Ion kinetics in an ECR plasma source
In plasma reactors it is extremely important the study for achieving greater control of critical parameters such as the flux velocities and the energy distribution of ions. These quantities are functions of the reactor physical dimensions, magnetic field profile as well as the kinetic chemical react...
Збережено в:
| Дата: | 2002 |
|---|---|
| Автор: | Gutiérrez-Tapia, C. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80327 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Ion kinetics in an ECR plasma source / C. Gutiérrez-Tapia // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 170-172. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002) -
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002) -
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002) -
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002) -
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)