Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока
Приведены результаты исследований разрядного устройства для ионизации паров твердофазных веществ, испаряемых электронной пушкой с отклонением луча на 180°. Ионизирующее разрядное устройство диодного типа размещалось над поверхностью испаряемого материала и находилось в продольном регулируемом магнит...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2006 |
| Main Author: | |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2006
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81131 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока / Е.Г. Костин // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 131-135. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862668337695162368 |
|---|---|
| author | Костин, Е.Г. |
| author_facet | Костин, Е.Г. |
| citation_txt | Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока / Е.Г. Костин // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 131-135. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Приведены результаты исследований разрядного устройства для ионизации паров твердофазных веществ, испаряемых электронной пушкой с отклонением луча на 180°. Ионизирующее разрядное устройство диодного типа размещалось над поверхностью испаряемого материала и находилось в продольном регулируемом магнитном поле. Разряд осуществлялся в скрещенных электрическом и магнитном полях. Частичная ионизация пара производилась первичными и вторичными электронами пушки в облаке пара над испаряемым веществом. Изучались электрофизические свойства и структура осаждённых из ионизированного потока плёнок. Проведен сравнительный анализ свойств пленок, осажденных в условиях воздействия бомбардировки ионами испаряемого металла в зависимости от энергии и содержания ионов в потоке частиц на подложку.
Наведені результати досліджень розрядного пристрою для іонізації пару твердофазних речовин. Випаровування речовини проводилось електронною гарматою з відхиленням проміня на 180°. Іонізуючій розрядний пристрій діодного типу розміщувався над поверхнею випаровуємого матеріалу і знаходився в продольному регулюємому магнітному полі. Таким чином розряд відбувався в схрещених електричному і магнітному полях. Часткова іонізація пару здійснювалась первинними та вторинними електронами електронної гармати в щільній парі над випаровуємою речовиною. Досліджувались електрофізичні властивості та структура плівок, осaджених з іонізованного потоку. Проведено порівняльний аналіз властивостей плівок, які осаджені в умовах впливу бомбардування іонами металу, що випаровуєтся, в залежності від енергії іонів та відносного вмісту іонів у потоці частинок на підкладину.
Results of researches of the discharge device for ionization of the vapor of solid materials are presented. Evaporation of a
material was made by an electron gun with a deviation of a beam on 180°. Diode type discharge device for ionization was placed
above a surface of evaporated metal and was in a longitudinal adjustable magnetic field. Discharge was carried out in crossed
electric and magnetic fields. Partial ionization of the vapor was made by primary and secondary electrons of the gun in a vapor
cloud above evaporated substance. Physical properties and structure of the films. The comparative analysis of the films properties,
besieged in conditions of influence of bombardment by ions of evaporated metal were studied depending on energy and the
contents of ions in a stream of particles on a substrate.
|
| first_indexed | 2025-12-07T15:24:28Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-81131 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T15:24:28Z |
| publishDate | 2006 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Костин, Е.Г. 2015-05-10T14:29:37Z 2015-05-10T14:29:37Z 2006 Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока / Е.Г. Костин // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 131-135. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. 1562-6016 PACS: 52.77.-j https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81131 Приведены результаты исследований разрядного устройства для ионизации паров твердофазных веществ, испаряемых электронной пушкой с отклонением луча на 180°. Ионизирующее разрядное устройство диодного типа размещалось над поверхностью испаряемого материала и находилось в продольном регулируемом магнитном поле. Разряд осуществлялся в скрещенных электрическом и магнитном полях. Частичная ионизация пара производилась первичными и вторичными электронами пушки в облаке пара над испаряемым веществом. Изучались электрофизические свойства и структура осаждённых из ионизированного потока плёнок. Проведен сравнительный анализ свойств пленок, осажденных в условиях воздействия бомбардировки ионами испаряемого металла в зависимости от энергии и содержания ионов в потоке частиц на подложку. Наведені результати досліджень розрядного пристрою для іонізації пару твердофазних речовин. Випаровування речовини проводилось електронною гарматою з відхиленням проміня на 180°. Іонізуючій розрядний пристрій діодного типу розміщувався над поверхнею випаровуємого матеріалу і знаходився в продольному регулюємому магнітному полі. Таким чином розряд відбувався в схрещених електричному і магнітному полях. Часткова іонізація пару здійснювалась первинними та вторинними електронами електронної гармати в щільній парі над випаровуємою речовиною. Досліджувались електрофізичні властивості та структура плівок, осaджених з іонізованного потоку. Проведено порівняльний аналіз властивостей плівок, які осаджені в умовах впливу бомбардування іонами металу, що випаровуєтся, в залежності від енергії іонів та відносного вмісту іонів у потоці частинок на підкладину. Results of researches of the discharge device for ionization of the vapor of solid materials are presented. Evaporation of a
 material was made by an electron gun with a deviation of a beam on 180°. Diode type discharge device for ionization was placed
 above a surface of evaporated metal and was in a longitudinal adjustable magnetic field. Discharge was carried out in crossed
 electric and magnetic fields. Partial ionization of the vapor was made by primary and secondary electrons of the gun in a vapor
 cloud above evaporated substance. Physical properties and structure of the films. The comparative analysis of the films properties,
 besieged in conditions of influence of bombardment by ions of evaporated metal were studied depending on energy and the
 contents of ions in a stream of particles on a substrate. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока Застосування розрядів в парі випаровуємого металу для осадження плівок з іонізованого потоку Application of discharges in vapor of evaporated metals for the film deposition from the ionized stream Article published earlier |
| spellingShingle | Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока Костин, Е.Г. Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд |
| title | Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока |
| title_alt | Застосування розрядів в парі випаровуємого металу для осадження плівок з іонізованого потоку Application of discharges in vapor of evaporated metals for the film deposition from the ionized stream |
| title_full | Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока |
| title_fullStr | Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока |
| title_full_unstemmed | Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока |
| title_short | Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока |
| title_sort | применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока |
| topic | Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд |
| topic_facet | Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81131 |
| work_keys_str_mv | AT kostineg primenenierazrâdovvparahisparâemyhmetallovdlâosaždeniâplenokizionizirovannogopotoka AT kostineg zastosuvannârozrâdívvparíviparovuêmogometaludlâosadžennâplívokzíonízovanogopotoku AT kostineg applicationofdischargesinvaporofevaporatedmetalsforthefilmdepositionfromtheionizedstream |