Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2002 |
| Автори: | Langner, J., Russo, R., Catani, L., Tazzari, S., Cirillo, M., Czaus, K., Merlo, V., Tazzioli, F., Proch, D., Koval, N.N., Lopatin, I.V. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80324 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Application of arc plasma for a deposition of superconducting films / J. Langner, R. Russo, L. Catani, S. Tazzari, M. Cirillo, K. Czaus, V. Merlo, F. Tazzioli, D. Proch, N.N. Koval, I.V. Lopatin // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 161-164. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Investigation of thin films deposition into porous material
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
On the contraction of an arc discharge in gaseous mixtures
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2005)
Plasma of electric arc discharge between Cu-Mo electrodes
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma of electric arc between electrodes from composite materials
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
ARC discharge in a cross flow of gas
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
The transport of the erosion products of electrodes in electric arcs
за авторством: Zhovtyansky, V.A.
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zhovtyansky, V.A.
Опубліковано: (2003)
Investigation of characteristics of non-simultaneous arc discharge in titanium vapors in glow discharge electron evaporators
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma of electric arc discharge between copper electrodes in a gas flow
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
Combustion of ethanol+air mixture supported by transverse arc plasma
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
On the influence of metal impurities on the thermal contraction of a nitrogen arc
за авторством: Porytskyy, P. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Porytskyy, P. V., та інші
Опубліковано: (2006)
On the influence of aluminium and iron impurities on the thermal contraction of an argon arc
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2008)
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2008)
Tribological properties of vacuum arc Cr-O-N coatings in macro- and microscale
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Investigations of thermal plasma of electric arc discharge between composite Ag–C electrodes
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)
Influence of molecular and electronegative impurities on the contraction of the plasma column of an argon arc
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2002)
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
Peculiarities of interaction of Cu-W composite materials with thermal arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)
Сharacterization of ARC-PVD ZrN nanostructured coatings by using the fractals theory
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
Investigation of thermal plasma of arc discharge between novel composite Cu-W materials
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2023)
Plasma-surface interaction of electric arc discharge between composite Cu-Cr electrodes
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2020)
Composite Cu-Cr materials under thermal action of electric arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2021)
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Erosion, permeation and outgassing performances of tin coating under/after hydrogen plasma iffadiation
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
Схожі ресурси
-
Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000) -
Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002) -
Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003) -
Investigation of thin films deposition into porous material
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006) -
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)