Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления

Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления

Повышение физических, механических и химических характеристик тонких нитридных пленок зависит от методов их осаждения и усовершенствования структуры, которая и определяет получаемые свойства. Методом ионной имплантации и конденсации и ионной бомбардировки получены пленки нитридов на подложках Ti, Ta...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Проблемы машиностроения
Datum:2013
Hauptverfasser: Василенко, Н.А., Василенко, А.О.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Інстиут проблем машинобудування ім. А.М. Підгорного НАН України 2013
Schlagworte:
Материаловедение в машиностроении
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80949
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления / Н.А. Василенко, А.О. Василенко // Проблемы машиностроения. — 2013. — Т. 16, № 5. — С. 55-58. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-80949
record_format dspace
spelling Василенко, Н.А.
Василенко, А.О.
2015-04-28T16:17:25Z
2015-04-28T16:17:25Z
2013
Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления / Н.А. Василенко, А.О. Василенко // Проблемы машиностроения. — 2013. — Т. 16, № 5. — С. 55-58. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
0131-2928
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80949
535.338.43.533.59
Повышение физических, механических и химических характеристик тонких нитридных пленок зависит от методов их осаждения и усовершенствования структуры, которая и определяет получаемые свойства. Методом ионной имплантации и конденсации и ионной бомбардировки получены пленки нитридов на подложках Ti, Ta, W, Mo, Ni, Si (111) и NaCl (100), изучены их физические, электрические, химические характеристики.
Підвищення фізичних, механічних і хімічних характеристик тонких нітридних плівок залежить від методів їх осадження та удосконалення структури, яка і визначає одержувані властивості. Методом іонної імплантації та конденсації іонного бомбардування отримані плівки нітридів на підкладках Ti , Ta , W , Mo , Ni , Si ( 111 ) і NaCl ( 100 ), вивчено їх фізичні, електричні, хімічні характеристики.
Improvement of physical, mechanical and chemical properties of thin nitride films depends on the methods of their deposition and improvement of the structure, which determines the obtained properties. In the production of nitride films, which are promising in solidstate microelectronics and instrument engineering, various reactive sputtering methods are widely used. For the solution of these problems, relatively new methods - ion implantation method (II) and condensation and ion bombardment (CIB) method, carried out on the "Bulat" installation are quite promising. However, films, obtained by various methods using the same initial materials, as a rule, have various characteristics. In this paper, the films of nitrides on Ti, Ta, W, Mo, Ni, Si (111) and NaCl (100) substrates were obtained by the above methods, their physical, electrical and chemical characteristics were studied. The kinetics and mechanism of build-up of the obtained film coatings were established, the growth constant was calculated. Due to the study of physicochemical properties of films, obtained by various methods it is possible to obtain film coatings with previously predicted properties.
ru
Інстиут проблем машинобудування ім. А.М. Підгорного НАН України
Проблемы машиностроения
Материаловедение в машиностроении
Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления
spellingShingle Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления
Василенко, Н.А.
Василенко, А.О.
Материаловедение в машиностроении
title_short Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления
title_full Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления
title_fullStr Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления
title_full_unstemmed Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления
title_sort сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления
author Василенко, Н.А.
Василенко, А.О.
author_facet Василенко, Н.А.
Василенко, А.О.
topic Материаловедение в машиностроении
topic_facet Материаловедение в машиностроении
publishDate 2013
language Russian
container_title Проблемы машиностроения
publisher Інстиут проблем машинобудування ім. А.М. Підгорного НАН України
format Article
title_alt Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
description Повышение физических, механических и химических характеристик тонких нитридных пленок зависит от методов их осаждения и усовершенствования структуры, которая и определяет получаемые свойства. Методом ионной имплантации и конденсации и ионной бомбардировки получены пленки нитридов на подложках Ti, Ta, W, Mo, Ni, Si (111) и NaCl (100), изучены их физические, электрические, химические характеристики. Підвищення фізичних, механічних і хімічних характеристик тонких нітридних плівок залежить від методів їх осадження та удосконалення структури, яка і визначає одержувані властивості. Методом іонної імплантації та конденсації іонного бомбардування отримані плівки нітридів на підкладках Ti , Ta , W , Mo , Ni , Si ( 111 ) і NaCl ( 100 ), вивчено їх фізичні, електричні, хімічні характеристики. Improvement of physical, mechanical and chemical properties of thin nitride films depends on the methods of their deposition and improvement of the structure, which determines the obtained properties. In the production of nitride films, which are promising in solidstate microelectronics and instrument engineering, various reactive sputtering methods are widely used. For the solution of these problems, relatively new methods - ion implantation method (II) and condensation and ion bombardment (CIB) method, carried out on the "Bulat" installation are quite promising. However, films, obtained by various methods using the same initial materials, as a rule, have various characteristics. In this paper, the films of nitrides on Ti, Ta, W, Mo, Ni, Si (111) and NaCl (100) substrates were obtained by the above methods, their physical, electrical and chemical characteristics were studied. The kinetics and mechanism of build-up of the obtained film coatings were established, the growth constant was calculated. Due to the study of physicochemical properties of films, obtained by various methods it is possible to obtain film coatings with previously predicted properties.
issn 0131-2928
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/80949
citation_txt Сопоставление физико-химических свойств нитридных пленок, полученных разными методами реактивного распыления / Н.А. Василенко, А.О. Василенко // Проблемы машиностроения. — 2013. — Т. 16, № 5. — С. 55-58. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT vasilenkona sopostavleniefizikohimičeskihsvoistvnitridnyhplenokpolučennyhraznymimetodamireaktivnogoraspyleniâ
AT vasilenkoao sopostavleniefizikohimičeskihsvoistvnitridnyhplenokpolučennyhraznymimetodamireaktivnogoraspyleniâ
AT vasilenkona comparisonofphysicochemicalpropertiesofnitridefilmsproducedbyvariousreactivesputteringmethods
AT vasilenkoao comparisonofphysicochemicalpropertiesofnitridefilmsproducedbyvariousreactivesputteringmethods
first_indexed 2025-12-07T20:27:05Z
last_indexed 2025-12-07T20:27:05Z
_version_ 1850882628391010304

Ähnliche Einträge