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Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition

One of peculiar features of the IBAD technology consists in that the damage level and concentration of implanted ions are distributed nonuniformly in the depth of deposited material. The calculations, we have done earlier [1], showed that the highest degree of nonequilibrium is realized in the f...

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Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2006
Hauptverfasser:	Guglya, A., Litvinenko, M., Marchenko, Y., Vasilenko, R.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Schlagworte:	Краткие сообщения
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80341
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition / A. Guglya, M. Litvinenko, Y. Marchenko, R. Vasilenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 4. — С. 200-203. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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