Глушко, П., Журавлёв, А., Капустин, В., Левенец, В., Семенов, Н., Хованский, Н., . . . Шиян, А. (2014). Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок. Вопросы атомной науки и техники.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Глушко, П.И, А.Ю Журавлёв, В.Л Капустин, В.В Левенец, Н.А Семенов, Н.А Хованский, В.И Шеремет, Б.М Широков, und А.В Шиян. "Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок." Вопросы атомной науки и техники 2014.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Глушко, П.И, et al. "Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок." Вопросы атомной науки и техники, 2014.
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.