Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур
В обзоре обобщаются результаты экспериментальных исследований ВЧ индукционного разряда, полученные в течение последних лет, представлены математические модели разряда, позволяющие повысить эффективность разработки нового плазменного технологического оборудования. Особое внимание уделяетя однородност...
Gespeichert in:
| Datum: | 2009 |
|---|---|
| 1. Verfasser: | Дудин, С.В. |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2009
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/7983 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2009. — Т. 7, № 3. — С. 171-194. — Бібліогр.: 44 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineÄhnliche Einträge
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда
von: Дудин, С.В.
Veröffentlicht: (2006)
von: Дудин, С.В.
Veröffentlicht: (2006)
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
von: Boltovets, M. S., et al.
Veröffentlicht: (2009)
von: Boltovets, M. S., et al.
Veröffentlicht: (2009)
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
von: Болтовец, Н.С., et al.
Veröffentlicht: (2009)
von: Болтовец, Н.С., et al.
Veröffentlicht: (2009)
Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
von: Голишников, А.А., et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: Голишников, А.А., et al.
Veröffentlicht: (2014)
Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
von: Береснев, В.М., et al.
Veröffentlicht: (2006)
von: Береснев, В.М., et al.
Veröffentlicht: (2006)
Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
von: Golishnikov, А. А., et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: Golishnikov, А. А., et al.
Veröffentlicht: (2014)
Конструктивные и технологические особенности концептуального проекта ионно-атомного сепарирующего устройства на основе пучково-плазменного разряда
von: Скибенко, Е.И., et al.
Veröffentlicht: (2009)
von: Скибенко, Е.И., et al.
Veröffentlicht: (2009)
Получение эрозионно- и жаростойких многослойных покрытий для лопаток ГТД способом микро-электродугового ионно-плазменного вакуумного распыления материалов
von: Дабижа, Е.В., et al.
Veröffentlicht: (2013)
von: Дабижа, Е.В., et al.
Veröffentlicht: (2013)
Установка протонно-лучевой литографии на базе электростатического ускорителя для фабрикации 3D микро- и наноструктур
von: Пономарев, А.Г., et al.
Veröffentlicht: (2019)
von: Пономарев, А.Г., et al.
Veröffentlicht: (2019)
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
von: Вакив, Н.М., et al.
Veröffentlicht: (1998)
von: Вакив, Н.М., et al.
Veröffentlicht: (1998)
Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур
von: Фареник, В.И.
Veröffentlicht: (2004)
von: Фареник, В.И.
Veröffentlicht: (2004)
Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления
von: Лисовский, В.А.
Veröffentlicht: (2006)
von: Лисовский, В.А.
Veröffentlicht: (2006)
Использование ВЧ разряда в методе вакуумно-дугового осаждения покрытий
von: Гриценко, В.И., et al.
Veröffentlicht: (2003)
von: Гриценко, В.И., et al.
Veröffentlicht: (2003)
Разработка ВЧ-систем для электронных накопителей
von: Андросов, В.П., et al.
Veröffentlicht: (1999)
von: Андросов, В.П., et al.
Veröffentlicht: (1999)
Разработка технологических принципов выплавки гомогенных слитков алюминида титана с применением плазменно-дугового и индукционного источников нагрева
von: Григоренко, Г.М., et al.
Veröffentlicht: (2001)
von: Григоренко, Г.М., et al.
Veröffentlicht: (2001)
Метастабильные состояния в сплавах Co−C, полученных методом ионно-плазменного напыления
von: Рябцев, С.И., et al.
Veröffentlicht: (2008)
von: Рябцев, С.И., et al.
Veröffentlicht: (2008)
Высокочастотный реактор с асимметричными электродами для плазмохимического травления полупроводников
von: Дудин, С.В., et al.
Veröffentlicht: (2011)
von: Дудин, С.В., et al.
Veröffentlicht: (2011)
Методика моделирования технологических источников электронов высоковольтного тлеющего разряда
von: Мельник, И.В., et al.
Veröffentlicht: (2010)
von: Мельник, И.В., et al.
Veröffentlicht: (2010)
Влияние ионно-плазменного воздействия на элементный состав и структурно-фазовое состояние системы Cu-Ti
von: Погребняк, А.Д., et al.
Veröffentlicht: (2018)
von: Погребняк, А.Д., et al.
Veröffentlicht: (2018)
Численная характеризация порового пространства наноструктур на базе метода Вороного–Делоне
von: Картузов, В.В., et al.
Veröffentlicht: (2010)
von: Картузов, В.В., et al.
Veröffentlicht: (2010)
Исследование физических особенностей и технологических возможностей непрерывного оптического разряда
von: Шелягин, В.Д., et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: Шелягин, В.Д., et al.
Veröffentlicht: (2017)
Разработка золь-гель метода получения многокомпонентных ферримагнитных наноструктур
von: Семченко, А.В., et al.
Veröffentlicht: (2007)
von: Семченко, А.В., et al.
Veröffentlicht: (2007)
Определение величины ВЧ напряжения на потенциальном электроде в сложных технологических газоразрядных установках
von: Лисовский, В., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Лисовский, В., et al.
Veröffentlicht: (2005)
Активное сопротивление факельного разряда и частотная зависимость наименьшего для его поддержания напряжения ВЧ-генератора
von: Пузанов, А.О., et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: Пузанов, А.О., et al.
Veröffentlicht: (2014)
Особенности фазообразования и физические свойства пленок Al−Nb и Al−Ta, полученных методом ионно-плазменного напыления
von: Белецкая, О.Е., et al.
Veröffentlicht: (2007)
von: Белецкая, О.Е., et al.
Veröffentlicht: (2007)
Стационарные режимы магнетронного разряда низкого давления
von: Зыков, А.В., et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: Зыков, А.В., et al.
Veröffentlicht: (2015)
Закономерности формирования пучка ионов низкой энергии при помощи односеточной ионно-оптической системы
von: Дудин, С.В., et al.
Veröffentlicht: (2009)
von: Дудин, С.В., et al.
Veröffentlicht: (2009)
Экспериментальная оценка электрического сопротивления и электропроводности сильноточного плазменного канала в цепи разряда мощного генератора тока искусственной молнии
von: Баранов, М.И., et al.
Veröffentlicht: (2011)
von: Баранов, М.И., et al.
Veröffentlicht: (2011)
Разработка технологических комплексов для криосублимационного фракционирования биологических тканей
von: Жучков, А.В., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Жучков, А.В., et al.
Veröffentlicht: (2005)
Разработка системы учебного тестирования на базе Google Docs API
von: Глибовец, Н.Н., et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: Глибовец, Н.Н., et al.
Veröffentlicht: (2012)
Получение периодических слоев GaAs методом электрохимического травления
von: Дяденчук, А.Ф., et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: Дяденчук, А.Ф., et al.
Veröffentlicht: (2014)
Анализ некоторых физико- технических характеристик ионно-плазменного покрытия (TiZr)N на лопатках ротора компрессора газотурбинного двигателя ТВ3-117
von: Корсунов, К.А., et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: Корсунов, К.А., et al.
Veröffentlicht: (2014)
Электронно-лучевая выплавка трубчатых заготовок из сплавов NiCrAlY, используемых в качестве катодов для ионно-плазменного нанесения покрытий
von: Гречанюк, Н.И., et al.
Veröffentlicht: (2019)
von: Гречанюк, Н.И., et al.
Veröffentlicht: (2019)
Физико-технические аспекты создания устройств магнитоплазменного разделения вещества на элементы и их изотопы на основе пучково-плазменного разряда
von: Скибенко, Е.И.
Veröffentlicht: (2009)
von: Скибенко, Е.И.
Veröffentlicht: (2009)
Разработка и исследование макета низкочастотного источника питания сильноточного импульсного магнетронного разряда
von: Гришкевич, А.Д., et al.
Veröffentlicht: (2019)
von: Гришкевич, А.Д., et al.
Veröffentlicht: (2019)
Разработка плазменных технологических устройств для комбинированной технологии упрочнения деталей
von: Гришкевич, А.Д., et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: Гришкевич, А.Д., et al.
Veröffentlicht: (2017)
Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
von: Hladkovskiy, V. V., et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: Hladkovskiy, V. V., et al.
Veröffentlicht: (2014)
Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
von: Гладковский, В.В., et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: Гладковский, В.В., et al.
Veröffentlicht: (2014)
Разработка медицинских информационных систем на базе системы управления контентом Drupal
von: Григорьев, П.Е., et al.
Veröffentlicht: (2013)
von: Григорьев, П.Е., et al.
Veröffentlicht: (2013)
О методе импульсного индукционного каротажа
von: Миронцов, Н.Л.
Veröffentlicht: (2010)
von: Миронцов, Н.Л.
Veröffentlicht: (2010)
Ähnliche Einträge
-
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда
von: Дудин, С.В.
Veröffentlicht: (2006) -
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
von: Boltovets, M. S., et al.
Veröffentlicht: (2009) -
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
von: Болтовец, Н.С., et al.
Veröffentlicht: (2009) -
Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов
von: Голишников, А.А., et al.
Veröffentlicht: (2014) -
Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
von: Береснев, В.М., et al.
Veröffentlicht: (2006)