Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems

The high-current pulsed magnetron sputtering system is presented and its operation regimes are studied. The comparative technological trials of the system are carried out at various types of the discharge: stationary magnetron, pulsed magnetron and pulsed arc. A procedure of calculation of dynamics...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2005
Hauptverfasser: Bizyukov, A.A., Kashaba, A.Ye., Romashchenko, E.V., Sereda, K.N., Tarasov, I.K., Abolmasov, S.N.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79809
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems / A.A. Bizyukov, A.Ye. Kashaba, E.V. Romashchenko, K.N. Sereda, I.K. Tarasov, S.N. Abolmasov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 167-169. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:The high-current pulsed magnetron sputtering system is presented and its operation regimes are studied. The comparative technological trials of the system are carried out at various types of the discharge: stationary magnetron, pulsed magnetron and pulsed arc. A procedure of calculation of dynamics and distribution of temperature in a near surface layer of the target material at heat application to a surface in conditions of low pressures of working gases is described. Описана сильнострумова імпульсна магнетронна розпилювальна система та вивчені режими її роботи. Проведені порівняльні технологічні випробування системи при різних типах розряду: стаціонарному магнетронному, імпульсному магнетронному та імпульсному дуговому. Приведена методика розрахунку динаміки і розподілу температури в приповерхневому шарі матеріалу мішені при підводі тепла до поверхні в умовах низьких тисків робочих газів. Представлена сильноточная импульсная магнетронная распылительная система и изучены режимы ее работы. Проведены сравнительные технологические испытания системы при различных типах разряда: стационарном магнетронном, импульсном магнетронном и импульсном дуговом. Приведена методика вычисления динамики и распределения температуры в приповерхностном слое материала мишени при подводе тепла к поверхности в условиях низких давлений рабочих газов.
ISSN:1562-6016