Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages

This scientific paper delves into the findings of the investigation carried out to determine the adsorption and electrophysical characteristics of nanoporous (V, 10 at.% Ti)Nx films obtained using the ion beam-assisted deposition technique (IBAD). It has been shown that these films can accumulate mo...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2014
Main Authors: Guglya, A.G., Marchenko, Yu.A., Melnikova, E.S., Vlasov, V.V., Zubarev, E.N.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2014
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79964
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages / A.G. Guglya, Yu.A. Marchenko, E.S. Melnikova, V.V. Vlasov, E.N. Zubarev // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 2. — С. 162-166. — Бібліогр.: 15 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862545221852594176
author Guglya, A.G.
Marchenko, Yu.A.
Melnikova, E.S.
Vlasov, V.V.
Zubarev, E.N.
author_facet Guglya, A.G.
Marchenko, Yu.A.
Melnikova, E.S.
Vlasov, V.V.
Zubarev, E.N.
citation_txt Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages / A.G. Guglya, Yu.A. Marchenko, E.S. Melnikova, V.V. Vlasov, E.N. Zubarev // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 2. — С. 162-166. — Бібліогр.: 15 назв. — англ.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description This scientific paper delves into the findings of the investigation carried out to determine the adsorption and electrophysical characteristics of nanoporous (V, 10 at.% Ti)Nx films obtained using the ion beam-assisted deposition technique (IBAD). It has been shown that these films can accumulate more than 7 wt.% hydrogen at a relatively low pressure of 0,5 MPa. One part of it is accumulated in the grain boundaries and pores but another one forms the hydride phase. A complete release of hydrogen occurs at a temperature of 250 °C. During the hydrogen desorption the specific resistivity of (V, 10Ti)NxHy films is roughly increased by a factor of 10⁷. Приведены результаты исследований адсорбционных и электрофизических характеристик нанопористых пленок (V, 10 ат.% Ti)Nx, полученных с применением технологии ионно-стимулированного осаждения. Использование данной технологии позволило получить нанокристаллическую структуру, межзеренное пространство в которой заполнено порами размером менее 6 нм. Показано, что при относительно низком давлении (0,5 МПа) такие объекты могут аккумулировать более 7 вес.% водорода. Одна часть его накапливается в межзеренных границах и порах, другая часть – в виде гидридной фазы. Полное выделение водорода происходит при температуре 250 ºС. В процессе десорбции водорода удельное электросопротивление (V, 10Ti)NxHy-пленок увеличивается примерно в 10⁷ раз. Приведено дані досліджень адсорбційних та електрофізичних характеристик (V, 10 ат.% Ti)Nx нанопорових плівок, здобутих за допомогою технології іонно-стимульованого осадження. Використання даної технології дозволило створити нанокристалічну структуру, міжзеренних простір в якій заповнений порами розміром не більше 6 нм. Виявлено, що при відносно низькому тиску (0,5 МПа) такі об’єкти можуть акумулювати більш ніж 7 ваг.% водню. Одна його частина накопичується у міжзеренному просторі, а інша – у вигляді гідридної фази. Повне виділення водню має місце при температурі 250 ºС. У процесі десорбції водню питомий електроопір (V, 10Ti)NxHy-плівок збільшується приблизно у 10⁷ разів.
first_indexed 2025-11-25T06:05:21Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-79964
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language English
last_indexed 2025-11-25T06:05:21Z
publishDate 2014
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Guglya, A.G.
Marchenko, Yu.A.
Melnikova, E.S.
Vlasov, V.V.
Zubarev, E.N.
2015-04-09T12:35:14Z
2015-04-09T12:35:14Z
2014
Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages / A.G. Guglya, Yu.A. Marchenko, E.S. Melnikova, V.V. Vlasov, E.N. Zubarev // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 2. — С. 162-166. — Бібліогр.: 15 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 81.15Jj;72.15 Eb;81.07Bc
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79964
This scientific paper delves into the findings of the investigation carried out to determine the adsorption and electrophysical characteristics of nanoporous (V, 10 at.% Ti)Nx films obtained using the ion beam-assisted deposition technique (IBAD). It has been shown that these films can accumulate more than 7 wt.% hydrogen at a relatively low pressure of 0,5 MPa. One part of it is accumulated in the grain boundaries and pores but another one forms the hydride phase. A complete release of hydrogen occurs at a temperature of 250 °C. During the hydrogen desorption the specific resistivity of (V, 10Ti)NxHy films is roughly increased by a factor of 10⁷.
Приведены результаты исследований адсорбционных и электрофизических характеристик нанопористых пленок (V, 10 ат.% Ti)Nx, полученных с применением технологии ионно-стимулированного осаждения. Использование данной технологии позволило получить нанокристаллическую структуру, межзеренное пространство в которой заполнено порами размером менее 6 нм. Показано, что при относительно низком давлении (0,5 МПа) такие объекты могут аккумулировать более 7 вес.% водорода. Одна часть его накапливается в межзеренных границах и порах, другая часть – в виде гидридной фазы. Полное выделение водорода происходит при температуре 250 ºС. В процессе десорбции водорода удельное электросопротивление (V, 10Ti)NxHy-пленок увеличивается примерно в 10⁷ раз.
Приведено дані досліджень адсорбційних та електрофізичних характеристик (V, 10 ат.% Ti)Nx нанопорових плівок, здобутих за допомогою технології іонно-стимульованого осадження. Використання даної технології дозволило створити нанокристалічну структуру, міжзеренних простір в якій заповнений порами розміром не більше 6 нм. Виявлено, що при відносно низькому тиску (0,5 МПа) такі об’єкти можуть акумулювати більш ніж 7 ваг.% водню. Одна його частина накопичується у міжзеренному просторі, а інша – у вигляді гідридної фази. Повне виділення водню має місце при температурі 250 ºС. У процесі десорбції водню питомий електроопір (V, 10Ti)NxHy-плівок збільшується приблизно у 10⁷ разів.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages
Тонкопленочные нанопористые (V, 10Ti)NxHy-накопители водорода
Тонкоплівкові нанопорові (V, 10Ti)NxHy-накопичувателі водню
Article
published earlier
spellingShingle Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages
Guglya, A.G.
Marchenko, Yu.A.
Melnikova, E.S.
Vlasov, V.V.
Zubarev, E.N.
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
title Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages
title_alt Тонкопленочные нанопористые (V, 10Ti)NxHy-накопители водорода
Тонкоплівкові нанопорові (V, 10Ti)NxHy-накопичувателі водню
title_full Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages
title_fullStr Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages
title_full_unstemmed Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages
title_short Thin film nanopores (V, 10Ti)NxHy hydrogen storages
title_sort thin film nanopores (v, 10ti)nxhy hydrogen storages
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79964
work_keys_str_mv AT guglyaag thinfilmnanoporesv10tinxhyhydrogenstorages
AT marchenkoyua thinfilmnanoporesv10tinxhyhydrogenstorages
AT melnikovaes thinfilmnanoporesv10tinxhyhydrogenstorages
AT vlasovvv thinfilmnanoporesv10tinxhyhydrogenstorages
AT zubareven thinfilmnanoporesv10tinxhyhydrogenstorages
AT guglyaag tonkoplenočnyenanoporistyev10tinxhynakopitelivodoroda
AT marchenkoyua tonkoplenočnyenanoporistyev10tinxhynakopitelivodoroda
AT melnikovaes tonkoplenočnyenanoporistyev10tinxhynakopitelivodoroda
AT vlasovvv tonkoplenočnyenanoporistyev10tinxhynakopitelivodoroda
AT zubareven tonkoplenočnyenanoporistyev10tinxhynakopitelivodoroda
AT guglyaag tonkoplívkovínanoporovív10tinxhynakopičuvatelívodnû
AT marchenkoyua tonkoplívkovínanoporovív10tinxhynakopičuvatelívodnû
AT melnikovaes tonkoplívkovínanoporovív10tinxhynakopičuvatelívodnû
AT vlasovvv tonkoplívkovínanoporovív10tinxhynakopičuvatelívodnû
AT zubareven tonkoplívkovínanoporovív10tinxhynakopičuvatelívodnû