Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
The results of systematic experimental researches of plasma-chemical etching reactor in the inductive mode are presented in this paper. Measurements of the integral discharge parameters (inductor voltage, gas pressure, input power) have been carried out as well as probe measurements of spatial d...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2006 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2006
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82289 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching / S.V. Dudin, A.V.Zykov, A.N.Dahov, V.I. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 6. — С. 189-191. — Бібліогр.: 3 назв. — англ. |