Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition
One of peculiar features of the IBAD technology consists in that the damage level and concentration of implanted ions are distributed nonuniformly in the depth of deposited material. The calculations, we have done earlier [1], showed that the highest degree of nonequilibrium is realized in the f...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2006 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2006
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80341 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition / A. Guglya, M. Litvinenko, Y. Marchenko, R. Vasilenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 4. — С. 200-203. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |