Синтез діелектричних сполук на базі магнетрону постійного струму

• Datum: 2009
• Hauptverfasser: Зиков, О.В., Яковін, С.Д., Дудін, С.В.
• Format: Artikel
• Sprache: Ukrainian
• Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2009
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7982
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Синтез діелектричних сполук на базі магнетрону постійного струму / О.В. Зиков, С.Д. Яковін, С.В. Дудін // Физическая инженерия поверхности. — 2009. — Т. 7, № 3. — С. 195-203. — Бібліогр.: 12 назв. — укр.

В роботі представлено результати розробки та дослідження технологічного модуля для реактивного синтезу складнокомпозіційних сполук типу оксидів та оксинітридів на базі магнетронного та ВЧ індукційного розрядів. Основна ідея технології полягає в сепарації двох процесів: розпилення металевої мішені за допомогою магнетрона постійного струму в інертному газі та активації реактивного газу за допомогою додаткового джерела плазми на базі ВЧ індукційного розряду з подальшим транспортуванням частинок активованого газу безпосередньо до області синтезу. В работе представлены результаты разработки и исследования технологического модуля для реактивного синтеза сложнокомпозиционных соединений типа оксидов и оксинитридов на базе магнетронного и ВЧ индукционного разрядов. Основная идея технологии заключается в сепарации двух процессов: распыления металлической мишени с помощью магнетрона постоянного тока в инертном газе и активации реактивного газа с помощью дополнительного источника плазмы на основе ВЧ индукционного разряда с дальнейшей транспортировкой частиц активированного газа непосредственно к области синтеза. The results of development and research of a technological module for reactive synthesis of complex composite coatings like oxides and nitrides based on DC magnetron and RF inductive discharges are presented in the paper. The basic idea of technology consists in separation of two processes: metal target sputtering using DC magnetron in rare gas and activation of reactive gas by means of additional plasma source based on RF inductive discharge with further transportation of particles of the activated gas immediately to the surface of synthesis.