Зображення обкладинки

Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур

В обзоре обобщаются результаты экспериментальных исследований ВЧ индукционного разряда, полученные в течение последних лет, представлены математические модели разряда, позволяющие повысить эффективность разработки нового плазменного технологического оборудования. Особое внимание уделяетя однородност...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2009
Автор:	Дудин, С.В.
Формат:	Стаття
Мова:	Російська
Опубліковано:	Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2009
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7983
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2009. — Т. 7, № 3. — С. 171-194. — Бібліогр.: 44 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
за авторством: Boltovets, M. S., та інші
Опубліковано: (2009)

Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
за авторством: Болтовец, Н.С., та інші
Опубліковано: (2009)

Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
за авторством: Голишников, А.А., та інші
Опубліковано: (2014)

Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
за авторством: Береснев, В.М., та інші
Опубліковано: (2006)

Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
за авторством: Golishnikov, А. А., та інші
Опубліковано: (2014)

Установка протонно-лучевой литографии на базе электростатического ускорителя для фабрикации 3D микро- и наноструктур
за авторством: Пономарев, А.Г., та інші
Опубліковано: (2019)

Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур
за авторством: Фареник, В.И.
Опубліковано: (2004)

Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
за авторством: Вакив, Н.М., та інші
Опубліковано: (1998)

Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления
за авторством: Лисовский, В.А.
Опубліковано: (2006)

Разработка технологических принципов выплавки гомогенных слитков алюминида титана с применением плазменно-дугового и индукционного источников нагрева
за авторством: Григоренко, Г.М., та інші
Опубліковано: (2001)

Разработка ВЧ-систем для электронных накопителей
за авторством: Андросов, В.П., та інші
Опубліковано: (1999)

Метастабильные состояния в сплавах Co−C, полученных методом ионно-плазменного напыления
за авторством: Рябцев, С.И., та інші
Опубліковано: (2008)

Высокочастотный реактор с асимметричными электродами для плазмохимического травления полупроводников
за авторством: Дудин, С.В., та інші
Опубліковано: (2011)

Методика моделирования технологических источников электронов высоковольтного тлеющего разряда
за авторством: Мельник, И.В., та інші
Опубліковано: (2010)

Численная характеризация порового пространства наноструктур на базе метода Вороного–Делоне
за авторством: Картузов, В.В., та інші
Опубліковано: (2010)

Влияние ионно-плазменного воздействия на элементный состав и структурно-фазовое состояние системы Cu-Ti
за авторством: Погребняк, А.Д., та інші
Опубліковано: (2018)

Определение величины ВЧ напряжения на потенциальном электроде в сложных технологических газоразрядных установках
за авторством: Лисовский, В., та інші
Опубліковано: (2005)

Активное сопротивление факельного разряда и частотная зависимость наименьшего для его поддержания напряжения ВЧ-генератора
за авторством: Пузанов, А.О., та інші
Опубліковано: (2014)

Особенности фазообразования и физические свойства пленок Al−Nb и Al−Ta, полученных методом ионно-плазменного напыления
за авторством: Белецкая, О.Е., та інші
Опубліковано: (2007)

Стационарные режимы магнетронного разряда низкого давления
за авторством: Зыков, А.В., та інші
Опубліковано: (2015)

Закономерности формирования пучка ионов низкой энергии при помощи односеточной ионно-оптической системы
за авторством: Дудин, С.В., та інші
Опубліковано: (2009)

Разработка технологических комплексов для криосублимационного фракционирования биологических тканей
за авторством: Жучков, А.В., та інші
Опубліковано: (2005)

Экспериментальная оценка электрического сопротивления и электропроводности сильноточного плазменного канала в цепи разряда мощного генератора тока искусственной молнии
за авторством: Баранов, М.И., та інші
Опубліковано: (2011)

Получение периодических слоев GaAs методом электрохимического травления
за авторством: Дяденчук, А.Ф., та інші
Опубліковано: (2014)

Разработка плазменных технологических устройств для комбинированной технологии упрочнения деталей
за авторством: Гришкевич, А.Д., та інші
Опубліковано: (2017)

Электронно-лучевая выплавка трубчатых заготовок из сплавов NiCrAlY, используемых в качестве катодов для ионно-плазменного нанесения покрытий
за авторством: Гречанюк, Н.И., та інші
Опубліковано: (2019)

Анализ некоторых физико- технических характеристик ионно-плазменного покрытия (TiZr)N на лопатках ротора компрессора газотурбинного двигателя ТВ3-117
за авторством: Корсунов, К.А., та інші
Опубліковано: (2014)

Физико-технические аспекты создания устройств магнитоплазменного разделения вещества на элементы и их изотопы на основе пучково-плазменного разряда
за авторством: Скибенко, Е.И.
Опубліковано: (2009)

Разработка медицинских информационных систем на базе системы управления контентом Drupal
за авторством: Григорьев, П.Е., та інші
Опубліковано: (2013)

Разработка и исследование макета низкочастотного источника питания сильноточного импульсного магнетронного разряда
за авторством: Гришкевич, А.Д., та інші
Опубліковано: (2019)

Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
за авторством: Hladkovskiy, V. V., та інші
Опубліковано: (2014)

Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
за авторством: Гладковский, В.В., та інші
Опубліковано: (2014)

Разработка технологических показателей процесса спекания комплексного флюса из комбинированных гранул
за авторством: Бочка, В.В., та інші
Опубліковано: (2017)

Разработка технологических решений по подготовке отходов горного производства к утилизации
за авторством: Шевченко, Г.А., та інші
Опубліковано: (2004)

О методе импульсного индукционного каротажа
за авторством: Миронцов, Н.Л.
Опубліковано: (2010)

Сравнительный анализ различных источников плазмы для целей реактивного нанесения покрытий и диффузионного насыщения металлов
за авторством: Сагалович, А.В., та інші
Опубліковано: (2014)

Экспериментальная оценка основных электрических характеристик сильноточного плазменного канала подводного искрового разряда в цепи высоковольтного генератора импульсной компоненты тока искусственной молнии
за авторством: Баранов, М.И.
Опубліковано: (2011)

Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
за авторством: Федорович, О.А., та інші
Опубліковано: (2009)

Разработка технологических основ формообразования больших монокристаллов вольфрама в виде тел вращения
Опубліковано: (2017)

Разработка специальных технологических схем для повторной эксплуатации крутопадающих месторождений открытым способом
за авторством: Ботанцев, И.В.
Опубліковано: (2009)