The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation

N- and p-type samples of Si-Ge solid solution with the resistivity of (4...7) 10⁻³⋅ Ohm·cm, unannealed after high-temperature
 baking have been investigated. Samples were irradiated up to the fluence ~10²⁰ n⁰·cm⁻² in reactor active zone at the temperature
 ~500 ºC in mixed neutron...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2006
1. Verfasser: Dolgolenko, A.P.
Format: Artikel
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80147
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation / A.P. Dolgolenko
 // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 4. — С. 65-70. — Бібліогр.: 20 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862718201388859392
author Dolgolenko, A.P.
author_facet Dolgolenko, A.P.
citation_txt The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation / A.P. Dolgolenko
 // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 4. — С. 65-70. — Бібліогр.: 20 назв. — англ.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description N- and p-type samples of Si-Ge solid solution with the resistivity of (4...7) 10⁻³⋅ Ohm·cm, unannealed after high-temperature
 baking have been investigated. Samples were irradiated up to the fluence ~10²⁰ n⁰·cm⁻² in reactor active zone at the temperature
 ~500 ºC in mixed neutron field. It has been observed that in the process of reactor irradiation not only phosphorus or boron precipitation,
 but the annealing of samples occurs resulting in the increase of doped substituting impurities solubility and hence in
 the reduction of resistivity. It is shown that the radiated redistribution can be described by diffusion and relaxation processes.
 The dose dependence on resistivity as a function of fast-pile neutron fluence was calculated and interpreted in terms of the effective
 medium theory. Activation energies of the doping impurities annealing process and characteristic dimensions of defect clusters
 have been defined. Исследованы образцы n- и p-типа проводимости твердого раствора кремний-германий с удельным сопротивлением (4...7) 10⁻³⋅ Ом/см, не прошедшие отжига после высокотемпературного спекания. Образцы облучались до флюенса ~10²⁰ n⁰·•cм⁻² в активной зоне реактора ВВР-М при температуре ~500 ºC в смешанном нейтронном поле. В процессе облучения наблюдались не только преципитация легирующей примеси бора и фосфора, но и увеличение их растворимости, обусловленное кластерами дефектов. Показано, что радиационное перемешивание можно описать на языке диффузионных и релаксационных процессов. Изменение удельного сопротивления в зависимости от флюенса быстрых нейтронов описано в рамках теории эффективной среды. Определены энергии активации процесса отжига легирующих примесей и характерные размеры кластеров дефектов. Досліджені зразки n- та p-типу провідності твердого розчину кремній-германій з питомим опором (4...7) 10⁻³⋅
 Ом/см, що не пройшли відпал після високотемпературного спікання. Зразки опромінювались до флюєнсу ~10²⁰ n⁰·•cм⁻²
 в активній зоні реактора ВВР-М при температурі ~500 ºC в змішаному нейтронному полі. В процесі опромінювання
 спостерігались не тільки преципітація легуючої домішки бору та фосфору, але й збільшення їх розчинності, що
 обумовлено кластерами дефектів. Показано, що радіаційне перемішування можна описати в термінах дифузійних та
 релаксаційних процесів. Зміна питомого опору в залежності від флюєнсу швидких нейтронів описана в рамках теорії
 ефективного середовища. Визначені енергії активації процесу відпалу легуючих домішок та характерні розміри
 кластерів дефектів.
first_indexed 2025-12-07T18:13:28Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-80147
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language English
last_indexed 2025-12-07T18:13:28Z
publishDate 2006
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Dolgolenko, A.P.
2015-04-12T13:54:41Z
2015-04-12T13:54:41Z
2006
The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation / A.P. Dolgolenko
 // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 4. — С. 65-70. — Бібліогр.: 20 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 61.80.HG; 61.72.JI; S5.11-12
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80147
N- and p-type samples of Si-Ge solid solution with the resistivity of (4...7) 10⁻³⋅ Ohm·cm, unannealed after high-temperature
 baking have been investigated. Samples were irradiated up to the fluence ~10²⁰ n⁰·cm⁻² in reactor active zone at the temperature
 ~500 ºC in mixed neutron field. It has been observed that in the process of reactor irradiation not only phosphorus or boron precipitation,
 but the annealing of samples occurs resulting in the increase of doped substituting impurities solubility and hence in
 the reduction of resistivity. It is shown that the radiated redistribution can be described by diffusion and relaxation processes.
 The dose dependence on resistivity as a function of fast-pile neutron fluence was calculated and interpreted in terms of the effective
 medium theory. Activation energies of the doping impurities annealing process and characteristic dimensions of defect clusters
 have been defined.
Исследованы образцы n- и p-типа проводимости твердого раствора кремний-германий с удельным сопротивлением (4...7) 10⁻³⋅ Ом/см, не прошедшие отжига после высокотемпературного спекания. Образцы облучались до флюенса ~10²⁰ n⁰·•cм⁻² в активной зоне реактора ВВР-М при температуре ~500 ºC в смешанном нейтронном поле. В процессе облучения наблюдались не только преципитация легирующей примеси бора и фосфора, но и увеличение их растворимости, обусловленное кластерами дефектов. Показано, что радиационное перемешивание можно описать на языке диффузионных и релаксационных процессов. Изменение удельного сопротивления в зависимости от флюенса быстрых нейтронов описано в рамках теории эффективной среды. Определены энергии активации процесса отжига легирующих примесей и характерные размеры кластеров дефектов.
Досліджені зразки n- та p-типу провідності твердого розчину кремній-германій з питомим опором (4...7) 10⁻³⋅
 Ом/см, що не пройшли відпал після високотемпературного спікання. Зразки опромінювались до флюєнсу ~10²⁰ n⁰·•cм⁻²
 в активній зоні реактора ВВР-М при температурі ~500 ºC в змішаному нейтронному полі. В процесі опромінювання
 спостерігались не тільки преципітація легуючої домішки бору та фосфору, але й збільшення їх розчинності, що
 обумовлено кластерами дефектів. Показано, що радіаційне перемішування можна описати в термінах дифузійних та
 релаксаційних процесів. Зміна питомого опору в залежності від флюєнсу швидких нейтронів описана в рамках теорії
 ефективного середовища. Визначені енергії активації процесу відпалу легуючих домішок та характерні розміри
 кластерів дефектів.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных повреждений и явлений в твердых телах
The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation
Отжиг высоколегированных материалов на основе твердого раствора n- и p- Si₀.₇ Ge₀.₃ в процессе реакторного облучения
Відпал високолегованих матеріалів на основі твердого розчину n- та p-Si₀.₇ Ge₀.₃ в процесі реакторного опромінювання
Article
published earlier
spellingShingle The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation
Dolgolenko, A.P.
Физика радиационных повреждений и явлений в твердых телах
title The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation
title_alt Отжиг высоколегированных материалов на основе твердого раствора n- и p- Si₀.₇ Ge₀.₃ в процессе реакторного облучения
Відпал високолегованих матеріалів на основі твердого розчину n- та p-Si₀.₇ Ge₀.₃ в процесі реакторного опромінювання
title_full The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation
title_fullStr The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation
title_full_unstemmed The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation
title_short The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation
title_sort annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – si₀.₇ ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation
topic Физика радиационных повреждений и явлений в твердых телах
topic_facet Физика радиационных повреждений и явлений в твердых телах
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80147
work_keys_str_mv AT dolgolenkoap theannealingofhighleveldopedmaterialsonthebaseofthenandpsi07ge03solidsolutionunderreactorirradiation
AT dolgolenkoap otžigvysokolegirovannyhmaterialovnaosnovetverdogorastvoranipsi07ge03vprocessereaktornogooblučeniâ
AT dolgolenkoap vídpalvisokolegovanihmateríalívnaosnovítverdogorozčinuntapsi07ge03vprocesíreaktornogoopromínûvannâ
AT dolgolenkoap annealingofhighleveldopedmaterialsonthebaseofthenandpsi07ge03solidsolutionunderreactorirradiation