Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления
Исследуются сильноточные импульсные режимы работы планарной магнетронной распылительной системы (МРС) с образованием на поверхности распыляемой мишени катодных пятен. Технологические испытания показали, что скорость осаждения покрытий зависит от типа разряда в МРС, и эта зависимость в импульсных реж...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2006 |
| Автори: | , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2006
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81132 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления / А.А. Бизюков, К.Н. Середа, А.Е. Кашаба, Е.В. Ромащенко, А.Д. Чибисов, В.В. Поневчинский, В.В.Слепцов // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 136-141. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862723911179829248 |
|---|---|
| author | Бизюков, А.А. Середа, К.Н. Кашаба, А.Е. Ромащенко, Е.В. Чибисов, А.Д. Поневчинский, В.В. Слепцов, В.В. |
| author_facet | Бизюков, А.А. Середа, К.Н. Кашаба, А.Е. Ромащенко, Е.В. Чибисов, А.Д. Поневчинский, В.В. Слепцов, В.В. |
| citation_txt | Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления / А.А. Бизюков, К.Н. Середа, А.Е. Кашаба, Е.В. Ромащенко, А.Д. Чибисов, В.В. Поневчинский, В.В.Слепцов // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 136-141. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Исследуются сильноточные импульсные режимы работы планарной магнетронной распылительной системы (МРС) с образованием на поверхности распыляемой мишени катодных пятен. Технологические испытания показали, что скорость осаждения покрытий зависит от типа разряда в МРС, и эта зависимость в импульсных режимах более сильная, чем в постоянных. В осажденном покрытии не обнаружено наличие капель материала катода. Это обусловлено тем, что они испаряются под действием потоков заряженных частиц плотной плазмы. Предложена теоретическая модель, показывающая возможность испарения или уменьшения размеров определенной части капель в плазменном потоке вакуумной дуги. Показано, что эффективность испарения капельной фазы растет с увеличением плотности плазмы.
Досліджуються потужнострумові імпульсні режими роботи планарної магнетронної розпилювальної
системи (МРС) з утворенням на поверхні розпалюваної мішені катодних плям. Технологічні випробування
показали, що швидкість осадження покриттів залежить від типу розряду в МРС, і ця залежність в
імпульсних режимах більш сильна ніж у постійному. В осадженому покритті не виявлена наявність крапель
матеріалу катода. Відсутність в осадженому покритті крапель матеріалу катода, обумовлена тим, що вони
випаровуються під дією потоків заряджених частинок плазми з високою густиною. Запропоновано
теоретичну модель, яка показує можливість випаровування або зменшення розмірів певної частини крапель
в плазмовому потоці вакуумної дуги. Показано, що ефективність випаровування краплинної фази росте зі
збільшенням густини плазми.
In the article, we investigate high-current regimes with initiation of cathode spots on the sputtered surface in
planar magnetron sputtering system. The trials show that deposition rate depends on the discharge type in the system
and this dependence in pulsed regimes is stronger than in stationary ones. The deposited coating does not contain
drops of cathode material. The absence of drops is conditioned by the fact that they are evaporated under the effect
of charged particle fluxes of dense plasma. The theoretical model describing possibility of evaporation or size
decreasing of several sorts of particles in the plasma flux of vacuum arc is proposed. It was shown that efficiency of
drop evaporation increases with increasing plasma density.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:43:49Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-81132 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T18:43:49Z |
| publishDate | 2006 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Бизюков, А.А. Середа, К.Н. Кашаба, А.Е. Ромащенко, Е.В. Чибисов, А.Д. Поневчинский, В.В. Слепцов, В.В. 2015-05-10T14:31:46Z 2015-05-10T14:31:46Z 2006 Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления / А.А. Бизюков, К.Н. Середа, А.Е. Кашаба, Е.В. Ромащенко, А.Д. Чибисов, В.В. Поневчинский, В.В.Слепцов // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 136-141. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. 1562-6016 PACS: 52.80.Mg https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81132 Исследуются сильноточные импульсные режимы работы планарной магнетронной распылительной системы (МРС) с образованием на поверхности распыляемой мишени катодных пятен. Технологические испытания показали, что скорость осаждения покрытий зависит от типа разряда в МРС, и эта зависимость в импульсных режимах более сильная, чем в постоянных. В осажденном покрытии не обнаружено наличие капель материала катода. Это обусловлено тем, что они испаряются под действием потоков заряженных частиц плотной плазмы. Предложена теоретическая модель, показывающая возможность испарения или уменьшения размеров определенной части капель в плазменном потоке вакуумной дуги. Показано, что эффективность испарения капельной фазы растет с увеличением плотности плазмы. Досліджуються потужнострумові імпульсні режими роботи планарної магнетронної розпилювальної
 системи (МРС) з утворенням на поверхні розпалюваної мішені катодних плям. Технологічні випробування
 показали, що швидкість осадження покриттів залежить від типу розряду в МРС, і ця залежність в
 імпульсних режимах більш сильна ніж у постійному. В осадженому покритті не виявлена наявність крапель
 матеріалу катода. Відсутність в осадженому покритті крапель матеріалу катода, обумовлена тим, що вони
 випаровуються під дією потоків заряджених частинок плазми з високою густиною. Запропоновано
 теоретичну модель, яка показує можливість випаровування або зменшення розмірів певної частини крапель
 в плазмовому потоці вакуумної дуги. Показано, що ефективність випаровування краплинної фази росте зі
 збільшенням густини плазми. In the article, we investigate high-current regimes with initiation of cathode spots on the sputtered surface in
 planar magnetron sputtering system. The trials show that deposition rate depends on the discharge type in the system
 and this dependence in pulsed regimes is stronger than in stationary ones. The deposited coating does not contain
 drops of cathode material. The absence of drops is conditioned by the fact that they are evaporated under the effect
 of charged particle fluxes of dense plasma. The theoretical model describing possibility of evaporation or size
 decreasing of several sorts of particles in the plasma flux of vacuum arc is proposed. It was shown that efficiency of
 drop evaporation increases with increasing plasma density. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления Випаровування макрочастинок у плазмі потужнострумового імпульсного дугового розряду низького тиску Evaporation of macroparticles in plasma of high-current pulsed arc discharge at low pressure Article published earlier |
| spellingShingle | Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления Бизюков, А.А. Середа, К.Н. Кашаба, А.Е. Ромащенко, Е.В. Чибисов, А.Д. Поневчинский, В.В. Слепцов, В.В. Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд |
| title | Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления |
| title_alt | Випаровування макрочастинок у плазмі потужнострумового імпульсного дугового розряду низького тиску Evaporation of macroparticles in plasma of high-current pulsed arc discharge at low pressure |
| title_full | Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления |
| title_fullStr | Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления |
| title_full_unstemmed | Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления |
| title_short | Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления |
| title_sort | испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления |
| topic | Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд |
| topic_facet | Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81132 |
| work_keys_str_mv | AT bizûkovaa ispareniemakročasticvplazmesilʹnotočnogoimpulʹsnogodugovogorazrâdanizkogodavleniâ AT seredakn ispareniemakročasticvplazmesilʹnotočnogoimpulʹsnogodugovogorazrâdanizkogodavleniâ AT kašabaae ispareniemakročasticvplazmesilʹnotočnogoimpulʹsnogodugovogorazrâdanizkogodavleniâ AT romaŝenkoev ispareniemakročasticvplazmesilʹnotočnogoimpulʹsnogodugovogorazrâdanizkogodavleniâ AT čibisovad ispareniemakročasticvplazmesilʹnotočnogoimpulʹsnogodugovogorazrâdanizkogodavleniâ AT ponevčinskiivv ispareniemakročasticvplazmesilʹnotočnogoimpulʹsnogodugovogorazrâdanizkogodavleniâ AT slepcovvv ispareniemakročasticvplazmesilʹnotočnogoimpulʹsnogodugovogorazrâdanizkogodavleniâ AT bizûkovaa viparovuvannâmakročastinokuplazmípotužnostrumovogoímpulʹsnogodugovogorozrâdunizʹkogotisku AT seredakn viparovuvannâmakročastinokuplazmípotužnostrumovogoímpulʹsnogodugovogorozrâdunizʹkogotisku AT kašabaae viparovuvannâmakročastinokuplazmípotužnostrumovogoímpulʹsnogodugovogorozrâdunizʹkogotisku AT romaŝenkoev viparovuvannâmakročastinokuplazmípotužnostrumovogoímpulʹsnogodugovogorozrâdunizʹkogotisku AT čibisovad viparovuvannâmakročastinokuplazmípotužnostrumovogoímpulʹsnogodugovogorozrâdunizʹkogotisku AT ponevčinskiivv viparovuvannâmakročastinokuplazmípotužnostrumovogoímpulʹsnogodugovogorozrâdunizʹkogotisku AT slepcovvv viparovuvannâmakročastinokuplazmípotužnostrumovogoímpulʹsnogodugovogorozrâdunizʹkogotisku AT bizûkovaa evaporationofmacroparticlesinplasmaofhighcurrentpulsedarcdischargeatlowpressure AT seredakn evaporationofmacroparticlesinplasmaofhighcurrentpulsedarcdischargeatlowpressure AT kašabaae evaporationofmacroparticlesinplasmaofhighcurrentpulsedarcdischargeatlowpressure AT romaŝenkoev evaporationofmacroparticlesinplasmaofhighcurrentpulsedarcdischargeatlowpressure AT čibisovad evaporationofmacroparticlesinplasmaofhighcurrentpulsedarcdischargeatlowpressure AT ponevčinskiivv evaporationofmacroparticlesinplasmaofhighcurrentpulsedarcdischargeatlowpressure AT slepcovvv evaporationofmacroparticlesinplasmaofhighcurrentpulsedarcdischargeatlowpressure |