Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
In the present paper, the results studying the technological regimes of reactive magnetron sputtering in cluster set-up with two planar magnetrons, plasma source and medium energy ion source are presented. Magnetron current-voltage characteristics as well as dependencies of the magnetron current, vo...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2015 |
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2015
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82244 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, M. Sergiec, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 187-189. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862712325901910016 |
|---|---|
| author | Yakovin, S. Zykov, A. Dudin, S. Sergiec, M. Farenik, V. |
| author_facet | Yakovin, S. Zykov, A. Dudin, S. Sergiec, M. Farenik, V. |
| citation_txt | Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, M. Sergiec, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 187-189. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | In the present paper, the results studying the technological regimes of reactive magnetron sputtering in cluster set-up with two planar magnetrons, plasma source and medium energy ion source are presented. Magnetron current-voltage characteristics as well as dependencies of the magnetron current, voltage and the total pressure in the chamber on the reactive gas flow are presented with emphasis on the features of the joint work of the two magnetrons with targets of different materials using different reactive gases. The technological “window” is determined on the basis of the measured characteristics.
Представлены результаты исследования технологических режимов реактивного магнетронного напыления в кластерной установке с двумя плоскими магнетронами и источником плазмы. Представлены ВАХ магнетронов, а также зависимости тока и напряжения магнетрона и давления в камере от потока реактивного газа с акцентом на особенностях совместной работы двух магнетронов с мишенями из различных материалов. На основании измеренных характеристик определено оптимальное "технологическое окно".
Представлені результати дослідження технологічних режимів реактивного магнетронного напилювання в кластерній установці з двома плоскими магнетронами і джерелом плазми. Представлено ВАХ магнетронів, а також залежності струму і напруги магнетрона та тиску в камері від потоку реактивного газу з акцентом на особливостях спільної роботи двох магнетронів з мішенями з різних матеріалів. На базі виміряних характеристик визначено оптимальне "технологічне вікно".
|
| first_indexed | 2025-12-07T17:36:25Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-82244 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T17:36:25Z |
| publishDate | 2015 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Yakovin, S. Zykov, A. Dudin, S. Sergiec, M. Farenik, V. 2015-05-27T08:38:44Z 2015-05-27T08:38:44Z 2015 Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, M. Sergiec, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 187-189. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j, 81.15.-z https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82244 In the present paper, the results studying the technological regimes of reactive magnetron sputtering in cluster set-up with two planar magnetrons, plasma source and medium energy ion source are presented. Magnetron current-voltage characteristics as well as dependencies of the magnetron current, voltage and the total pressure in the chamber on the reactive gas flow are presented with emphasis on the features of the joint work of the two magnetrons with targets of different materials using different reactive gases. The technological “window” is determined on the basis of the measured characteristics. Представлены результаты исследования технологических режимов реактивного магнетронного напыления в кластерной установке с двумя плоскими магнетронами и источником плазмы. Представлены ВАХ магнетронов, а также зависимости тока и напряжения магнетрона и давления в камере от потока реактивного газа с акцентом на особенностях совместной работы двух магнетронов с мишенями из различных материалов. На основании измеренных характеристик определено оптимальное "технологическое окно". Представлені результати дослідження технологічних режимів реактивного магнетронного напилювання в кластерній установці з двома плоскими магнетронами і джерелом плазми. Представлено ВАХ магнетронів, а також залежності струму і напруги магнетрона та тиску в камері від потоку реактивного газу з акцентом на особливостях спільної роботи двох магнетронів з мішенями з різних матеріалів. На базі виміряних характеристик визначено оптимальне "технологічне вікно". en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings Кластерная установка с двумя магнетронами для синтеза микро- и наноструктурных покрытий Кластерна установка з двома магнетронами для синтезу мікро- та наноструктурних покриттів Article published earlier |
| spellingShingle | Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings Yakovin, S. Zykov, A. Dudin, S. Sergiec, M. Farenik, V. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| title | Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings |
| title_alt | Кластерная установка с двумя магнетронами для синтеза микро- и наноструктурных покрытий Кластерна установка з двома магнетронами для синтезу мікро- та наноструктурних покриттів |
| title_full | Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings |
| title_fullStr | Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings |
| title_full_unstemmed | Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings |
| title_short | Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings |
| title_sort | double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings |
| topic | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| topic_facet | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82244 |
| work_keys_str_mv | AT yakovins doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings AT zykova doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings AT dudins doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings AT sergiecm doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings AT farenikv doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings AT yakovins klasternaâustanovkasdvumâmagnetronamidlâsintezamikroinanostrukturnyhpokrytii AT zykova klasternaâustanovkasdvumâmagnetronamidlâsintezamikroinanostrukturnyhpokrytii AT dudins klasternaâustanovkasdvumâmagnetronamidlâsintezamikroinanostrukturnyhpokrytii AT sergiecm klasternaâustanovkasdvumâmagnetronamidlâsintezamikroinanostrukturnyhpokrytii AT farenikv klasternaâustanovkasdvumâmagnetronamidlâsintezamikroinanostrukturnyhpokrytii AT yakovins klasternaustanovkazdvomamagnetronamidlâsintezumíkrotananostrukturnihpokrittív AT zykova klasternaustanovkazdvomamagnetronamidlâsintezumíkrotananostrukturnihpokrittív AT dudins klasternaustanovkazdvomamagnetronamidlâsintezumíkrotananostrukturnihpokrittív AT sergiecm klasternaustanovkazdvomamagnetronamidlâsintezumíkrotananostrukturnihpokrittív AT farenikv klasternaustanovkazdvomamagnetronamidlâsintezumíkrotananostrukturnihpokrittív |