Deryzemlia, A., Kryshtal, P., Malykhin, D., Radchenko, V., & Shirokov, B. (2014). Deposition of nanocrystalline silicon films into low frequency induction RF discharge. Вопросы атомной науки и техники.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Deryzemlia, A.M, P.G Kryshtal, D.G Malykhin, V.I Radchenko, та B.M Shirokov. "Deposition of Nanocrystalline Silicon Films into Low Frequency Induction RF Discharge." Вопросы атомной науки и техники 2014.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Deryzemlia, A.M, et al. "Deposition of Nanocrystalline Silicon Films into Low Frequency Induction RF Discharge." Вопросы атомной науки и техники, 2014.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.