Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя

Теоретически исследовано возбуждение СВЧ-колебаний электронным пучком в коаксиальной линии передачи с гребенками на внутренних и внешних проводниках. Пролётный канал структуры, где распространяется кольцевой электронный пучок , полностью заполнен плазмой. Исследованы собственные волны плазмозаполнен...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2000
Автор:	Сотников, Г.В.
Формат:	Стаття
Мова:	Russian
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
Назва видання:	Вопросы атомной науки и техники
Теми:	Релятивистская плазменная элeктрoника
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81601
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя / Г.В. Сотников // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 1. — С. 22-26. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

id	nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-81601
record_format	dspace
spelling	nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-816012025-02-23T19:45:35Z Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя Сотников, Г.В. Релятивистская плазменная элeктрoника Теоретически исследовано возбуждение СВЧ-колебаний электронным пучком в коаксиальной линии передачи с гребенками на внутренних и внешних проводниках. Пролётный канал структуры, где распространяется кольцевой электронный пучок , полностью заполнен плазмой. Исследованы собственные волны плазмозаполненной коаксиальной линии и их зависимость от плотности плазмы. Показано, что плазма приводит к существенному увеличению усиления и в то же самое время приводит к уширению возбуждаемого спектра колебаний. Проведен нелинейный анализ усиления колебаний. Определены максимальная амплитуда продольного электрического поля, эффективность взаимодействия, оптимальные длины структур для различных плотностей плазмы. Сравнение указанных характеристик с аналогичными для вакуумной структуры показывает преимущество плазмозаполненной гибридной структуры перед вакуумной. В заключение автор выражает благодарность Корнилову Е.А. за обсуждение результатов и Маркову П.И. за помощь при проведении расчётов. 2000 Article Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя / Г.В. Сотников // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 1. — С. 22-26. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81601 621.385.69.01 ru Вопросы атомной науки и техники application/pdf Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection	DSpace DC
language	Russian
topic	Релятивистская плазменная элeктрoника Релятивистская плазменная элeктрoника
spellingShingle	Релятивистская плазменная элeктрoника Релятивистская плазменная элeктрoника Сотников, Г.В. Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя Вопросы атомной науки и техники
description	Теоретически исследовано возбуждение СВЧ-колебаний электронным пучком в коаксиальной линии передачи с гребенками на внутренних и внешних проводниках. Пролётный канал структуры, где распространяется кольцевой электронный пучок , полностью заполнен плазмой. Исследованы собственные волны плазмозаполненной коаксиальной линии и их зависимость от плотности плазмы. Показано, что плазма приводит к существенному увеличению усиления и в то же самое время приводит к уширению возбуждаемого спектра колебаний. Проведен нелинейный анализ усиления колебаний. Определены максимальная амплитуда продольного электрического поля, эффективность взаимодействия, оптимальные длины структур для различных плотностей плазмы. Сравнение указанных характеристик с аналогичными для вакуумной структуры показывает преимущество плазмозаполненной гибридной структуры перед вакуумной.
format	Article
author	Сотников, Г.В.
author_facet	Сотников, Г.В.
author_sort	Сотников, Г.В.
title	Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
title_short	Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
title_full	Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
title_fullStr	Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
title_full_unstemmed	Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
title_sort	амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя
publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate	2000
topic_facet	Релятивистская плазменная элeктрoника
url	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81601
citation_txt	Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя / Г.В. Сотников // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 1. — С. 22-26. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
series	Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv	AT sotnikovgv amplitudnočastotnyeharakteristikikoaksialʹnogoplazmennogousilitelâ
first_indexed	2025-11-24T18:05:09Z
last_indexed	2025-11-24T18:05:09Z
_version_	1849695938519498752
fulltext	ВОПРОСЫ АТОМНОЙ НАУКИ И ТЕХНИКИ 2000. №1. Серия: Плазменная электроника и новые методы ускорения (2), с. 22-26. 22 УДК 621.385.69.01 АПЛИТУДНО-ЧАСТОТНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ КОАКСИАЛЬНОГО ПЛАЗМЕННОГО УСИЛИТЕЛЯ Г.В.Сотников Национальный научный центр “ Харьковский физико-технический институт” Харьков, Украина, E-mail: sotnikov@kipt.kharkov.ua Теоретически исследовано возбуждение СВЧ-колебаний электронным пучком в коаксиальной линии передачи с гребенками на внутренних и внешних проводниках. Пролётный канал структу- ры, где распространяется кольцевой электронный пучок , полностью заполнен плазмой. Исследо- ваны собственные волны плазмозаполненной коаксиальной линии и их зависимость от плотности плазмы. Показано, что плазма приводит к существенному увеличению усиления и в то же самое время приводит к уширению возбуждаемого спектра колебаний. Проведен нелинейный анализ усиления колебаний. Определены максимальная амплитуда продольного электрического поля, эффективность взаимодействия, оптимальные длины структур для различных плотностей плазмы. Сравнение указанных характеристик с аналогичными для вакуумной структуры показывает пре- имущество плазмозаполненной гибридной структуры перед вакуумной. 1. Введение Вакуумная замедляющая структура может приоб- рести хорошо известные черты гибридности при за- полнении области взаимодействия (пролётного кана- ла, в котором распространяется электронный пучок) плазмой. Принципы плазменной замедляющей струк- туры впервые изложены в [1,2]. В результате запол- нения пролётного канала плазмой продольная компо- нента электрического поля сильно возрастает, что приводит к увеличению коэффициента связи, а следо- вательно, коэффициента усиления волны. При этом, если реализованы условия, взаимодействие осуществ- ляется с собственными волнами вакуумной структу- ры, генерируется большой поток СВЧ-мощности. Экспериментальные исследования [3,4,5] подтверди- ли теоретические предсказания перспективности гиб- ридных замедляющих структур для создания на их основе мощных усилителей и генераторов. Следует напомнить, что первые исследования гиб- ридных плазменных структур были выполнены с ис- пользованием вакуумных замедляющих структур ти- па цепочка связанных резонаторов (ЦСР). Условия для возбуждения СВЧ-колебаний в такой гибридной структуре являются оптимальными, когда синхронная частота возбуждаемых колебаний равна плазменной. Таким образом, для данной плотности плазмы возбу- ждается узкий (порядка инкремента) спектр колеба- ний. Авторами [6] высказано предположение, что при заполнении вакуумной структуры, в которой сущест- вует замедленная кабельная волна с широкой полосой пропускания, плазмой возможно сохранить широкую полосу усиления колебаний и одновременно увели- чить коэффициенты усиления. В данной работе исследованы амплитудно- частотные характеристики (АЧХ) усилителя на осно- ве коаксиальной диафрагмированной линии с диа- фрагмами на внутреннем и внешнем цилиндрах и за- полненным плазмой пролётным каналом. Линейная и нелинейная теория усилителя на основе вакуумной структуры докладывалась на конференциях “Crimico’97”[7], “Beams’98”, опубликована в их тру- дах и [9]. Показано, что в такой структуре СВЧ- колебания, действительно, можно возбуждать в ши- роком частотном диапазоне. Ниже будут исследованы изменения дисперсионных характеристик, коэффици- ентов усиления, амплитуд колебаний в результате заполнения пролетного канала коаксиальной замед- ляющей линии плазмой. Следует отметить, что авто- ры [6] выполнили предварительные исследования коэффициентов усиления и сопротивлений связи в плазмонаполненной коаксиальной линии с дисками на внутреннем проводнике. Как продемонстрировано, плазма может существенно изменить электродинами- ческие характеристики замедляющей структуры, если поперечный размер пролётного канала сравним с длиной волны усиливаемых колебаний или больше её. Это обусловлено поверхностным характером резо- нансной волны (рассматривается взаимодействие электронного пучка с нулевой пространственной гар- моникой кабельной моды). Плазма может существен- но изменить картину только в случае очень высоких плотностей плазмы. 2. Линейный режим Замедляющая структура представляет собой коак- сиальную линию с внутренним и внешним радиусами цилиндров ρ и b соответственно и с дисками на обоих проводниках. Плазма плотности pn полностью заполняет пролётный канал с внутренним радиусом σ и внешним радиусом a . В этом канале распростра- няется тонкий электронный пучок, его радиус − br , скорость − 0v , ток - bI . Период структуры − D , ши- рина резонаторов одинакова и равна d . Внутренняя структура может быть смещена относительно внеш- ней на произвольное расстояние l . В линейном приближении дисперсионное уравне- ние, описывающее возбуждение монохроматической волны электронным пучком, может быть получено методом частичных областей. В данном случае ус- ловно разобьём замедляющую структуру на четыре области: I− σρ ≤≤ r , II − brr ≤≤σ , III − arrb ≤≤ , IV − bra ≤≤ . В каждой из областей необходимо найти решение уравнений Максвелла с точностью до произвольных констант и сшить на общих границах. mailto:sotnikov@kipt.kharkov.ua 23 Вследствие периодичности замедляющей структуры возмущения всех величин в пролётном канале имеют зависимость ∑ ∞= −∞= −= m m mm )tiziexp(XX ωβ , (1) где D/mm πββ 20 += , ω − частота волны, ось z направлена вдоль структуры. В резонаторной об- ласти ограничимся основной пространственной гар- моникой стоячей волны. Граничные условия состоят в равенстве нулю тангенциальных компонент электри- ческого поля на металлических поверхностях, непре- рывности тангенциальных компонент электрического и магнитного полей на границах раздела пролётного канала и резонаторов. Компоненты электрического rE и магнитного полей ϕH на пучке испытывают разрыв, величина которого пропорциональна току пучка: )r(E rmcv)v( Ie iHH bm,z bm bIIIII m,m, 0 3 0 2 0 2 γβω ω ϕϕ − =− , (2) где 22 00 11 c/v/ −=γ . Для улучшения сходимости метода следует учесть квазистатическую особенность тангенциального элек- трического поля вблизи острых углов диафрагм (10):    << < == = 220 21 /D\|z\|/d, /d\|z\|,M EE r II z I z σ , (3)     <−< <− == = .2/\|\|2/,0 2/\|\|),exp( 01 Dlzd dlzliM EE ar IV z III z β (4) В выражениях (3)-(4) предполагается, что начало про- дольной координате 0=z соответствует середина внутреннего резонатора. Проделав вышеописанную процедуру, придём к дисперсионному уравнению: ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) 0 0 1 2 3 0 1 2 3 2 2 0 1 0 0 1 2 0 2 0 1 2 3 0 1 0 0 1 2 0 2 0 1 2 3 0 0 =× ××− −    −   × × −    −   × ×    −   × × −    −    ⊥ ⊥ ∞ −∞= − ⊥ ⊥ ⊥ ∞ −∞= ⊥ ⊥ ⊥ ⊥ ∞ −∞= ⊥ ⊥ ⊥ ⊥ ⊥ ⊥ ∞ −∞= ⊥ ⊥ ⊥ ∑ ∑ ∑ ∑ σ σ ∆ ψε σ∆ ψε ρσ ρσ σ σσ βω α σ σ ∆ ψε σ σ βω α σ σ ∆ ψε φ φ ,a,kF a,,kFe k k a,,kF a,a,kFe k k D d ,,kF ,,kF ,a,kF ,r,kFr,,kF va,,kF a,,kF k k D d b,a,kF b,a,kF ,a,kF ,r,kFr,a,kF v,a,kF ,a,kF k k D d m m m im m m m m m m im m m m m bm bm m m m m m m m m m bm bm m m m m m m m m (5) В дисперсионном уравнении (5) введены обозначе- ния: ,)k(k,m/ne,/ ),qy(J)qx(Y)qy(Y)qx(J)y,x,q(F smmppp nnnn εβπωωωε 222222 3 0 41 −==−= −= ⊥ ,кАI, v )k(c I I , ),a,k(F )r,k(F )v( )ar,k(F ),/d/()/dsin(,D/l,c/k A m A b m m ,bm m ,bmm m mmm 17 1 222 00 223 2 0 0 2 0 0 2 0 = − = ⋅ − += === ⊥ ⊥⊥ γ βπ α σ σ βω α ∆ ββΨπφω nJ , nY − функции Бесселя и Вебера n -го порядка. Численное решение дисперсионного уравнения (5) было выполнено для значений параметров структуры и пучка, которые используются в эксперименте, про- веденным в ННЦ ХФТИ[11]: см.b 35= , см.a 04= , см.53=σ , см.91=ρ , см.D 70= , см.d 50= , 00 =φ , см.rb 63= , A.Ib 05= , кэВWb 35= . На рис.1 представлены дисперсионные зависимости ва- куумной замедляющей структуры, а на рис.2 − плаз- монаполненной замедляющей структуры ( 3111081 −⋅= см,n p ). Данная плотность плазмы соответст- вует случаю, когда плазменная частота πω 2/f pp = Рис.1. Действительная ( 0βRe ) и мнимая часть ( 0βIm ) продольного волнового числа вакуумной коак- сиальной замедляющей структуры с пучком как функция частоты 24 Рис.2. Действительная( 0βRe ) и мнимая часть ( 0βIm ) продольного волнового числа плазмонапол- ненной коаксиальной замедляющей структуры с пуч- ком как функция частоты перекрывает верхнюю частоту отсечки коаксиальной моды. Как следует из сравнения рис.1 и рис.2 присут- ствие плазмы в пролётном канале приводит к ушире- нию полосы усиления примерно на 10% с одновре- менным увеличением коэффициента усиления при- мерно на 10%. На рис.3 представлены графики максимума коэф- фициента усиления и частоты, соответствующей это- му максимуму, как функции плотности плазмы. На исследуемом интервале частот коэффициент усиления растёт почти линейно с увеличением плотности плаз- мы. Такой характер поведения коэффициента усиле- ния , по всей видимости, можно объяснить линейным ростом резонансной с пучком волны при увеличении плотности плазмы и уменьшением её групповой ско- рости. Поперечная структура продольного электрическо- го поля кабельной волны, с которой взаимодействует электронный пучок, антисимметрична для нулевой пространственной гармоники. Следовательно, коэф- фициент усиления должен стремиться к нулю, когда радиус электронного пучка в точности равен положе- нию нуля продольного электрического поля. Это по- казано на рис.4, где приведены зависимости макси- мума коэффициента усиления от радиуса пучка для первой и второй полос прозрачности. Во второй поло- се прозрачности коэффициент усиления монотонно возрастает при перемещении электронного пучка от внутренней границы пролётного канала к внешней. 0 2 4 6 8 10 12 14 0,08 0,10 0,12 0,14 0,16 np × 10 -11, cm -1 Im(β0 ), см -1 0 2 4 6 8 10 12 14 2,5 3,0 3,5 4,0 4,5 5,0 np × 10 -11, cm -1 f, GHz Рис.3. Максимальный коэффициент усиления и час- тота волны, соответствующая этому максимуму, как функция плотности плазмы 3,5 3,6 3,7 3,8 3,9 4,0 0,00 0,01 0,02 0,03 0,04 1 Ib=0,01A 2 Im β0 , см -1 rb , см Рис.4. Максимум коэффициента усиления в пер- вой(1) и второй(2) полосе прозрачности как функция радиуса пучка Важным параметром, характеризующим свойства замедляющей системы, является волновое сопротив- ление, определяемое обычно в СВЧ-электронике сле- дующим образом [12]: PldE 2 1 w 2 2 ∫=ρ , (6) 25 где криволинейный интеграл вычисляется между точ- ками на проводящих поверхностях линии, лежащими в плоскости поперечного сечения системы, P − поток энергии в замедляющей системе. Применительно к нашему случаю, расчётная формула для волнового сопротивления имеет вид: )Ом(rdrHEdrE a r a rw ∫∫ ∗= σ ϕ σ ρ 2 60 . (7) Рис.5. Волновое сопротивление коаксиальной замед- ляющей структуры как функция частоты для раз- личных плотностей плазмы. На рис.5 изображены зависимости волнового со- противления коаксиальной замедляющей линии от частоты для различных плотностей плазмы. Как сле- дует из приведенных зависимостей, волновое сопро- тивление структуры изменяется слабо при заполнении ей плазмой, т.е. остаётся почти постоянным в основ- ной полосе пропускания. Последнее обстоятельство позволяет надеяться на хорошее согласование плаз- менного усилителя с входным генератором. 3. Нелинейный режим Для исследования нелинейной стадии взаимодей- ствия между электронным пучком и собственными волнами коаксиальной замедляющей линии передачи будем исходить из уравнения для усреднённой по поперечному сечению амплитуды продольного элек- трического поля E dE dz i E I R ie d+ − = z( ) /β β β θ θ π πe b св 0 0 0 2 0 0 2 2 (8) и уравнений движения для частиц пучка dv z dz e mv v z c E i( ) ( ) / Re( )( )= − −1 3 22 2 θ , d dz v z θ ω β = − 0 1 ( ) . (9) В уравнениях (8)-(9) введены обозначения: β ωe v= / 0 , ω и β0 - частота и продольное волновое число волны, Ib - ток пучка, v - скорость электронов пучка. Сопротивление связи Rсв 0 определено сле- дующим образом: ∑ ∫ ∞ −∞= ∗ = m S m,m,r b,z ‰– dSHEc )r(E R ϕβ π 2 0 2 00 2 , (10 где S - поперечное сечение пролётного канала, rb - радиус электронного пучка, ,E m,z ,E m,r ,H m,ϕ - компоненты электромагнитного поля собственной волны гибридной структуры в отсутствие пучка. На рис. 6-9 представлены результаты численного решения системы уравнений (1)-(3). Для численных расчётов взяты параметры экспериментальной уста- новки [11], приведенные выше. 0 1 2 3 4 5 0 2 4 6 8 10 np = 0 np = 1.8⋅1011см-3 np = 7.2⋅1011см-3 f, ГГц R0 св , Ω Рис.6. Сопротивление связи коаксиальной замедляю- щей структуры как функция частоты для различных плотностей плазмы На рис.6 приведены зависимости сопротивления связи для плотностей плазмы -311 p см 108,1n ⋅= и 311 p см102,7n −⋅= от частоты. По сравнению с ваку- умным случаем сопротивление связи для плазмоза- полненной замедляющей линии передачи немного меньше на значительной части частотного интервала, но максимальное значение сопротивления связи в плазменном варианте выше, чем для вакуумной за- медляющей структуры. На рис.7 приведены зависимости амплитуды про- дольного электрического поля от длины замедляющей структуры. Частота и волновой вектор в каждом слу- чае соответствуют максимуму усиления в линейном режиме. Если плотность плазмы равна -3см11108,1 ⋅ , амплитуда насыщения продольного электрического поля равна 1,42 кВ/см, оптимальная длина структуры равна 43,6 см. Для плотности плазмы 7 2 1011, ⋅ см -3 ам- плитуда насыщения равна 1,93 КВ/см, оптимальная длина гибридной структуры равна 34,8 см. В вакуум- ном случае аналогичные характеристики составляют 1,3 кВ/см и 48см. Семейство зависимостей продольного электриче- ского поля от длины структуры для различных собст- венных частот приведено на рис.8 для вакуумной и на 0 1 2 3 4 5 5 10 15 20 n p = 0 np = 1.8⋅1011cm-3 n p = 7.2⋅1011cm-3 f, ГГц ρ w , Ω 26 рис.9 для плазмозаполненной ( -311 p см108,1n ⋅= ) структур. Нелинейное численное моделирование под- тверждает выводы линейной теории о расширении 0 20 40 60 80 100 120 0,0 0,2 0,4 0,6 0,8 1 ,0 1 ,2 1 ,4 1 ,6 1 ,8 2,0 n p = 0 n p = 1 .8⋅ 1011см -3 n p = 7.2⋅ 1011см -3 E , кВ /см z, см Рис.7. Амплитуда продольного электрического поля как функция длины структуры для различных плот- ностей плазмы 0 20 40 60 80 100 120 1,0 1,5 2,0 2,5 3,0 0,0 0,5 1,0 1,5 2,0 f, ГГц E, к В/ см z, см Рис.8. Амплитуда продольного электрического поля в зависимости от частоты волны и длины коаксиаль- ного вакуумного усилителя 0 20 40 60 80 100 120 1,0 1,5 2,0 2,5 3,0 0,0 0,5 1,0 1,5 2,0 2,5 f, ГГц E, к В/ см z, см Рис.9.Амплитуда продольного электрического поля в зависимости от частоты волны и длины плазменного коаксиального усилителя полосы возбуждаемых частот и увеличении усиления в результате заполнения канала взаимодействия ваку- умной замедляющей структуры плазмой. В заключение автор выражает благодарность Кор- нилову Е.А. за обсуждение результатов и Марко- ву П.И. за помощь при проведении расчётов. 4. Литература 1. Я.Б.Файнберг, Ю.П.Блиох, Е.А.Корнилов и др. Электродинамика гибридных плазменно- волноводных замедляющих структур // Доклады АН УССР. Физ.-мат. и тех. Науки. 1990, № 11, с. 55. 2. Я.Б.Файнберг, Ю.П.Блиох, М.Г.Любарский и др. Электродинамика гибридных плазменно- волноводных замедляющих структур. // Физика плаз- мы. 1994, т.20, с. 757 3. А.Н.Антонов, Ю.П.Блиох, Ю.А.Дегтярь и др. Пучково-плазменный генератор, основанный на взаи- модействии электронного пучка с плазменно- волноводной структурой, ограниченной цепочкой индуктивно связанных резонаторов // Физика плазмы. 1994, т. 20, с.777. 4. М.А.Завьялов, В.О.Мартынов, Л.А.Митин и др. Мощный пучко-плазменный усилитель. // IV Симпо- зиум по сильноточной электронике: Тез. докл.: Рос- сия. 1992, с.132. 5. Y.Carmel, K.Miami, R.A.Kohs et.al. Demonstration efficiency enhancement in high-power backward-wave oscillator by plasma injection // Phys. Rev. Lett. 1989. vol.62, p.2389. 6. Е.О.Корнілов, О.М.Коростельов, О.В.Лодигин и др. Електродинамiка гiбридної сповiльнюючої струк- тури типу дiафрагмованої коаксiальної лiнiї заповне- ної // УФЖ. 1995, т.40, с.312. 7. Е.А.Корнилов, П.И.Марков, Г.В.Сотников. Воз- буждение широкого спектра колебаний электронным пучком в коаксиальной замедляющей линии. Труды 7-й Межд. Крымской конф. “СВЧ-техника и телеком- муникационные технологии”. 1997, т.2, с. 427. 8. E.A.Kornikov, P.I.Markov, G.V.Sotnikov. Excitation of broadband oscillations by electron beam in coaxial disk loaded transmission line. // Proc. of 12th Int. Conf. on High Power Particle Beams . 1998, vol.1, p.877. 9. Г.В.Сотников. Возбуждение широкого спектра колебаний электронным пучком в коаксиальной за- медляющей линии // Электромагнитные явления. 1998, т.1, с.383. 10. М.Ф.Стельмах, Е.Б.Ольдерогге. Распространени электромагнитных волн в диафрагмированныз замед- ляющих системах с кольцевыми щелями // Радиотех- ника и электроника. 1959, т.4, с.980. 11. В.С.Антипов, В.И.Карпухин, Е.А.Корнилов, Л.А.Логинов Генератор СВЧ-колебаний с гибридной замедляющей структурой и плазменным эмиттером // Труды 8-й Межд. Крымской конф. “СВЧ-техника и телекоммуникационные технологии”. 1998, т2, с. 749. 12. А.Д.Григорьев, В.Б.Янкевич. Резонаторы и резо- наторные замедляющие системы СВЧ //Радио и связь. 1984. Ã.Â.Ñîòíèêîâ Íàöèîíàëüíûé íàó÷íûé öåíòð “ Õàðüêîâñêèé ôèçèêî-òåõíè÷åñêèé èíñòèòóò”

Амплитудно-частотные характеристики коаксиального плазменного усилителя

Репозитарії

Схожі ресурси