Application of arc plasma for a deposition of superconducting films

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2002
Hauptverfasser: Langner, J., Russo, R., Catani, L., Tazzari, S., Cirillo, M., Czaus, K., Merlo, V., Tazzioli, F., Proch, D., Koval, N.N., Lopatin, I.V.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
Schlagworte:
Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80324
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Application of arc plasma for a deposition of superconducting films / J. Langner, R. Russo, L. Catani, S. Tazzari, M. Cirillo, K. Czaus, V. Merlo, F. Tazzioli, D. Proch, N.N. Koval, I.V. Lopatin // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 161-164. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Ähnliche Einträge

Ähnliche Einträge