Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния

Построена стохастическая теория кинетики аксиального каналирования ионов низких энергий, учитывающая потери полной энергии при движении иона в канале. Получено аналитическое выражение для функции деканалирования ионов. Проведено сравнение результатов расчета функции деканалирования и профиля внедрен...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2006
Автори: Братченко, М.И., Дюльдя, С.В., Бакай, А.С.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81440
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния / М.И. Братченко, С.В. Дюльдя, А.С. Бакай // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 1. — С. 179-183. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-81440
record_format dspace
spelling Братченко, М.И.
Дюльдя, С.В.
Бакай, А.С.
2015-05-15T17:04:39Z
2015-05-15T17:04:39Z
2006
Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния / М.И. Братченко, С.В. Дюльдя, А.С. Бакай // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 1. — С. 179-183. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81440
539+621.039
Построена стохастическая теория кинетики аксиального каналирования ионов низких энергий, учитывающая потери полной энергии при движении иона в канале. Получено аналитическое выражение для функции деканалирования ионов. Проведено сравнение результатов расчета функции деканалирования и профиля внедрения ионов бора различных энергий, падающих на кристалл кремния в направлении <100>, с результатами компьютерного моделирования и экспериментальными данными, и получено хорошее качественное и количественное согласие.
Побудовано стохастичну теорію кінетики аксіального каналювання іонів низьких енергій з урахуванням втрат повної енергії при русі іона в каналі. Отримано аналітичний вираз для функції деканалювання іонів. Проведено порівняння результатів розрахунку функції деканалювання та профілю залягання іонів бору різних енергій, що падають на кристал кремнію в напрямку <100>, з результатами комп'ютерного моделювання та експериментальними даними, і отримано добре якісне та кількісне узгодження.
The stochastic theory of kinetics of axial channeling of low energies ions has been built taking into account the energy losses of ions in a channel. The analytical expression for the dechanneling function of ions has been obtained. The dechanneling fucntions and dopant profiles of boron ions of various energies implanted into the silicon single crystal along the <100> direction have been calculation both analytically and by means of the computer simulation method and good qualitative and quantitative agreement between the results of calculations and the experimental SIMS data has been achieved.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Работы молодых ученых института физики твердого тела, материаловедения и технологий ННЦ ХФТИ
Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния
Теорія і моделювання імплантації іонів бора в монокристали кремнію
Theory and modeling of ion implantation boron in si monocrystal
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния
spellingShingle Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния
Братченко, М.И.
Дюльдя, С.В.
Бакай, А.С.
Работы молодых ученых института физики твердого тела, материаловедения и технологий ННЦ ХФТИ
title_short Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния
title_full Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния
title_fullStr Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния
title_full_unstemmed Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния
title_sort теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния
author Братченко, М.И.
Дюльдя, С.В.
Бакай, А.С.
author_facet Братченко, М.И.
Дюльдя, С.В.
Бакай, А.С.
topic Работы молодых ученых института физики твердого тела, материаловедения и технологий ННЦ ХФТИ
topic_facet Работы молодых ученых института физики твердого тела, материаловедения и технологий ННЦ ХФТИ
publishDate 2006
language Russian
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Теорія і моделювання імплантації іонів бора в монокристали кремнію
Theory and modeling of ion implantation boron in si monocrystal
description Построена стохастическая теория кинетики аксиального каналирования ионов низких энергий, учитывающая потери полной энергии при движении иона в канале. Получено аналитическое выражение для функции деканалирования ионов. Проведено сравнение результатов расчета функции деканалирования и профиля внедрения ионов бора различных энергий, падающих на кристалл кремния в направлении <100>, с результатами компьютерного моделирования и экспериментальными данными, и получено хорошее качественное и количественное согласие. Побудовано стохастичну теорію кінетики аксіального каналювання іонів низьких енергій з урахуванням втрат повної енергії при русі іона в каналі. Отримано аналітичний вираз для функції деканалювання іонів. Проведено порівняння результатів розрахунку функції деканалювання та профілю залягання іонів бору різних енергій, що падають на кристал кремнію в напрямку <100>, з результатами комп'ютерного моделювання та експериментальними даними, і отримано добре якісне та кількісне узгодження. The stochastic theory of kinetics of axial channeling of low energies ions has been built taking into account the energy losses of ions in a channel. The analytical expression for the dechanneling function of ions has been obtained. The dechanneling fucntions and dopant profiles of boron ions of various energies implanted into the silicon single crystal along the <100> direction have been calculation both analytically and by means of the computer simulation method and good qualitative and quantitative agreement between the results of calculations and the experimental SIMS data has been achieved.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81440
citation_txt Теория и моделирование имплантации ионов бора в монокристаллы кремния / М.И. Братченко, С.В. Дюльдя, А.С. Бакай // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 1. — С. 179-183. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT bratčenkomi teoriâimodelirovanieimplantaciiionovboravmonokristallykremniâ
AT dûlʹdâsv teoriâimodelirovanieimplantaciiionovboravmonokristallykremniâ
AT bakaias teoriâimodelirovanieimplantaciiionovboravmonokristallykremniâ
AT bratčenkomi teoríâímodelûvannâímplantacíííonívboravmonokristalikremníû
AT dûlʹdâsv teoríâímodelûvannâímplantacíííonívboravmonokristalikremníû
AT bakaias teoríâímodelûvannâímplantacíííonívboravmonokristalikremníû
AT bratčenkomi theoryandmodelingofionimplantationboroninsimonocrystal
AT dûlʹdâsv theoryandmodelingofionimplantationboroninsimonocrystal
AT bakaias theoryandmodelingofionimplantationboroninsimonocrystal
first_indexed 2025-12-07T20:51:32Z
last_indexed 2025-12-07T20:51:32Z
_version_ 1850884166332186624