Зображення обкладинки

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching

The results of systematic experimental researches of plasma-chemical etching reactor in the inductive mode are presented in this paper. Measurements of the integral discharge parameters (inductor voltage, gas pressure, input power) have been carried out as well as probe measurements of spatial d...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2006
Автори:	Dudin, S.V., Zykov, A.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82289
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching / S.V. Dudin, A.V.Zykov, A.N.Dahov, V.I. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 6. — С. 189-191. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)

The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)

“String” type of barrierless plasma chemical reactor for generation ozone from air
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021)

Application of dielectric barrier discharge and plasma-chemical reactor for water purification from NH₄OH
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Study of the effect of plasma chemical oxidation of ethylene impurity on the efficiency of banana storage
за авторством: Egorov, M.O., та інші
Опубліковано: (2022)

Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Kinetic simulaton of CO₂ conversion in low-pressure electrodeless plasma
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2022)

Low-temperature ozone sterilizer based on reactor with electrolityc cell
за авторством: Lozina, A.S., та інші
Опубліковано: (2019)

Application of bipolar plasma discharge over the liquid surface for water purification from chemical and bacterial pollution
за авторством: Liesnoi, V.O., та інші
Опубліковано: (2019)

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)

Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)

Influence of the plasma stream irradiation on the surface modification, structure and properties of materials
за авторством: Lapshin, V.I., та інші
Опубліковано: (2000)

Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Investigation of jumping pulsed electrical discharge for plasma chemistry application
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)

Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)

Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)

Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)

Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)

Influence of plasma treatment on erosion haracteristics and structure of reversible hydrogen getters
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2000)

Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Peculiarities of properties of the pulse plasma jet
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)

Ion crystal formation in nonequilibrium dusty plasmas near electrode or electric probe
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Burning modes of a bipolar pulsed discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)

Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)