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Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath

Charging of macroparticles (MPs) in front of the negatively biased surface emitted the secondary electrons due to bombardment by multiply charged ions (MCIs) has been investigated. It was found that MPs can be either reflected or attracted to the substrate depending on the substrate bias. Исследуетс...

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Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2015
Hauptverfasser:	Bizyukov, A.A., Girka, I.A., Romashchenko, E.V., Chibisov, A.D.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2015
Schlagworte:	Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82250
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath / A.A. Bizyukov, I.A. Girka, E.V. Romashchenko, A.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 246-248. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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