Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
The high-current pulsed magnetron sputtering system is presented and its operation regimes are studied. The comparative technological trials of the system are carried out at various types of the discharge: stationary magnetron, pulsed magnetron and pulsed arc. A procedure of calculation of dynamics...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2005 |
| Автори: | , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2005
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79809 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems / A.A. Bizyukov, A.Ye. Kashaba, E.V. Romashchenko, K.N. Sereda, I.K. Tarasov, S.N. Abolmasov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 167-169. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)
Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
Peculiarities of electromagnetic filter operation in penning source with metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2020)
Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Accumulation and confinement of electrons in a penning trap with a central electrode
за авторством: Man’kovsky, S.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Man’kovsky, S.N., та інші
Опубліковано: (2006)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Forming a unipolar pulsed discharge in nitrogen
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2016)
Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
Parametric instability influence on isotope separation by ion-cyclotron resonance method
за авторством: Olshansky, V.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Olshansky, V.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
Stady of the characteristics of barrier flat ozonizer with the use of pulse supply
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Burning modes of a bipolar pulsed discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Peculiarities of properties of the pulse plasma jet
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)