Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
The high-current pulsed magnetron sputtering system is presented and its operation regimes are studied. The comparative technological trials of the system are carried out at various types of the discharge: stationary magnetron, pulsed magnetron and pulsed arc. A procedure of calculation of dynamics...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2005 |
| Автори: | Bizyukov, A.A., Kashaba, A.Ye., Romashchenko, E.V., Sereda, K.N., Tarasov, I.K., Abolmasov, S.N. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2005
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79809 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems / A.A. Bizyukov, A.Ye. Kashaba, E.V. Romashchenko, K.N. Sereda, I.K. Tarasov, S.N. Abolmasov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 167-169. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003) -
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021) -
Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022) -
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005) -
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)