Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя

Теоретически исследовано возбуждение СВЧ-колебаний электронным пучком в коаксиальной линии передачи с гребенками на внутренних и внешних проводниках. Пролётный канал структуры, где распространяется кольцевой электронный пучок , полностью заполнен плазмой. Исследованы собственные волны плазмозаполнен...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2000
1. Verfasser: Сотников, Г.В.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81601
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя / Г.В. Сотников // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 1. — С. 22-26. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-81601
record_format dspace
spelling Сотников, Г.В.
2015-05-18T12:26:13Z
2015-05-18T12:26:13Z
2000
Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя / Г.В. Сотников // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 1. — С. 22-26. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81601
621.385.69.01
Теоретически исследовано возбуждение СВЧ-колебаний электронным пучком в коаксиальной линии передачи с гребенками на внутренних и внешних проводниках. Пролётный канал структуры, где распространяется кольцевой электронный пучок , полностью заполнен плазмой. Исследованы собственные волны плазмозаполненной коаксиальной линии и их зависимость от плотности плазмы. Показано, что плазма приводит к существенному увеличению усиления и в то же самое время приводит к уширению возбуждаемого спектра колебаний. Проведен нелинейный анализ усиления колебаний. Определены максимальная амплитуда продольного электрического поля, эффективность взаимодействия, оптимальные длины структур для различных плотностей плазмы. Сравнение указанных характеристик с аналогичными для вакуумной структуры показывает преимущество плазмозаполненной гибридной структуры перед вакуумной.
В заключение автор выражает благодарность Корнилову Е.А. за обсуждение результатов и Маркову П.И. за помощь при проведении расчётов.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Релятивистская плазменная элeктрoника
Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
spellingShingle Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
Сотников, Г.В.
Релятивистская плазменная элeктрoника
title_short Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
title_full Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
title_fullStr Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
title_full_unstemmed Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
title_sort амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
author Сотников, Г.В.
author_facet Сотников, Г.В.
topic Релятивистская плазменная элeктрoника
topic_facet Релятивистская плазменная элeктрoника
publishDate 2000
language Russian
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
description Теоретически исследовано возбуждение СВЧ-колебаний электронным пучком в коаксиальной линии передачи с гребенками на внутренних и внешних проводниках. Пролётный канал структуры, где распространяется кольцевой электронный пучок , полностью заполнен плазмой. Исследованы собственные волны плазмозаполненной коаксиальной линии и их зависимость от плотности плазмы. Показано, что плазма приводит к существенному увеличению усиления и в то же самое время приводит к уширению возбуждаемого спектра колебаний. Проведен нелинейный анализ усиления колебаний. Определены максимальная амплитуда продольного электрического поля, эффективность взаимодействия, оптимальные длины структур для различных плотностей плазмы. Сравнение указанных характеристик с аналогичными для вакуумной структуры показывает преимущество плазмозаполненной гибридной структуры перед вакуумной.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81601
citation_txt Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя / Г.В. Сотников // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 1. — С. 22-26. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT sotnikovgv amplitudnočastotnyeharakteristikikoaksialʹnogoplazmennogousilitelâ
first_indexed 2025-11-24T18:05:09Z
last_indexed 2025-11-24T18:05:09Z
_version_ 1850491548776529920
fulltext ВОПРОСЫ АТОМНОЙ НАУКИ И ТЕХНИКИ 2000. №1. Серия: Плазменная электроника и новые методы ускорения (2), с. 22-26. 22 УДК 621.385.69.01 АПЛИТУДНО-ЧАСТОТНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ КОАКСИАЛЬНОГО ПЛАЗМЕННОГО УСИЛИТЕЛЯ Г.В.Сотников Национальный научный центр “ Харьковский физико-технический институт” Харьков, Украина, E-mail: sotnikov@kipt.kharkov.ua Теоретически исследовано возбуждение СВЧ-колебаний электронным пучком в коаксиальной линии передачи с гребенками на внутренних и внешних проводниках. Пролётный канал структу- ры, где распространяется кольцевой электронный пучок , полностью заполнен плазмой. Исследо- ваны собственные волны плазмозаполненной коаксиальной линии и их зависимость от плотности плазмы. Показано, что плазма приводит к существенному увеличению усиления и в то же самое время приводит к уширению возбуждаемого спектра колебаний. Проведен нелинейный анализ усиления колебаний. Определены максимальная амплитуда продольного электрического поля, эффективность взаимодействия, оптимальные длины структур для различных плотностей плазмы. Сравнение указанных характеристик с аналогичными для вакуумной структуры показывает пре- имущество плазмозаполненной гибридной структуры перед вакуумной. 1. Введение Вакуумная замедляющая структура может приоб- рести хорошо известные черты гибридности при за- полнении области взаимодействия (пролётного кана- ла, в котором распространяется электронный пучок) плазмой. Принципы плазменной замедляющей струк- туры впервые изложены в [1,2]. В результате запол- нения пролётного канала плазмой продольная компо- нента электрического поля сильно возрастает, что приводит к увеличению коэффициента связи, а следо- вательно, коэффициента усиления волны. При этом, если реализованы условия, взаимодействие осуществ- ляется с собственными волнами вакуумной структу- ры, генерируется большой поток СВЧ-мощности. Экспериментальные исследования [3,4,5] подтверди- ли теоретические предсказания перспективности гиб- ридных замедляющих структур для создания на их основе мощных усилителей и генераторов. Следует напомнить, что первые исследования гиб- ридных плазменных структур были выполнены с ис- пользованием вакуумных замедляющих структур ти- па цепочка связанных резонаторов (ЦСР). Условия для возбуждения СВЧ-колебаний в такой гибридной структуре являются оптимальными, когда синхронная частота возбуждаемых колебаний равна плазменной. Таким образом, для данной плотности плазмы возбу- ждается узкий (порядка инкремента) спектр колеба- ний. Авторами [6] высказано предположение, что при заполнении вакуумной структуры, в которой сущест- вует замедленная кабельная волна с широкой полосой пропускания, плазмой возможно сохранить широкую полосу усиления колебаний и одновременно увели- чить коэффициенты усиления. В данной работе исследованы амплитудно- частотные характеристики (АЧХ) усилителя на осно- ве коаксиальной диафрагмированной линии с диа- фрагмами на внутреннем и внешнем цилиндрах и за- полненным плазмой пролётным каналом. Линейная и нелинейная теория усилителя на основе вакуумной структуры докладывалась на конференциях “Crimico’97”[7], “Beams’98”, опубликована в их тру- дах и [9]. Показано, что в такой структуре СВЧ- колебания, действительно, можно возбуждать в ши- роком частотном диапазоне. Ниже будут исследованы изменения дисперсионных характеристик, коэффици- ентов усиления, амплитуд колебаний в результате заполнения пролетного канала коаксиальной замед- ляющей линии плазмой. Следует отметить, что авто- ры [6] выполнили предварительные исследования коэффициентов усиления и сопротивлений связи в плазмонаполненной коаксиальной линии с дисками на внутреннем проводнике. Как продемонстрировано, плазма может существенно изменить электродинами- ческие характеристики замедляющей структуры, если поперечный размер пролётного канала сравним с длиной волны усиливаемых колебаний или больше её. Это обусловлено поверхностным характером резо- нансной волны (рассматривается взаимодействие электронного пучка с нулевой пространственной гар- моникой кабельной моды). Плазма может существен- но изменить картину только в случае очень высоких плотностей плазмы. 2. Линейный режим Замедляющая структура представляет собой коак- сиальную линию с внутренним и внешним радиусами цилиндров ρ и b соответственно и с дисками на обоих проводниках. Плазма плотности pn полностью заполняет пролётный канал с внутренним радиусом σ и внешним радиусом a . В этом канале распростра- няется тонкий электронный пучок, его радиус − br , скорость − 0v , ток - bI . Период структуры − D , ши- рина резонаторов одинакова и равна d . Внутренняя структура может быть смещена относительно внеш- ней на произвольное расстояние l . В линейном приближении дисперсионное уравне- ние, описывающее возбуждение монохроматической волны электронным пучком, может быть получено методом частичных областей. В данном случае ус- ловно разобьём замедляющую структуру на четыре области: I− σρ ≤≤ r , II − brr ≤≤σ , III − arrb ≤≤ , IV − bra ≤≤ . В каждой из областей необходимо найти решение уравнений Максвелла с точностью до произвольных констант и сшить на общих границах. mailto:sotnikov@kipt.kharkov.ua 23 Вследствие периодичности замедляющей структуры возмущения всех величин в пролётном канале имеют зависимость ∑ ∞= −∞= −= m m mm )tiziexp(XX ωβ , (1) где D/mm πββ 20 += , ω − частота волны, ось z направлена вдоль структуры. В резонаторной об- ласти ограничимся основной пространственной гар- моникой стоячей волны. Граничные условия состоят в равенстве нулю тангенциальных компонент электри- ческого поля на металлических поверхностях, непре- рывности тангенциальных компонент электрического и магнитного полей на границах раздела пролётного канала и резонаторов. Компоненты электрического rE и магнитного полей ϕH на пучке испытывают разрыв, величина которого пропорциональна току пучка: )r(E rmcv)v( Ie iHH bm,z bm bIIIII m,m, 0 3 0 2 0 2 γβω ω ϕϕ − =− , (2) где 22 00 11 c/v/ −=γ . Для улучшения сходимости метода следует учесть квазистатическую особенность тангенциального элек- трического поля вблизи острых углов диафрагм (10):    << < == = 220 21 /D|z|/d, /d|z|,M EE r II z I z σ , (3)     <−< <− == = .2/||2/,0 2/||),exp( 01 Dlzd dlzliM EE ar IV z III z β (4) В выражениях (3)-(4) предполагается, что начало про- дольной координате 0=z соответствует середина внутреннего резонатора. Проделав вышеописанную процедуру, придём к дисперсионному уравнению: ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) 0 0 1 2 3 0 1 2 3 2 2 0 1 0 0 1 2 0 2 0 1 2 3 0 1 0 0 1 2 0 2 0 1 2 3 0 0 =× ××− −    −   × × −    −   × ×    −   × × −    −    ⊥ ⊥ ∞ −∞= − ⊥ ⊥ ⊥ ∞ −∞= ⊥ ⊥ ⊥ ⊥ ∞ −∞= ⊥ ⊥ ⊥ ⊥ ⊥ ⊥ ∞ −∞= ⊥ ⊥ ⊥ ∑ ∑ ∑ ∑ σ σ ∆ ψε σ∆ ψε ρσ ρσ σ σσ βω α σ σ ∆ ψε σ σ βω α σ σ ∆ ψε φ φ ,a,kF a,,kFe k k a,,kF a,a,kFe k k D d ,,kF ,,kF ,a,kF ,r,kFr,,kF va,,kF a,,kF k k D d b,a,kF b,a,kF ,a,kF ,r,kFr,a,kF v,a,kF ,a,kF k k D d m m m im m m m m m m im m m m m bm bm m m m m m m m m m bm bm m m m m m m m m (5) В дисперсионном уравнении (5) введены обозначе- ния: ,)k(k,m/ne,/ ),qy(J)qx(Y)qy(Y)qx(J)y,x,q(F smmppp nnnn εβπωωωε 222222 3 0 41 −==−= −= ⊥ ,кАI, v )k(c I I , ),a,k(F )r,k(F )v( )ar,k(F ),/d/()/dsin(,D/l,c/k A m A b m m ,bm m ,bmm m mmm 17 1 222 00 223 2 0 0 2 0 0 2 0 = − = ⋅ − += === ⊥ ⊥⊥ γ βπ α σ σ βω α ∆ ββΨπφω nJ , nY − функции Бесселя и Вебера n -го порядка. Численное решение дисперсионного уравнения (5) было выполнено для значений параметров структуры и пучка, которые используются в эксперименте, про- веденным в ННЦ ХФТИ[11]: см.b 35= , см.a 04= , см.53=σ , см.91=ρ , см.D 70= , см.d 50= , 00 =φ , см.rb 63= , A.Ib 05= , кэВWb 35= . На рис.1 представлены дисперсионные зависимости ва- куумной замедляющей структуры, а на рис.2 − плаз- монаполненной замедляющей структуры ( 3111081 −⋅= см,n p ). Данная плотность плазмы соответст- вует случаю, когда плазменная частота πω 2/f pp = Рис.1. Действительная ( 0βRe ) и мнимая часть ( 0βIm ) продольного волнового числа вакуумной коак- сиальной замедляющей структуры с пучком как функция частоты 24 Рис.2. Действительная( 0βRe ) и мнимая часть ( 0βIm ) продольного волнового числа плазмонапол- ненной коаксиальной замедляющей структуры с пуч- ком как функция частоты перекрывает верхнюю частоту отсечки коаксиальной моды. Как следует из сравнения рис.1 и рис.2 присут- ствие плазмы в пролётном канале приводит к ушире- нию полосы усиления примерно на 10% с одновре- менным увеличением коэффициента усиления при- мерно на 10%. На рис.3 представлены графики максимума коэф- фициента усиления и частоты, соответствующей это- му максимуму, как функции плотности плазмы. На исследуемом интервале частот коэффициент усиления растёт почти линейно с увеличением плотности плаз- мы. Такой характер поведения коэффициента усиле- ния , по всей видимости, можно объяснить линейным ростом резонансной с пучком волны при увеличении плотности плазмы и уменьшением её групповой ско- рости. Поперечная структура продольного электрическо- го поля кабельной волны, с которой взаимодействует электронный пучок, антисимметрична для нулевой пространственной гармоники. Следовательно, коэф- фициент усиления должен стремиться к нулю, когда радиус электронного пучка в точности равен положе- нию нуля продольного электрического поля. Это по- казано на рис.4, где приведены зависимости макси- мума коэффициента усиления от радиуса пучка для первой и второй полос прозрачности. Во второй поло- се прозрачности коэффициент усиления монотонно возрастает при перемещении электронного пучка от внутренней границы пролётного канала к внешней. 0 2 4 6 8 10 12 14 0,08 0,10 0,12 0,14 0,16 np × 10 -11, cm -1 Im(β0 ), см -1 0 2 4 6 8 10 12 14 2,5 3,0 3,5 4,0 4,5 5,0 np × 10 -11, cm -1 f, GHz Рис.3. Максимальный коэффициент усиления и час- тота волны, соответствующая этому максимуму, как функция плотности плазмы 3,5 3,6 3,7 3,8 3,9 4,0 0,00 0,01 0,02 0,03 0,04 1 Ib=0,01A 2 Im β0 , см -1 rb , см Рис.4. Максимум коэффициента усиления в пер- вой(1) и второй(2) полосе прозрачности как функция радиуса пучка Важным параметром, характеризующим свойства замедляющей системы, является волновое сопротив- ление, определяемое обычно в СВЧ-электронике сле- дующим образом [12]: PldE 2 1 w 2 2 ∫=ρ , (6) 25 где криволинейный интеграл вычисляется между точ- ками на проводящих поверхностях линии, лежащими в плоскости поперечного сечения системы, P − поток энергии в замедляющей системе. Применительно к нашему случаю, расчётная формула для волнового сопротивления имеет вид: )Ом(rdrHEdrE a r a rw ∫∫ ∗= σ ϕ σ ρ 2 60 . (7) Рис.5. Волновое сопротивление коаксиальной замед- ляющей структуры как функция частоты для раз- личных плотностей плазмы. На рис.5 изображены зависимости волнового со- противления коаксиальной замедляющей линии от частоты для различных плотностей плазмы. Как сле- дует из приведенных зависимостей, волновое сопро- тивление структуры изменяется слабо при заполнении ей плазмой, т.е. остаётся почти постоянным в основ- ной полосе пропускания. Последнее обстоятельство позволяет надеяться на хорошее согласование плаз- менного усилителя с входным генератором. 3. Нелинейный режим Для исследования нелинейной стадии взаимодей- ствия между электронным пучком и собственными волнами коаксиальной замедляющей линии передачи будем исходить из уравнения для усреднённой по поперечному сечению амплитуды продольного элек- трического поля E dE dz i E I R ie d+ − = z( ) /β β β θ θ π πe b св 0 0 0 2 0 0 2 2 (8) и уравнений движения для частиц пучка dv z dz e mv v z c E i( ) ( ) / Re( )( )= − −1 3 22 2 θ , d dz v z θ ω β = − 0 1 ( ) . (9) В уравнениях (8)-(9) введены обозначения: β ωe v= / 0 , ω и β0 - частота и продольное волновое число волны, Ib - ток пучка, v - скорость электронов пучка. Сопротивление связи Rсв 0 определено сле- дующим образом: ∑ ∫ ∞ −∞= ∗ = m S m,m,r b,z ‰– dSHEc )r(E R ϕβ π 2 0 2 00 2 , (10 где S - поперечное сечение пролётного канала, rb - радиус электронного пучка, ,E m,z ,E m,r ,H m,ϕ - компоненты электромагнитного поля собственной волны гибридной структуры в отсутствие пучка. На рис. 6-9 представлены результаты численного решения системы уравнений (1)-(3). Для численных расчётов взяты параметры экспериментальной уста- новки [11], приведенные выше. 0 1 2 3 4 5 0 2 4 6 8 10 np = 0 np = 1.8⋅1011см-3 np = 7.2⋅1011см-3 f, ГГц R0 св , Ω Рис.6. Сопротивление связи коаксиальной замедляю- щей структуры как функция частоты для различных плотностей плазмы На рис.6 приведены зависимости сопротивления связи для плотностей плазмы -311 p см 108,1n ⋅= и 311 p см102,7n −⋅= от частоты. По сравнению с ваку- умным случаем сопротивление связи для плазмоза- полненной замедляющей линии передачи немного меньше на значительной части частотного интервала, но максимальное значение сопротивления связи в плазменном варианте выше, чем для вакуумной за- медляющей структуры. На рис.7 приведены зависимости амплитуды про- дольного электрического поля от длины замедляющей структуры. Частота и волновой вектор в каждом слу- чае соответствуют максимуму усиления в линейном режиме. Если плотность плазмы равна -3см11108,1 ⋅ , амплитуда насыщения продольного электрического поля равна 1,42 кВ/см, оптимальная длина структуры равна 43,6 см. Для плотности плазмы 7 2 1011, ⋅ см -3 ам- плитуда насыщения равна 1,93 КВ/см, оптимальная длина гибридной структуры равна 34,8 см. В вакуум- ном случае аналогичные характеристики составляют 1,3 кВ/см и 48см. Семейство зависимостей продольного электриче- ского поля от длины структуры для различных собст- венных частот приведено на рис.8 для вакуумной и на 0 1 2 3 4 5 5 10 15 20 n p = 0 np = 1.8⋅1011cm-3 n p = 7.2⋅1011cm-3 f, ГГц ρ w , Ω 26 рис.9 для плазмозаполненной ( -311 p см108,1n ⋅= ) структур. Нелинейное численное моделирование под- тверждает выводы линейной теории о расширении 0 20 40 60 80 100 120 0,0 0,2 0,4 0,6 0,8 1 ,0 1 ,2 1 ,4 1 ,6 1 ,8 2,0 n p = 0 n p = 1 .8⋅ 1011см -3 n p = 7.2⋅ 1011см -3 E , кВ /см z, см Рис.7. Амплитуда продольного электрического поля как функция длины структуры для различных плот- ностей плазмы 0 20 40 60 80 100 120 1,0 1,5 2,0 2,5 3,0 0,0 0,5 1,0 1,5 2,0 f, ГГц E, к В/ см z, см Рис.8. Амплитуда продольного электрического поля в зависимости от частоты волны и длины коаксиаль- ного вакуумного усилителя 0 20 40 60 80 100 120 1,0 1,5 2,0 2,5 3,0 0,0 0,5 1,0 1,5 2,0 2,5 f, ГГц E, к В/ см z, см Рис.9.Амплитуда продольного электрического поля в зависимости от частоты волны и длины плазменного коаксиального усилителя полосы возбуждаемых частот и увеличении усиления в результате заполнения канала взаимодействия ваку- умной замедляющей структуры плазмой. В заключение автор выражает благодарность Кор- нилову Е.А. за обсуждение результатов и Марко- ву П.И. за помощь при проведении расчётов. 4. Литература 1. Я.Б.Файнберг, Ю.П.Блиох, Е.А.Корнилов и др. Электродинамика гибридных плазменно- волноводных замедляющих структур // Доклады АН УССР. Физ.-мат. и тех. Науки. 1990, № 11, с. 55. 2. Я.Б.Файнберг, Ю.П.Блиох, М.Г.Любарский и др. Электродинамика гибридных плазменно- волноводных замедляющих структур. // Физика плаз- мы. 1994, т.20, с. 757 3. А.Н.Антонов, Ю.П.Блиох, Ю.А.Дегтярь и др. Пучково-плазменный генератор, основанный на взаи- модействии электронного пучка с плазменно- волноводной структурой, ограниченной цепочкой индуктивно связанных резонаторов // Физика плазмы. 1994, т. 20, с.777. 4. М.А.Завьялов, В.О.Мартынов, Л.А.Митин и др. Мощный пучко-плазменный усилитель. // IV Симпо- зиум по сильноточной электронике: Тез. докл.: Рос- сия. 1992, с.132. 5. Y.Carmel, K.Miami, R.A.Kohs et.al. Demonstration efficiency enhancement in high-power backward-wave oscillator by plasma injection // Phys. Rev. Lett. 1989. vol.62, p.2389. 6. Е.О.Корнілов, О.М.Коростельов, О.В.Лодигин и др. Електродинамiка гiбридної сповiльнюючої струк- тури типу дiафрагмованої коаксiальної лiнiї заповне- ної // УФЖ. 1995, т.40, с.312. 7. Е.А.Корнилов, П.И.Марков, Г.В.Сотников. Воз- буждение широкого спектра колебаний электронным пучком в коаксиальной замедляющей линии. Труды 7-й Межд. Крымской конф. “СВЧ-техника и телеком- муникационные технологии”. 1997, т.2, с. 427. 8. E.A.Kornikov, P.I.Markov, G.V.Sotnikov. Excitation of broadband oscillations by electron beam in coaxial disk loaded transmission line. // Proc. of 12th Int. Conf. on High Power Particle Beams . 1998, vol.1, p.877. 9. Г.В.Сотников. Возбуждение широкого спектра колебаний электронным пучком в коаксиальной за- медляющей линии // Электромагнитные явления. 1998, т.1, с.383. 10. М.Ф.Стельмах, Е.Б.Ольдерогге. Распространени электромагнитных волн в диафрагмированныз замед- ляющих системах с кольцевыми щелями // Радиотех- ника и электроника. 1959, т.4, с.980. 11. В.С.Антипов, В.И.Карпухин, Е.А.Корнилов, Л.А.Логинов Генератор СВЧ-колебаний с гибридной замедляющей структурой и плазменным эмиттером // Труды 8-й Межд. Крымской конф. “СВЧ-техника и телекоммуникационные технологии”. 1998, т2, с. 749. 12. А.Д.Григорьев, В.Б.Янкевич. Резонаторы и резо- наторные замедляющие системы СВЧ //Радио и связь. 1984. Ã.Â.Ñîòíèêîâ Íàöèîíàëüíûé íàó÷íûé öåíòð “ Õàðüêîâñêèé ôèçèêî-òåõíè÷åñêèé èíñòèòóò”