Application of arc plasma for a deposition of superconducting films

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2002
• Main Authors: Langner, J., Russo, R., Catani, L., Tazzari, S., Cirillo, M., Czaus, K., Merlo, V., Tazzioli, F., Proch, D., Koval, N.N., Lopatin, I.V.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
• Subjects: Low temperature plasma and plasma technologies
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80324
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Application of arc plasma for a deposition of superconducting films / J. Langner, R. Russo, L. Catani, S. Tazzari, M. Cirillo, K. Czaus, V. Merlo, F. Tazzioli, D. Proch, N.N. Koval, I.V. Lopatin // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 161-164. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.