Corrosion kinetics of an alloy immerged into a liquid melt containing oxygen

Corrosion kinetics of a metal in metallic coolant containing oxygen is considered. The corrosion rate is found. The oxide film growth kinetics at moderate and high over-saturations of the oxygen content in coolant is considered. A mechanism of the oxide film growth blocking is described. Розглянута...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2005
Hauptverfasser: Bakai, A.S., Tanatarov, L.V.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80566
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Corrosion kinetics of an alloy immerged into a liquid melt containing oxygen / A.S. Bakai, L.V. Tanatarov // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 4. — С. 114-119. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Corrosion kinetics of a metal in metallic coolant containing oxygen is considered. The corrosion rate is found. The oxide film growth kinetics at moderate and high over-saturations of the oxygen content in coolant is considered. A mechanism of the oxide film growth blocking is described. Розглянута кінетика корозії метала в металічному охолоджувачі, який містить кисень. Знайдена швидкість корозії. Розглянута кіне¬ тика роста оксидної плівки при помірній та високій пересиченості охолоджувача киснем. Описаний механізм блокування роста оксидної плівки Рассмотрена кинетика коррозии металла в металлическом охладителе, содержащем кислород. Найдена скорость коррозии. Рассмотрена кинетика роста оксидной пленки при умеренной и высокой пересыщенности охладителя кислородом. Описан механизм блокирования роста оксидной пленки.
ISSN:1562-6016