Ion kinetics in an ECR plasma source
In plasma reactors it is extremely important the study for achieving greater control of critical parameters such as the flux velocities and the energy distribution of ions. These quantities are functions of the reactor physical dimensions, magnetic field profile as well as the kinetic chemical react...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2002 |
| Автор: | Gutiérrez-Tapia, C. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80327 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Ion kinetics in an ECR plasma source / C. Gutiérrez-Tapia // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 170-172. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Characterization of plasma and emergent ion beam in a compact helicon source with permanent magnets
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Kinetic simulaton of CO₂ conversion in low-pressure electrodeless plasma
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2022)
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Kinetics of processes in air plasma discharges at atmospheric pressure in the transverse flow of gas
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
Ion source of reactive gases with decreased neutral gas inleakage
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
New in development of negative hydrogen ion source with combined discharge
за авторством: Dobrovolsky, A., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Dobrovolsky, A., та інші
Опубліковано: (2016)
Influence of metal hydride hollow cathode on Penning ion source operation
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
Ion crystal formation in nonequilibrium dusty plasmas near electrode or electric probe
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Ion separation in a plasma mass filter based on the band gap filter principle
за авторством: Ilichova, V.O.
Опубліковано: (2019)
за авторством: Ilichova, V.O.
Опубліковано: (2019)
Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)
Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
An attempt for increasing the efficiency of penning source of Н ⁻ ions with a metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2020)
Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
Optimization of the magnetic system of a vacuum-arc plasma source with a straight line filter
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of power source type on time dependence of the plasma parameters of a pulse discharge with a hollow cathode
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2022)
Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Cross-field mobility in a pure electron plasma
за авторством: Emily C. Fossum, та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Emily C. Fossum, та інші
Опубліковано: (2006)
Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Ligth ions and ozone - generaion and interactions with living organisms
за авторством: Kříha, V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Kříha, V., та інші
Опубліковано: (2005)
On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Back-scattering and neutralization coefficients of nitrogen ions on iron surface
за авторством: Kuzmichev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Kuzmichev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
Peculiarities of properties of the pulse plasma jet
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Parametric instability influence on isotope separation by ion-cyclotron resonance method
за авторством: Olshansky, V.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Olshansky, V.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Microwave discharge as a source of light
за авторством: Brodsky, Yu.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Brodsky, Yu.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
Схожі ресурси
-
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002) -
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005) -
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007) -
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008) -
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)