Matveeva, L., Vanger, E., & Holiney, R. (1999). Electron beam application for mechanical stress relaxation and for SI-SIO₂ interface structural regulation. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Matveeva, L.A, E.F Vanger, und R.Yu Holiney. Electron Beam Application for Mechanical Stress Relaxation and for SI-SIO₂ Interface Structural Regulation. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 1999.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Matveeva, L.A, et al. Electron Beam Application for Mechanical Stress Relaxation and for SI-SIO₂ Interface Structural Regulation. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 1999.
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.