Dust particle charging in sheath

The charging and the screening of spherical dust particles in sheaths near the wall were studied using computer simulation. The three-dimensional PIC/MCC method and molecular dynamics method were applied to describe plasma particles motion and interaction with macroscopic dust grain. Calculations we...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2014
Автори: Gavrysh, G.O., Kravchenko, O.Yu., Lisitchenko, T.E.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2014
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81953
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Dust particle charging in sheath / G.O. Gavrysh, O.Yu. Kravchenko, T.E. Lisitchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 6. — С. 160-163. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-81953
record_format dspace
spelling Gavrysh, G.O.
Kravchenko, O.Yu.
Lisitchenko, T.E.
2015-05-22T18:17:04Z
2015-05-22T18:17:04Z
2014
Dust particle charging in sheath / G.O. Gavrysh, O.Yu. Kravchenko, T.E. Lisitchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 6. — С. 160-163. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.27.Lw.
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81953
The charging and the screening of spherical dust particles in sheaths near the wall were studied using computer simulation. The three-dimensional PIC/MCC method and molecular dynamics method were applied to describe plasma particles motion and interaction with macroscopic dust grain. Calculations were carried out at different neutral gas pressures and wall potentials. Values of the charge of the dust particles and spatial distributions of plasma parameters are obtained by modelling. The results have shown that the charge of the dust particles in the sheath, as well as the spatial distribution of the ions and electrons near the dust particles, depend strongly on the wall potential. It is shown that for large negative values of the wall potential the negative charge of a dust particle decreases due to the decline of the electron density in its vicinity. In addition, the flow of energy of the ions on the surface of dust particles is increased due to better focusing effect of the dust particle field on ions.
Зарядка и экранирование сферических пылевых частиц в приэлектродных слоях вблизи стенки были изучены с помощью компьютерного моделирования. Трехмерный PIC/MCC-метод и метод молекулярной динамики были применены для описания движения частиц плазмы и взаимодействия их с макроскопической пылинкой. Расчеты проводились при различных значениях давления нейтрального газа и потенциала стенки. Значения заряда пылевых частиц и пространственные распределения параметров плазмы получены при помощи моделирования. Результаты показали, что заряд пылевых частиц в приэлектродном слое, а также пространственные распределения ионов и электронов вблизи пылевых частиц сильно зависят от потенциала стенки. Показано, что при больших значениях потенциала стенки отрицательный заряд пылевой частицы уменьшается в связи с уменьшением плотности электронов в ее окрестности. Кроме того, поток энергии ионов на поверхность пылевой частицы увеличивается за счет лучшего фокусирующего действия поля пылевых частиц на ионы.
Зарядка і екранування сферичних пилових частинок у приелектродних шарах поблизу стінки були вивчені за допомогою комп'ютерного моделювання. Тривимірний PIC/MCC-метод і метод молекулярної динаміки були застосовані для опису руху частинок плазми та взаємодії їх з макроскопічною пилинкою. Розрахунки проводились при різних значеннях тиску нейтрального газу і потенціалу стінки. Значення заряду пилових частинок і просторові розподіли параметрів плазми отримані за допомогою моделювання. Результати показали, що заряд пилових частинок у приелектродному шарі, а також просторові розподіли іонів і електронів поблизу пилових частинок сильно залежать від потенціалу стінки. Показано, що при великих значеннях потенціалу стінки негативний заряд пилової частинки зменшується в зв'язку зі зменшенням концентрації електронів поблизу неї. Крім того, потік енергії іонів на поверхню пилової частинки збільшується за рахунок кращої фокусуючої дії поля пилових частинок на іони.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Dust particle charging in sheath
Зарядка пылевой частицы в приэлектродном шаре
Зарядка пилової частинки в приелектродному шарі
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Dust particle charging in sheath
spellingShingle Dust particle charging in sheath
Gavrysh, G.O.
Kravchenko, O.Yu.
Lisitchenko, T.E.
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
title_short Dust particle charging in sheath
title_full Dust particle charging in sheath
title_fullStr Dust particle charging in sheath
title_full_unstemmed Dust particle charging in sheath
title_sort dust particle charging in sheath
author Gavrysh, G.O.
Kravchenko, O.Yu.
Lisitchenko, T.E.
author_facet Gavrysh, G.O.
Kravchenko, O.Yu.
Lisitchenko, T.E.
topic Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
topic_facet Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
publishDate 2014
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Зарядка пылевой частицы в приэлектродном шаре
Зарядка пилової частинки в приелектродному шарі
description The charging and the screening of spherical dust particles in sheaths near the wall were studied using computer simulation. The three-dimensional PIC/MCC method and molecular dynamics method were applied to describe plasma particles motion and interaction with macroscopic dust grain. Calculations were carried out at different neutral gas pressures and wall potentials. Values of the charge of the dust particles and spatial distributions of plasma parameters are obtained by modelling. The results have shown that the charge of the dust particles in the sheath, as well as the spatial distribution of the ions and electrons near the dust particles, depend strongly on the wall potential. It is shown that for large negative values of the wall potential the negative charge of a dust particle decreases due to the decline of the electron density in its vicinity. In addition, the flow of energy of the ions on the surface of dust particles is increased due to better focusing effect of the dust particle field on ions. Зарядка и экранирование сферических пылевых частиц в приэлектродных слоях вблизи стенки были изучены с помощью компьютерного моделирования. Трехмерный PIC/MCC-метод и метод молекулярной динамики были применены для описания движения частиц плазмы и взаимодействия их с макроскопической пылинкой. Расчеты проводились при различных значениях давления нейтрального газа и потенциала стенки. Значения заряда пылевых частиц и пространственные распределения параметров плазмы получены при помощи моделирования. Результаты показали, что заряд пылевых частиц в приэлектродном слое, а также пространственные распределения ионов и электронов вблизи пылевых частиц сильно зависят от потенциала стенки. Показано, что при больших значениях потенциала стенки отрицательный заряд пылевой частицы уменьшается в связи с уменьшением плотности электронов в ее окрестности. Кроме того, поток энергии ионов на поверхность пылевой частицы увеличивается за счет лучшего фокусирующего действия поля пылевых частиц на ионы. Зарядка і екранування сферичних пилових частинок у приелектродних шарах поблизу стінки були вивчені за допомогою комп'ютерного моделювання. Тривимірний PIC/MCC-метод і метод молекулярної динаміки були застосовані для опису руху частинок плазми та взаємодії їх з макроскопічною пилинкою. Розрахунки проводились при різних значеннях тиску нейтрального газу і потенціалу стінки. Значення заряду пилових частинок і просторові розподіли параметрів плазми отримані за допомогою моделювання. Результати показали, що заряд пилових частинок у приелектродному шарі, а також просторові розподіли іонів і електронів поблизу пилових частинок сильно залежать від потенціалу стінки. Показано, що при великих значеннях потенціалу стінки негативний заряд пилової частинки зменшується в зв'язку зі зменшенням концентрації електронів поблизу неї. Крім того, потік енергії іонів на поверхню пилової частинки збільшується за рахунок кращої фокусуючої дії поля пилових частинок на іони.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81953
citation_txt Dust particle charging in sheath / G.O. Gavrysh, O.Yu. Kravchenko, T.E. Lisitchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 6. — С. 160-163. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT gavryshgo dustparticlecharginginsheath
AT kravchenkooyu dustparticlecharginginsheath
AT lisitchenkote dustparticlecharginginsheath
AT gavryshgo zarâdkapylevoičasticyvpriélektrodnomšare
AT kravchenkooyu zarâdkapylevoičasticyvpriélektrodnomšare
AT lisitchenkote zarâdkapylevoičasticyvpriélektrodnomšare
AT gavryshgo zarâdkapilovoíčastinkivprielektrodnomušarí
AT kravchenkooyu zarâdkapilovoíčastinkivprielektrodnomušarí
AT lisitchenkote zarâdkapilovoíčastinkivprielektrodnomušarí
first_indexed 2025-12-07T19:43:56Z
last_indexed 2025-12-07T19:43:56Z
_version_ 1850879913486188544