Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника

Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника

В наближенні діелектричного формалізму при відсутності безпосереднього контакту напівпровідник–метал та зовнішньої напруги для несиметричної за об’ємними та поверхневими характеристиками «напівпровідник–вакуум–метал» (НВМ) системи розраховано потенціал їх взаємодії, який враховує відмінності в об’єм...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Поверхность
Datum:2011
Hauptverfasser: Ільченко, Л.Г., Ільченко, В.В., Лобанов, В.В.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainian
Veröffentlicht: Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України 2011
Schlagworte:
Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82172
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника / Л.Г. Ільченко, В.В. Ільченко, В.В. Лобанов // Поверхность. — 2011. — Вип. 3 (18). — С. 29-49. — Бібліогр.: 35 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-82172
record_format dspace
spelling Ільченко, Л.Г.
Ільченко, В.В.
Лобанов, В.В.
2015-05-26T15:07:15Z
2015-05-26T15:07:15Z
2011
Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника / Л.Г. Ільченко, В.В. Ільченко, В.В. Лобанов // Поверхность. — 2011. — Вип. 3 (18). — С. 29-49. — Бібліогр.: 35 назв. — укр.
XXXX-0106
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82172
539.2.01
В наближенні діелектричного формалізму при відсутності безпосереднього контакту напівпровідник–метал та зовнішньої напруги для несиметричної за об’ємними та поверхневими характеристиками «напівпровідник–вакуум–метал» (НВМ) системи розраховано потенціал їх взаємодії, який враховує відмінності в об’ємних властивостях кожного з трьох середовищ, зарядовий стан поверхонь напівпровідника і металу та їх мікроскопічну структуру. Неперервність потенціалу сил зображення і, відповідно, сумарного потенціалу та єдиний (вакуумний) рівень відліку енергії в НВМ системі забезпечується коректним урахуванням просторової дисперсії функцій діелектричної проникності напівпровідника та металу.
В приближении диэлектрического формализма, при отсутствии непосредственного контакта полупроводник–металл и внешнего напряжения для несимметричной по объемным и поверхностным характеристикам системы полупроводник–вакуум–металл (ПВМ) рассчитан потенциал их взаимодействия, который учитывает различия в объемных свойствах каждой из трех сред, зарядовое состояние поверхностей полупроводника и металла, а также их микроскопическую структуру. Непрерывность потенциала сил изображения и, соответственно, суммарного потенциала и единый (вакуумный) уровень отсчета энергии в ПВМ системе обеспечивается корректным учетом пространственной дисперсии функций диэлектрического проникновения полупроводника и металла.
Within the framework of dielectric formalism in absence of direct semiconductor-metal contact and external tension, the interaction potential has been calculated in the system with asymmetric bulk and surface characteristics of semiconductor-vacuum-metal (SVM) system taking into account distinctions in bulk properties of all three media, the charge status of semiconductor and metal surfaces as well as their microscopic structures. The continuity of image forces and respectively that of total potential as well as an unique (vacuum) level of energy scale in the SVM system are provided by correct counting spatial dispersion in the permittivity functions for both semiconductor and metal.
uk
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
Поверхность
Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника
Влияние металла на поверхностные характеристики полупроводника
Efect of metal on the surface characteristics of semiconductor
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника
spellingShingle Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника
Ільченко, Л.Г.
Ільченко, В.В.
Лобанов, В.В.
Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
title_short Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника
title_full Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника
title_fullStr Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника
title_full_unstemmed Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника
title_sort вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника
author Ільченко, Л.Г.
Ільченко, В.В.
Лобанов, В.В.
author_facet Ільченко, Л.Г.
Ільченко, В.В.
Лобанов, В.В.
topic Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
topic_facet Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
publishDate 2011
language Ukrainian
container_title Поверхность
publisher Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
format Article
title_alt Влияние металла на поверхностные характеристики полупроводника
Efect of metal on the surface characteristics of semiconductor
description В наближенні діелектричного формалізму при відсутності безпосереднього контакту напівпровідник–метал та зовнішньої напруги для несиметричної за об’ємними та поверхневими характеристиками «напівпровідник–вакуум–метал» (НВМ) системи розраховано потенціал їх взаємодії, який враховує відмінності в об’ємних властивостях кожного з трьох середовищ, зарядовий стан поверхонь напівпровідника і металу та їх мікроскопічну структуру. Неперервність потенціалу сил зображення і, відповідно, сумарного потенціалу та єдиний (вакуумний) рівень відліку енергії в НВМ системі забезпечується коректним урахуванням просторової дисперсії функцій діелектричної проникності напівпровідника та металу. В приближении диэлектрического формализма, при отсутствии непосредственного контакта полупроводник–металл и внешнего напряжения для несимметричной по объемным и поверхностным характеристикам системы полупроводник–вакуум–металл (ПВМ) рассчитан потенциал их взаимодействия, который учитывает различия в объемных свойствах каждой из трех сред, зарядовое состояние поверхностей полупроводника и металла, а также их микроскопическую структуру. Непрерывность потенциала сил изображения и, соответственно, суммарного потенциала и единый (вакуумный) уровень отсчета энергии в ПВМ системе обеспечивается корректным учетом пространственной дисперсии функций диэлектрического проникновения полупроводника и металла. Within the framework of dielectric formalism in absence of direct semiconductor-metal contact and external tension, the interaction potential has been calculated in the system with asymmetric bulk and surface characteristics of semiconductor-vacuum-metal (SVM) system taking into account distinctions in bulk properties of all three media, the charge status of semiconductor and metal surfaces as well as their microscopic structures. The continuity of image forces and respectively that of total potential as well as an unique (vacuum) level of energy scale in the SVM system are provided by correct counting spatial dispersion in the permittivity functions for both semiconductor and metal.
issn XXXX-0106
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82172
citation_txt Вплив металу на поверхневі характеристики напівпровідника / Л.Г. Ільченко, В.В. Ільченко, В.В. Лобанов // Поверхность. — 2011. — Вип. 3 (18). — С. 29-49. — Бібліогр.: 35 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT ílʹčenkolg vplivmetalunapoverhnevíharakteristikinapívprovídnika
AT ílʹčenkovv vplivmetalunapoverhnevíharakteristikinapívprovídnika
AT lobanovvv vplivmetalunapoverhnevíharakteristikinapívprovídnika
AT ílʹčenkolg vliâniemetallanapoverhnostnyeharakteristikipoluprovodnika
AT ílʹčenkovv vliâniemetallanapoverhnostnyeharakteristikipoluprovodnika
AT lobanovvv vliâniemetallanapoverhnostnyeharakteristikipoluprovodnika
AT ílʹčenkolg efectofmetalonthesurfacecharacteristicsofsemiconductor
AT ílʹčenkovv efectofmetalonthesurfacecharacteristicsofsemiconductor
AT lobanovvv efectofmetalonthesurfacecharacteristicsofsemiconductor
first_indexed 2025-12-07T16:22:19Z
last_indexed 2025-12-07T16:22:19Z
_version_ 1850867229379264512

Ähnliche Einträge