Features of electron beam evaporation under surface electron beam formation

• Опубліковано в: : Вопросы атомной науки и техники
• Дата: 2014
• Автори: Mysiura, I.N., Girka, I.A., Azarenkov, N.A., Borgun, Ie.V., Hrechko, Ya.O., Hryhorenko, A.V., Dimitrova, V.D., Ryabchikov, D.L., Sereda, I.N., Tseluyko, A.F.
• Формат: Стаття
• Мова: Англійська
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2014
• Теми: Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81949
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Features of electron beam evaporation under surface electron beam formation / I.N. Mysiura, I.A. Girka, N.A. Azarenkov, Ie.V. Borgun, Ya.O. Hrechko, A.V. Hryhorenko, V.D. Dimitrova, D.L. Ryabchikov, I.N. Sereda, A.F. Tseluyko // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 6. — С. 149-152. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

In this paper, the features of the dense plasma generation under the thermal substance evaporation by an electron beam, formed directly at the crucible surface, have been investigated. Peculiarities of the research are the following: the initial plasma is used as the electron emitter and the electron acceleration occurs in the layer between the initial and thermionic plasma. It has been shown that in the case of the thermionic plasma formation, the crucible current can be several times higher than the discharge current of the primary plasma source due to the redistribution of voltge drop (100…200 V) from the crucible to the wall. Исследуются особенности генерации плотной плазмы при термическом испарении вещества электронным пучком, который формируется непосредственно у поверхности тигля. Особенность исследований состоит в том, что эмиттером электронов пучка служит первичная плазма, а ускорение происходит в слое объемного заряда между первичной и термоионной плазмой. Показано, что ток на тигель при образовании термоионной плазмы может в несколько раз превышать разрядный ток источника первичной плазмы, что связано с перераспределением части напряжения (100…200 В) между тиглем и стенкой. Досліджуються особливості генерації щільної плазми при термічному випаровуванні речовини електронним пучком, який формується безпосередньо біля поверхні тигля. Особливість досліджень полягає в тому, що емітером електронів пучка є первинна плазма, а прискорення відбувається в шарі об'ємного заряду між первинною та термоіонною плазмою. Показано, що струм на тигель при утворенні термоіонної плазми може в декілька разів перевищувати розрядний струм джерела первинної плазми, що пов'язано з перерозподілом частини напруги (100…200 В) між тиглем та стінкою.