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Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching

The results of systematic experimental researches of plasma-chemical etching reactor in the inductive mode are presented in this paper. Measurements of the integral discharge parameters (inductor voltage, gas pressure, input power) have been carried out as well as probe measurements of spatial d...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2006
Hauptverfasser:	Dudin, S.V., Zykov, A.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Schlagworte:	Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82289
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching / S.V. Dudin, A.V.Zykov, A.N.Dahov, V.I. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 6. — С. 189-191. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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