Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2002 |
| Автори: | Dobrovol`s`kii, A.N., Goncharov, A.A., Pavlov, S.N., Panchenko, O.A., Protsenko, I.M. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80294 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning / A.N. Dobrovol`s`kii, A.A. Goncharov, S.N. Pavlov, O.A. Panchenko, I.M. Protsenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 176-178. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Technological accelerator with closed electron drift for surface treatment
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000) -
Peculiarities of self-sustained discharge in closed electron drift accelerator based on permanent magnets
за авторством: Pavlov, S.N., та інші
Опубліковано: (2002) -
Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007) -
The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002) -
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)