Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур
В обзоре обобщаются результаты экспериментальных исследований ВЧ индукционного разряда, полученные в течение последних лет, представлены математические модели разряда, позволяющие повысить эффективность разработки нового плазменного технологического оборудования. Особое внимание уделяетя однородност...
Saved in:
| Date: | 2009 |
|---|---|
| Main Author: | Дудин, С.В. |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2009
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7983 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2009. — Т. 7, № 3. — С. 171-194. — Бібліогр.: 44 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineSimilar Items
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
by: Boltovets, M. S., et al.
Published: (2009)
by: Boltovets, M. S., et al.
Published: (2009)
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
by: Болтовец, Н.С., et al.
Published: (2009)
by: Болтовец, Н.С., et al.
Published: (2009)
Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
by: Голишников, А.А., et al.
Published: (2014)
by: Голишников, А.А., et al.
Published: (2014)
Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
by: Береснев, В.М., et al.
Published: (2006)
by: Береснев, В.М., et al.
Published: (2006)
Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
by: Golishnikov, А. А., et al.
Published: (2014)
by: Golishnikov, А. А., et al.
Published: (2014)
Установка протонно-лучевой литографии на базе электростатического ускорителя для фабрикации 3D микро- и наноструктур
by: Пономарев, А.Г., et al.
Published: (2019)
by: Пономарев, А.Г., et al.
Published: (2019)
Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур
by: Фареник, В.И.
Published: (2004)
by: Фареник, В.И.
Published: (2004)
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
by: Вакив, Н.М., et al.
Published: (1998)
by: Вакив, Н.М., et al.
Published: (1998)
Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления
by: Лисовский, В.А.
Published: (2006)
by: Лисовский, В.А.
Published: (2006)
Разработка технологических принципов выплавки гомогенных слитков алюминида титана с применением плазменно-дугового и индукционного источников нагрева
by: Григоренко, Г.М., et al.
Published: (2001)
by: Григоренко, Г.М., et al.
Published: (2001)
Разработка ВЧ-систем для электронных накопителей
by: Андросов, В.П., et al.
Published: (1999)
by: Андросов, В.П., et al.
Published: (1999)
Метастабильные состояния в сплавах Co−C, полученных методом ионно-плазменного напыления
by: Рябцев, С.И., et al.
Published: (2008)
by: Рябцев, С.И., et al.
Published: (2008)
Высокочастотный реактор с асимметричными электродами для плазмохимического травления полупроводников
by: Дудин, С.В., et al.
Published: (2011)
by: Дудин, С.В., et al.
Published: (2011)
Методика моделирования технологических источников электронов высоковольтного тлеющего разряда
by: Мельник, И.В., et al.
Published: (2010)
by: Мельник, И.В., et al.
Published: (2010)
Численная характеризация порового пространства наноструктур на базе метода Вороного–Делоне
by: Картузов, В.В., et al.
Published: (2010)
by: Картузов, В.В., et al.
Published: (2010)
Влияние ионно-плазменного воздействия на элементный состав и структурно-фазовое состояние системы Cu-Ti
by: Погребняк, А.Д., et al.
Published: (2018)
by: Погребняк, А.Д., et al.
Published: (2018)
Определение величины ВЧ напряжения на потенциальном электроде в сложных технологических газоразрядных установках
by: Лисовский, В., et al.
Published: (2005)
by: Лисовский, В., et al.
Published: (2005)
Активное сопротивление факельного разряда и частотная зависимость наименьшего для его поддержания напряжения ВЧ-генератора
by: Пузанов, А.О., et al.
Published: (2014)
by: Пузанов, А.О., et al.
Published: (2014)
Особенности фазообразования и физические свойства пленок Al−Nb и Al−Ta, полученных методом ионно-плазменного напыления
by: Белецкая, О.Е., et al.
Published: (2007)
by: Белецкая, О.Е., et al.
Published: (2007)
Стационарные режимы магнетронного разряда низкого давления
by: Зыков, А.В., et al.
Published: (2015)
by: Зыков, А.В., et al.
Published: (2015)
Закономерности формирования пучка ионов низкой энергии при помощи односеточной ионно-оптической системы
by: Дудин, С.В., et al.
Published: (2009)
by: Дудин, С.В., et al.
Published: (2009)
Разработка технологических комплексов для криосублимационного фракционирования биологических тканей
by: Жучков, А.В., et al.
Published: (2005)
by: Жучков, А.В., et al.
Published: (2005)
Экспериментальная оценка электрического сопротивления и электропроводности сильноточного плазменного канала в цепи разряда мощного генератора тока искусственной молнии
by: Баранов, М.И., et al.
Published: (2011)
by: Баранов, М.И., et al.
Published: (2011)
Получение периодических слоев GaAs методом электрохимического травления
by: Дяденчук, А.Ф., et al.
Published: (2014)
by: Дяденчук, А.Ф., et al.
Published: (2014)
Разработка плазменных технологических устройств для комбинированной технологии упрочнения деталей
by: Гришкевич, А.Д., et al.
Published: (2017)
by: Гришкевич, А.Д., et al.
Published: (2017)
Электронно-лучевая выплавка трубчатых заготовок из сплавов NiCrAlY, используемых в качестве катодов для ионно-плазменного нанесения покрытий
by: Гречанюк, Н.И., et al.
Published: (2019)
by: Гречанюк, Н.И., et al.
Published: (2019)
Анализ некоторых физико- технических характеристик ионно-плазменного покрытия (TiZr)N на лопатках ротора компрессора газотурбинного двигателя ТВ3-117
by: Корсунов, К.А., et al.
Published: (2014)
by: Корсунов, К.А., et al.
Published: (2014)
Физико-технические аспекты создания устройств магнитоплазменного разделения вещества на элементы и их изотопы на основе пучково-плазменного разряда
by: Скибенко, Е.И.
Published: (2009)
by: Скибенко, Е.И.
Published: (2009)
Разработка медицинских информационных систем на базе системы управления контентом Drupal
by: Григорьев, П.Е., et al.
Published: (2013)
by: Григорьев, П.Е., et al.
Published: (2013)
Разработка и исследование макета низкочастотного источника питания сильноточного импульсного магнетронного разряда
by: Гришкевич, А.Д., et al.
Published: (2019)
by: Гришкевич, А.Д., et al.
Published: (2019)
Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
by: Hladkovskiy, V. V., et al.
Published: (2014)
by: Hladkovskiy, V. V., et al.
Published: (2014)
Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
by: Гладковский, В.В., et al.
Published: (2014)
by: Гладковский, В.В., et al.
Published: (2014)
Разработка технологических показателей процесса спекания комплексного флюса из комбинированных гранул
by: Бочка, В.В., et al.
Published: (2017)
by: Бочка, В.В., et al.
Published: (2017)
Разработка технологических решений по подготовке отходов горного производства к утилизации
by: Шевченко, Г.А., et al.
Published: (2004)
by: Шевченко, Г.А., et al.
Published: (2004)
О методе импульсного индукционного каротажа
by: Миронцов, Н.Л.
Published: (2010)
by: Миронцов, Н.Л.
Published: (2010)
Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов
by: Сагалович, А.В., et al.
Published: (2014)
by: Сагалович, А.В., et al.
Published: (2014)
Экспериментальная оценка основных электрических характеристик сильноточного плазменного канала подводного искрового разряда в цепи высоковольтного генератора импульсной компоненты тока искусственной молнии
by: Баранов, М.И.
Published: (2011)
by: Баранов, М.И.
Published: (2011)
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
by: Федорович, О.А., et al.
Published: (2009)
by: Федорович, О.А., et al.
Published: (2009)
Разработка технологических основ формообразования больших монокристаллов вольфрама в виде тел вращения
Published: (2017)
Published: (2017)
Разработка специальных технологических схем для повторной эксплуатации крутопадающих месторождений открытым способом
by: Ботанцев, И.В.
Published: (2009)
by: Ботанцев, И.В.
Published: (2009)
Similar Items
-
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
by: Boltovets, M. S., et al.
Published: (2009) -
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
by: Болтовец, Н.С., et al.
Published: (2009) -
Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
by: Голишников, А.А., et al.
Published: (2014) -
Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
by: Береснев, В.М., et al.
Published: (2006) -
Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
by: Golishnikov, А. А., et al.
Published: (2014)