Глушко, П., Журавлёв, А., Капустин, В., Левенец, В., Семенов, Н., Хованский, Н., . . . Шиян, А. (2014). Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок. Вопросы атомной науки и техники.
Chicago Style (17th ed.) CitationГлушко, П.И, А.Ю Журавлёв, В.Л Капустин, В.В Левенец, Н.А Семенов, Н.А Хованский, В.И Шеремет, Б.М Широков, and А.В Шиян. "Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок." Вопросы атомной науки и техники 2014.
MLA (8th ed.) CitationГлушко, П.И, et al. "Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок." Вопросы атомной науки и техники, 2014.
Warning: These citations may not always be 100% accurate.