Получение отрицательных ионов водорода в пучково-плазменном разряде

Рассматривается возможность получения отрицательных ионов водорода при плазменном травлении углерода в водородной плазме пучково-плазменного разряда. Перспективность использования пучково-плазменного разряда для травления углерода связана с тем, что плазменное травление является одним из способов со...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2006
Main Authors: Баранов, А.E., Вострикова, Е.А., Елизаров, Л.И., Иванов, А.А., Ливадный, А.О., Пастухов, А.Н., Пташник, А.А.
Format: Article
Language:Russian
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81102
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Получение отрицательных ионов водорода в пучково-плазменном разряде / А.E. Баранов, Е.А. Вострикова, Л.И. Елизаров, А.А. Иванов, А.О. Ливадный, А.Н. Пастухов, А.А. Пташник // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 72-75. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Рассматривается возможность получения отрицательных ионов водорода при плазменном травлении углерода в водородной плазме пучково-плазменного разряда. Перспективность использования пучково-плазменного разряда для травления углерода связана с тем, что плазменное травление является одним из способов создания автоэмиссионных углеродных катодов с большой плотностью эмиссионных центров. У роботі розглядається можливість отримання негативних іонів водню при плазмовому травленні
 вуглецю у водневій плазмі пучково-плазмового розряду. Перспективність використання пучково-
 плазмового розряду для травлення вуглецю пов’язана з тим, що плазмове травлення є одним із способів
 створення автоемісійних вуглецевих катодів з високою густиною емісійних центрів. In this paper it is considered a possibility of a hydrogen negative ion obtainment at hydrogen plasma etching of
 carbon into a beam-plasma discharge. The usage perspective of beam-plasma discharge for carbon etching is connected
 with this fact that a plasma etching is one of a way on the auto emission carbon cathodes with the emission
 high density centers.
ISSN:1562-6016