Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок
Разработан и изготовлен сублимационный источник атомов для нанесения плёнок методом молекулярно- лучевой эпитаксии. С использованием сублимационного источника получены эпитаксиальные кремний- германиевые пленки с различным содержанием германия. Розроблено і виготовлено сублімаційне джерело атомів дл...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2014 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2014
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79936 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок / П.И. Глушко, А.Ю. Журавлёв, В.Л. Капустин, В.В. Левенец, Н.А. Семенов, Н.А. Хованский, В.И. Шеремет, Б.М. Широков, А.В. Шиян // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 167-169. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862740897861468160 |
|---|---|
| author | Глушко, П.И. Журавлёв, А.Ю. Капустин, В.Л. Левенец, В.В. Семенов, Н.А. Хованский, Н.А. Шеремет, В.И. Широков, Б.М. Шиян, А.В. |
| author_facet | Глушко, П.И. Журавлёв, А.Ю. Капустин, В.Л. Левенец, В.В. Семенов, Н.А. Хованский, Н.А. Шеремет, В.И. Широков, Б.М. Шиян, А.В. |
| citation_txt | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок / П.И. Глушко, А.Ю. Журавлёв, В.Л. Капустин, В.В. Левенец, Н.А. Семенов, Н.А. Хованский, В.И. Шеремет, Б.М. Широков, А.В. Шиян // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 167-169. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Разработан и изготовлен сублимационный источник атомов для нанесения плёнок методом молекулярно- лучевой эпитаксии. С использованием сублимационного источника получены эпитаксиальные кремний- германиевые пленки с различным содержанием германия.
Розроблено і виготовлено сублімаційне джерело атомів для нанесення плівок методом молекулярно- променевої епітаксії. З використанням сублімаційного джерела отримано епітаксійні кремній-германієві плівки з різним вмістом германію.
The atom sublimation source for application the films by molecular beam epitaxy method is developed and made. The epitaxial silicon-germanium films with different germanium content were obtained with the help of sublimation source.
|
| first_indexed | 2025-12-07T20:16:59Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-79936 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T20:16:59Z |
| publishDate | 2014 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Глушко, П.И. Журавлёв, А.Ю. Капустин, В.Л. Левенец, В.В. Семенов, Н.А. Хованский, Н.А. Шеремет, В.И. Широков, Б.М. Шиян, А.В. 2015-04-09T08:15:21Z 2015-04-09T08:15:21Z 2014 Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок / П.И. Глушко, А.Ю. Журавлёв, В.Л. Капустин, В.В. Левенец, Н.А. Семенов, Н.А. Хованский, В.И. Шеремет, Б.М. Широков, А.В. Шиян // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 167-169. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79936 669.094.54:661.87.621:661.668 Разработан и изготовлен сублимационный источник атомов для нанесения плёнок методом молекулярно- лучевой эпитаксии. С использованием сублимационного источника получены эпитаксиальные кремний- германиевые пленки с различным содержанием германия. Розроблено і виготовлено сублімаційне джерело атомів для нанесення плівок методом молекулярно- променевої епітаксії. З використанням сублімаційного джерела отримано епітаксійні кремній-германієві плівки з різним вмістом германію. The atom sublimation source for application the films by molecular beam epitaxy method is developed and made. The epitaxial silicon-germanium films with different germanium content were obtained with the help of sublimation source. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Физика и технология конструкционных материалов Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок Сублімаційне джерело для нанесення епітаксійних Si-Ge-плівок Sublimation source for application the epitaxial Si-Ge films Article published earlier |
| spellingShingle | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок Глушко, П.И. Журавлёв, А.Ю. Капустин, В.Л. Левенец, В.В. Семенов, Н.А. Хованский, Н.А. Шеремет, В.И. Широков, Б.М. Шиян, А.В. Физика и технология конструкционных материалов |
| title | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок |
| title_alt | Сублімаційне джерело для нанесення епітаксійних Si-Ge-плівок Sublimation source for application the epitaxial Si-Ge films |
| title_full | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок |
| title_fullStr | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок |
| title_full_unstemmed | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок |
| title_short | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок |
| title_sort | сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных si-ge-плёнок |
| topic | Физика и технология конструкционных материалов |
| topic_facet | Физика и технология конструкционных материалов |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79936 |
| work_keys_str_mv | AT gluškopi sublimacionnyiistočnikdlânaneseniâépitaksialʹnyhsigeplenok AT žuravlevaû sublimacionnyiistočnikdlânaneseniâépitaksialʹnyhsigeplenok AT kapustinvl sublimacionnyiistočnikdlânaneseniâépitaksialʹnyhsigeplenok AT levenecvv sublimacionnyiistočnikdlânaneseniâépitaksialʹnyhsigeplenok AT semenovna sublimacionnyiistočnikdlânaneseniâépitaksialʹnyhsigeplenok AT hovanskiina sublimacionnyiistočnikdlânaneseniâépitaksialʹnyhsigeplenok AT šeremetvi sublimacionnyiistočnikdlânaneseniâépitaksialʹnyhsigeplenok AT širokovbm sublimacionnyiistočnikdlânaneseniâépitaksialʹnyhsigeplenok AT šiânav sublimacionnyiistočnikdlânaneseniâépitaksialʹnyhsigeplenok AT gluškopi sublímacíinedžerelodlânanesennâepítaksíinihsigeplívok AT žuravlevaû sublímacíinedžerelodlânanesennâepítaksíinihsigeplívok AT kapustinvl sublímacíinedžerelodlânanesennâepítaksíinihsigeplívok AT levenecvv sublímacíinedžerelodlânanesennâepítaksíinihsigeplívok AT semenovna sublímacíinedžerelodlânanesennâepítaksíinihsigeplívok AT hovanskiina sublímacíinedžerelodlânanesennâepítaksíinihsigeplívok AT šeremetvi sublímacíinedžerelodlânanesennâepítaksíinihsigeplívok AT širokovbm sublímacíinedžerelodlânanesennâepítaksíinihsigeplívok AT šiânav sublímacíinedžerelodlânanesennâepítaksíinihsigeplívok AT gluškopi sublimationsourceforapplicationtheepitaxialsigefilms AT žuravlevaû sublimationsourceforapplicationtheepitaxialsigefilms AT kapustinvl sublimationsourceforapplicationtheepitaxialsigefilms AT levenecvv sublimationsourceforapplicationtheepitaxialsigefilms AT semenovna sublimationsourceforapplicationtheepitaxialsigefilms AT hovanskiina sublimationsourceforapplicationtheepitaxialsigefilms AT šeremetvi sublimationsourceforapplicationtheepitaxialsigefilms AT širokovbm sublimationsourceforapplicationtheepitaxialsigefilms AT šiânav sublimationsourceforapplicationtheepitaxialsigefilms |