. 2015-04-04T19:47:23Z 2015-04-04T19:47:23Z 2005 The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge / N.A. Bogatov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 191-193. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.80.P https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79798 The dependence of ionization frequency in a stationary radio-frequency microdischarge on plasma density and DC voltage applied to the discharge plasma is found. Calculation is fulfilled for a plane geometry in assumption of uniformity of radio-frequency electric field. Розрахована залежність частоти іонізації в стаціонарному високочастотному мікророзряді від концентрації плазми і постійної напруги, прикладеної до плазми розряду. Розрахунок виконаний для плоскої геометрії в припущенні однорідності високочастотного поля. Рассчитана зависимость частоты ионизации в стационарном высокочастотном микроразряде от концентрации плазмы и постоянного напряжения, приложенного к плазме разряда. Расчет выполнен для плоской геометрии в предположении однородности высокочастотного поля. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge Вплив постійного електричного поля на високочастотний мікророзряд Ияние постоянного электрического поля на высокочастотный микроразряд Article published earlier |
| spellingShingle | The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge Bogatov, N.A. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| title_alt | Вплив постійного електричного поля на високочастотний мікророзряд Ияние постоянного электрического поля на высокочастотный микроразряд |
| title_full | The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| title_fullStr | The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| title_full_unstemmed | The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| title_short | The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge |
| title_sort | influence of a dc electric field on the radio-frequency microdischarge |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79798 |
| work_keys_str_mv | AT bogatovna theinfluenceofadcelectricfieldontheradiofrequencymicrodischarge AT bogatovna vplivpostíinogoelektričnogopolânavisokočastotniimíkrorozrâd AT bogatovna iâniepostoânnogoélektričeskogopolânavysokočastotnyimikrorazrâd AT bogatovna influenceofadcelectricfieldontheradiofrequencymicrodischarge |