Исследование элементного состава и диффузии компонент тонких пленок железоиттриевого граната

• Опубліковано в: : Вопросы атомной науки и техники
• Дата: 2014
• Автори: Кириченко, В.Г., Коваленко, О.В.
• Формат: Стаття
• Мова: Російська
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2014
• Теми: Физика и технология конструкционных материалов
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79923
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Исследование элементного состава и диффузии компонент тонких пленок железоиттриевого граната / В.Г. Кириченко, О.В. Коваленко // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 133-140. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.

На основе полученных экспериментальных данных по элементному составу тонких пленок железоиттриевых гранатов (ЖИГ) рассчитаны значения коэффициентов диффузии элементов. Проведено сравнение полученных значений коэффициентов диффузии кислорода с известными данными. Анализ и сравнение
 полученных значений коэффициентов диффузии позволяют сделать вывод о незначительной роли диффузии
 по ускоренным путям в случае ионно-лучевого осаждения монокристаллических тонких пленок ЖИГ. На основі отриманих експериментальних даних з елементного складу тонких плівок залізоітрієвих гранатів (ЗІГ) розраховані значення коефіцієнтів дифузії елементів. Проведено порівняння отриманих значень
 коефіцієнтів дифузії кисню з відомими даними. Аналіз і порівняння отриманих значень коефіцієнтів дифузії
 дозволяє зробити висновок про незначну роль дифузії за прискореними шляхами в разі іонно-променевого
 осадження монокристалічних тонких плівок ЗІГ. On the basis of experimental data on the elemental composition of thin films of YIG the diffusion coefficients of
 elements were calculated. A comparison of the values of the coefficients of diffusion of oxygen from the known
 data was conducted. Analysis and comparison of the diffusion coefficients suggests a minor role on the diffusion on
 accelarative paths in the case of ion-beam deposition of thin films of single-crystal YIG.