Buchumschlag

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems

The high-current pulsed magnetron sputtering system is presented and its operation regimes are studied. The comparative technological trials of the system are carried out at various types of the discharge: stationary magnetron, pulsed magnetron and pulsed arc. A procedure of calculation of dynamics...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2005
ISSN:	1562-6016
Hauptverfasser:	Bizyukov, A.A., Kashaba, A.Ye., Romashchenko, E.V., Sereda, K.N., Tarasov, I.K., Abolmasov, S.N.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
Schlagworte:	Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79809
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems / A.A. Bizyukov, A.Ye. Kashaba, E.V. Romashchenko, K.N. Sereda, I.K. Tarasov, S.N. Abolmasov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 167-169. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Ähnliche Einträge

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2003)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2021)

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2022)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
von: Panchenko, O.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
von: Yakovin, S., et al.
Veröffentlicht: (2016)

Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
von: Zykov, A., et al.
Veröffentlicht: (2020)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2020)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
von: Safonov, V., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Improvement of penning ion sources
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2000)

TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2000)

Large-area surface wave plasma source
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2002)

Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2008)

Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2008)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
von: Dobrovol's'kii, A.M., et al.
Veröffentlicht: (2007)

The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
von: Demchishin, A.V., et al.
Veröffentlicht: (2008)

Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
von: Romashchenko, E.V., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
von: Romashchenko, E.V., et al.
Veröffentlicht: (2020)

Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2016)

Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2021)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
von: Dudin, S., et al.
Veröffentlicht: (2021)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
von: Walkowicz, J., et al.
Veröffentlicht: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
von: Walkowicz, J., et al.
Veröffentlicht: (2007)

Peculiarities of electromagnetic filter operation in penning source with metal hydride cathode
von: Sereda, I., et al.
Veröffentlicht: (2020)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
von: Langner, J., et al.
Veröffentlicht: (2000)

Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
von: Kuzmichev, A.I., et al.
Veröffentlicht: (2020)

Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
von: Bizukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2003)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
von: Bordenjuk, I.V., et al.
Veröffentlicht: (2008)

Accumulation and confinement of electrons in a penning trap with a central electrode
von: Man’kovsky, S.N., et al.
Veröffentlicht: (2006)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
von: Borisko, V.N., et al.
Veröffentlicht: (2006)

Forming a unipolar pulsed discharge in nitrogen
von: Lisovskiy, V.A., et al.
Veröffentlicht: (2016)

Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
von: Tarasov, I.K., et al.
Veröffentlicht: (2023)

Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
von: Zykova, A.V., et al.
Veröffentlicht: (2003)

Parametric instability influence on isotope separation by ion-cyclotron resonance method
von: Olshansky, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2006)

Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
von: Koshevoy, K.I., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
von: Byrka, O.V., et al.
Veröffentlicht: (2002)

Stady of the characteristics of barrier flat ozonizer with the use of pulse supply
von: Krasnyj, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Burning modes of a bipolar pulsed discharge in CO₂
von: Lisovskiy, V.A., et al.
Veröffentlicht: (2020)

Peculiarities of properties of the pulse plasma jet
von: Podzirey, Yu.S., et al.
Veröffentlicht: (2016)