High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter

The design and performance of high productive cathodic vacuum arc plasma source with rectilinear “magnetic island” filter, which is suitable for industrial applications, are briefly described. The device is characterized by achievable output ion current up to 4 A at an arc current of 100 A, Ti coa...

Full description

Saved in:

Bibliographic Details
Published in:	Вопросы атомной науки и техники
Date:	2013-10-23
Main Authors:	Vasylyev, V.V., Luchaninov, A.A., Strel’nitskij, V.E.
Format:	Article
Language:	English
Published:	National Science Centеr “Kharkov Institute of Physics and Technology”, Kharkov, Ukraine 2013-10-23
Subjects:	Физика и технология конструкционных материалов
Online Access:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79933
Tags:	Add Tag No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:	High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter / V.V. Vasylyev, A.A. Luchaninov, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 97-100. — Бібліогр.: 8 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

id	nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-79933
record_format	dspace
spelling	Vasylyev, V.V. Luchaninov, A.A. Strel’nitskij, V.E. 2015-04-09T08:09:35Z 2015-04-09T08:09:35Z 2013-10-23 High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter / V.V. Vasylyev, A.A. Luchaninov, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 97-100. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.50.Dg; 81.15.-z https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79933 The design and performance of high productive cathodic vacuum arc plasma source with rectilinear “magnetic island” filter, which is suitable for industrial applications, are briefly described. The device is characterized by achievable output ion current up to 4 A at an arc current of 100 A, Ti coating deposition rate at a distance of 150 mm from the outlet is 20 micron/hour within the circle of 180 mm diameter. In terms of productivity and quality of plasma purification from particulates the developed plasma source is superior to world analogues by 1.5...2 times. Приведено краткое описание конструкции и характеристик высокопроизводительного, пригодного для промышленного применения, вакуумно-дугового источника плазмы с прямолинейным фильтром типа «магнитный остров». Достижимый выходной ионный ток источника – 4 А при токе дуги 100 А. Скорость осаждения Ti-покрытия на расстоянии 150 мм…20 мкм/ч в пределах круга диаметром 180 мм. По производительности и качеству очистки от макрочастиц разработанное устройство превосходит мировые аналоги в 1,5…2 раза. Наведено скорочений опис конструкції та характеристики високопродуктивного, придатного для промислового застосування, вакуумно-дугового джерела плазми з прямолінійним фільтром типу «магнітний острів». Досяжний вихідний іонний струм джерела – 4 А при струмі дуги 100 А. Швидкість осадження Ti-покриття на відстані 150 мм…20 мкм/год у межах кола з діаметром 180 мм. За продуктивністю та якістю очищення від макрочасток розроблений пристрій перевершує світові аналоги в 1,5…2 рази. en National Science Centеr “Kharkov Institute of Physics and Technology”, Kharkov, Ukraine Вопросы атомной науки и техники Физика и технология конструкционных материалов High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter Высокопроизводительный вакуумно-дуговой источник плазмы с прямолинейным фильтром Високопродуктивне вакуумно-дугове джерело плазми з прямолінійним фільтром Article published earlier
institution	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection	DSpace DC
title	High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter
spellingShingle	High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter Vasylyev, V.V. Luchaninov, A.A. Strel’nitskij, V.E. Физика и технология конструкционных материалов
title_short	High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter
title_full	High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter
title_fullStr	High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter
title_full_unstemmed	High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter
title_sort	high-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter
author	Vasylyev, V.V. Luchaninov, A.A. Strel’nitskij, V.E.
author_facet	Vasylyev, V.V. Luchaninov, A.A. Strel’nitskij, V.E.
topic	Физика и технология конструкционных материалов
topic_facet	Физика и технология конструкционных материалов
publishDate	2013-10-23
language	English
container_title	Вопросы атомной науки и техники
publisher	National Science Centеr “Kharkov Institute of Physics and Technology”, Kharkov, Ukraine
format	Article
title_alt	Высокопроизводительный вакуумно-дуговой источник плазмы с прямолинейным фильтром Високопродуктивне вакуумно-дугове джерело плазми з прямолінійним фільтром
description	The design and performance of high productive cathodic vacuum arc plasma source with rectilinear “magnetic island” filter, which is suitable for industrial applications, are briefly described. The device is characterized by achievable output ion current up to 4 A at an arc current of 100 A, Ti coating deposition rate at a distance of 150 mm from the outlet is 20 micron/hour within the circle of 180 mm diameter. In terms of productivity and quality of plasma purification from particulates the developed plasma source is superior to world analogues by 1.5...2 times. Приведено краткое описание конструкции и характеристик высокопроизводительного, пригодного для промышленного применения, вакуумно-дугового источника плазмы с прямолинейным фильтром типа «магнитный остров». Достижимый выходной ионный ток источника – 4 А при токе дуги 100 А. Скорость осаждения Ti-покрытия на расстоянии 150 мм…20 мкм/ч в пределах круга диаметром 180 мм. По производительности и качеству очистки от макрочастиц разработанное устройство превосходит мировые аналоги в 1,5…2 раза. Наведено скорочений опис конструкції та характеристики високопродуктивного, придатного для промислового застосування, вакуумно-дугового джерела плазми з прямолінійним фільтром типу «магнітний острів». Досяжний вихідний іонний струм джерела – 4 А при струмі дуги 100 А. Швидкість осадження Ti-покриття на відстані 150 мм…20 мкм/год у межах кола з діаметром 180 мм. За продуктивністю та якістю очищення від макрочасток розроблений пристрій перевершує світові аналоги в 1,5…2 рази.
issn	1562-6016
url	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79933
citation_txt	High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter / V.V. Vasylyev, A.A. Luchaninov, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 97-100. — Бібліогр.: 8 назв. — англ.
work_keys_str_mv	AT vasylyevvv highproductivesourceofthecathodicvacuumarcplasmawiththerectilinearfilter AT luchaninovaa highproductivesourceofthecathodicvacuumarcplasmawiththerectilinearfilter AT strelnitskijve highproductivesourceofthecathodicvacuumarcplasmawiththerectilinearfilter AT vasylyevvv vysokoproizvoditelʹnyivakuumnodugovoiistočnikplazmysprâmolineinymfilʹtrom AT luchaninovaa vysokoproizvoditelʹnyivakuumnodugovoiistočnikplazmysprâmolineinymfilʹtrom AT strelnitskijve vysokoproizvoditelʹnyivakuumnodugovoiistočnikplazmysprâmolineinymfilʹtrom AT vasylyevvv visokoproduktivnevakuumnodugovedžereloplazmizprâmolíníinimfílʹtrom AT luchaninovaa visokoproduktivnevakuumnodugovedžereloplazmizprâmolíníinimfílʹtrom AT strelnitskijve visokoproduktivnevakuumnodugovedžereloplazmizprâmolíníinimfílʹtrom
first_indexed	2025-12-07T18:32:19Z
last_indexed	2025-12-07T18:32:19Z
_version_	1850875408286744576

High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter

Institution

Similar Items