Зображення обкладинки

Deposition of nanocrystalline silicon films into low frequency induction RF discharge

Results of experiments on obtaining nanocrystalline silicon films with the method of stimulated plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) into low frequency induction RF discharge (880 kHz) allowed in silicon tetrachloride diluted with hydrogen are presented. High rate value, as 2.41 nm/s, o...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2014
Автори:	Deryzemlia, A.M., Kryshtal, P.G., Malykhin, D.G., Radchenko, V.I., Shirokov, B.M.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2014
Теми:	Физика и технология конструкционных материалов
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79911
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Deposition of nanocrystalline silicon films into low frequency induction RF discharge / A.M. Deryzemlia, P.G. Kryshtal, D.G. Malykhin, V.I. Radchenko, B.M. Shirokov // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 147-150. — Бібліогр.: 14 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Тhе effect of ulrtasonic vibrations on the mechanical properties of nanocrystalline titanium
за авторством: Bakai, К.S., та інші
Опубліковано: (2018)

Low frequency oscillations in U-2M conditioning RF discharges
за авторством: Dreval, M.B., та інші
Опубліковано: (2018)

The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Deposition of W and W-RE alloys by gas-phase and plasma chemical methods
за авторством: Glushko, P.I., та інші
Опубліковано: (2016)

Nanocrystalline silicon carbide films for solar cells
за авторством: S. I. Vlaskina, та інші
Опубліковано: (2016)

Formation of nanocrystalline silicon in tin-doped amorphous silicon films
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2020)

Nanocrystalline silicon carbide films for solar cells
за авторством: Vlaskina, S.I., та інші
Опубліковано: (2016)

Plasma sterilization in low-pressure RF discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Photoluminescent films of nanocrystalline silicon doped with metals
за авторством: Kaganovich, E.B., та інші
Опубліковано: (2002)

Structural stability of Ti-N and Zr-N coatings at emission tests in mode of pulses
за авторством: Shirokov, B.M., та інші
Опубліковано: (2022)

RF discharge in argon with cylindrical dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Formation of nanocrystalline silicon in tin-doped amorphous silicon films
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2020)

Interface electronic properties of eterojunctions based on nanocrystalline silicon
за авторством: Kaganovich, E.B., та інші
Опубліковано: (1999)

Surface morphology and structure of nanocrystalline diamond films deposited in CH₄/H₂/Ar glow discharge plasma
за авторством: Vyrovets, I.I., та інші
Опубліковано: (2009)

Light scattering in silicon carbide nanocrystalline films
за авторством: Lopin, A.V.
Опубліковано: (2008)

Photoluminescence of nanocrystalline cdte, introduced into porous silicon
за авторством: H. A. Pashchenko, та інші
Опубліковано: (2021)

2-D electron system in the RF-discharge plasma. Part II. similarity of TDES in a solid and in the RF discharge
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2019)

Iodine-stabilized He-Ne laser pumped by transverse rf-discharge
за авторством: Boyko, O.V., та інші
Опубліковано: (1999)

Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023)

Dissociative mode in low-pressure RF discharge
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006)

Ignition and properties of RF capacitive discharge in acetylene
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Numerical simulation of nanoparticles coagulation in RF-discharge
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)

Optoelectronic properties of hydrogenated amorphous silicon–carbon and nanocrystalline-silicon thin films
за авторством: B. A. Najafov, та інші
Опубліковано: (2013)

Optoelectronic properties of hydrogenated amorphous silicon–carbon and nanocrystalline-silicon thin films
за авторством: B. A. Nadzhafov, та інші
Опубліковано: (2013)

Development of Technology for Vacuum Surface Conditioning by RF Plasma Discharge Combined with DC Discharge
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)

Absorption edge of nanocrystalline cubic silicon carbide films
за авторством: Lopin, A.V., та інші
Опубліковано: (2009)

Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2017)

Dusty RF discharges with non-uniform distributions of dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2003)

Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)

Simulation of the ignition of alow pressure rf capacitive discharge
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)

Influence of dust particles on RF-discharge plasma afterglow
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)

A computer simulation of the effect of dusty particles on the characteristic of RF discharges
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2007)

Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration
за авторством: Kovtun, Yu.V, та інші
Опубліковано: (2016)

Effect of microwave electromagnetic radiation on the structure, photoluminescence and electronic properties of nanocrystalline silicon films on silicon substrate
за авторством: Kaganovich, E.B., та інші
Опубліковано: (2003)

Amorphous and Nanocrystalline Magnetic Conductors for High-Sensitive Sensors of Induction Magnetometers
за авторством: V. K. Nosenko, та інші
Опубліковано: (2015)

The investigation of RF discharge in the procession-plasma method by coating films
за авторством: V. I. Gritsenko, та інші
Опубліковано: (2003)

Computer simulation of dust transport phenomena in a RF discharge
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2010)

Stochastic heating of electrons in capacitive RF discharges by plasma oscillations
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012)

High Frequency Vibrations Impact on Mechanical Properties of Nanocrystalline Titanium
за авторством: Bakai, S.А., та інші
Опубліковано: (2016)

Using PIGE for analysis of boron carbide of received by CVD method
за авторством: Levenets, V., та інші
Опубліковано: (2008)