Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
In the present paper, the results studying the technological regimes of reactive magnetron sputtering in cluster set-up with two planar magnetrons, plasma source and medium energy ion source are presented. Magnetron current-voltage characteristics as well as dependencies of the magnetron current, vo...
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| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2015 |
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2015
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82244 |
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| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, M. Sergiec, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 187-189. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Institution
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