Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources

The possibilities to control ion energy distribution functions (IEDFs) and ion angle distribution functions (IADFs) on electrodes in single- and dualfrequency capacitively coupled plasma (CCP) sources are investigated by means of particle-in-cell/Monte Carlo (PIC/MCC) simulations. It is shown that...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2006
Main Authors: Manuilenko, O.V., Minaeva, K.M.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81155
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources / O.V. Manuilenko, K.M. Minaeva // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 116-121. — Бібліогр.: 16 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-81155
record_format dspace
spelling Manuilenko, O.V.
Minaeva, K.M.
2015-05-11T19:03:03Z
2015-05-11T19:03:03Z
2006
Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources / O.V. Manuilenko, K.M. Minaeva // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 116-121. — Бібліогр.: 16 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.80.-s
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81155
The possibilities to control ion energy distribution functions (IEDFs) and ion angle distribution functions (IADFs) on electrodes in single- and dualfrequency capacitively coupled plasma (CCP) sources are investigated by means of particle-in-cell/Monte Carlo (PIC/MCC) simulations. It is shown that the IEDFs can be controlled by the driven voltage and frequency in singlefrequency capacitive discharges. It is demonstrated that the IEDFs and IADFs can be controlled by the low frequency voltage in dualfrequency CCP sources.
С помощью численного моделирования методом макрочастиц изучены возможности управления функциями распределения ионов по энергиям и углам на электродах в одно- и двухчастотном источниках плазмы на основе ёмкостного разряда. Показано, что функциями распределения ионов по энергиям можно управлять с помощью амплитуды и частоты высокочастотной накачки, поддерживающей разряд в одночастотном источнике плазмы. Показано также, что функциями распределения ионов по энергиям и углам можно управлять с помощью величины амплитуды низкочастотного сигнала в источнике плазмы на основе двухчастотного ёмкостного разряда.
За допомогою числового моделювання методом макрочастинок досліджено можливості керування функціями розподілу іонів за енергіями та кутами на електродах у одно- та двухчастотних джерелах плазми на основі ємкісного розряду. Показано, що функціями розподілу іонів за енергіями можна керувати за допомогою амплітуди та частоти високочастотної накачки, яка підтримує розряд у одночастотному джерелі плазми. Показано також, що функціями розподілу іонів за енергіями та кутами можна керувати за допомогою амплітуди низькочастотного сигналу у джерелі плазми на основі двухчастотного ємкісного розряду.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд
Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
Функции распределения ионов по энергиям и углам в источниках плазмы на основе высокочастотного ёмкостного разряда
Функції розподілу іонів за енергіями та кутами у джерелах плазми на основі високочастотного ємкісного розряду
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
spellingShingle Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
Manuilenko, O.V.
Minaeva, K.M.
Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд
title_short Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
title_full Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
title_fullStr Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
title_full_unstemmed Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
title_sort ion energy and angular distributions in rf capacitively coupled plasma sources
author Manuilenko, O.V.
Minaeva, K.M.
author_facet Manuilenko, O.V.
Minaeva, K.M.
topic Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд
topic_facet Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд
publishDate 2006
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Функции распределения ионов по энергиям и углам в источниках плазмы на основе высокочастотного ёмкостного разряда
Функції розподілу іонів за енергіями та кутами у джерелах плазми на основі високочастотного ємкісного розряду
description The possibilities to control ion energy distribution functions (IEDFs) and ion angle distribution functions (IADFs) on electrodes in single- and dualfrequency capacitively coupled plasma (CCP) sources are investigated by means of particle-in-cell/Monte Carlo (PIC/MCC) simulations. It is shown that the IEDFs can be controlled by the driven voltage and frequency in singlefrequency capacitive discharges. It is demonstrated that the IEDFs and IADFs can be controlled by the low frequency voltage in dualfrequency CCP sources. С помощью численного моделирования методом макрочастиц изучены возможности управления функциями распределения ионов по энергиям и углам на электродах в одно- и двухчастотном источниках плазмы на основе ёмкостного разряда. Показано, что функциями распределения ионов по энергиям можно управлять с помощью амплитуды и частоты высокочастотной накачки, поддерживающей разряд в одночастотном источнике плазмы. Показано также, что функциями распределения ионов по энергиям и углам можно управлять с помощью величины амплитуды низкочастотного сигнала в источнике плазмы на основе двухчастотного ёмкостного разряда. За допомогою числового моделювання методом макрочастинок досліджено можливості керування функціями розподілу іонів за енергіями та кутами на електродах у одно- та двухчастотних джерелах плазми на основі ємкісного розряду. Показано, що функціями розподілу іонів за енергіями можна керувати за допомогою амплітуди та частоти високочастотної накачки, яка підтримує розряд у одночастотному джерелі плазми. Показано також, що функціями розподілу іонів за енергіями та кутами можна керувати за допомогою амплітуди низькочастотного сигналу у джерелі плазми на основі двухчастотного ємкісного розряду.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81155
citation_txt Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources / O.V. Manuilenko, K.M. Minaeva // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 116-121. — Бібліогр.: 16 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT manuilenkoov ionenergyandangulardistributionsinrfcapacitivelycoupledplasmasources
AT minaevakm ionenergyandangulardistributionsinrfcapacitivelycoupledplasmasources
AT manuilenkoov funkciiraspredeleniâionovpoénergiâmiuglamvistočnikahplazmynaosnovevysokočastotnogoemkostnogorazrâda
AT minaevakm funkciiraspredeleniâionovpoénergiâmiuglamvistočnikahplazmynaosnovevysokočastotnogoemkostnogorazrâda
AT manuilenkoov funkcíírozpodíluíonívzaenergíâmitakutamiudžerelahplazminaosnovívisokočastotnogoêmkísnogorozrâdu
AT minaevakm funkcíírozpodíluíonívzaenergíâmitakutamiudžerelahplazminaosnovívisokočastotnogoêmkísnogorozrâdu
first_indexed 2025-12-07T20:40:01Z
last_indexed 2025-12-07T20:40:01Z
_version_ 1850883442406850560