Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films
TiO₂ thin films were prepared by PECVD technique from vapors of Titanium-IV iso-propoxide mixed with oxygen
 at different temperatures. The films were deposited on substrates with system of special platinum electrodes and on
 glass substrates. Photoconductivity and capacitance at d...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2006 |
| Автори: | Kolouch, A., Horáková, M., Hájková, P., Heyduková, E., Exnar, P., Spatenka, P. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2006
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82296 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films / A. Kolouch, M. Horáková, P. Hájková, E. Heyduková, P. Exnar, P. Spatenka // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 6. — С. 198-200. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Investigation of thin films deposition into porous material
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)
Stability of thin quasi-crystalline Ti-Zr-Ni films and related crystalline phases under low-energy transient plasma irradiation
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
Polymer powder adhesion to metallic surface improvement with plasma
за авторством: Hladík, J., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Hladík, J., та інші
Опубліковано: (2008)
Application of atmospheric dielectric barrier discharge plasma for polyethylene powder modification
за авторством: Píchal, J., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Píchal, J., та інші
Опубліковано: (2006)
Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
PES fabric modification with a corona discharge
за авторством: Pichal, J., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Pichal, J., та інші
Опубліковано: (2005)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Development of complex technology of strengthening of thin-walled cutting tools
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Effect of deposition parameters on microstructure and tribological properties of hard CA-PVD multi-component TiAlCrN and TiAlCrCN coatings
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2020)
The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Comparative characterization of ARC-PVD ZrN and PEO hydroxyapatite coatings on pure Ti-6Al-4V substrates for biomedical applications
за авторством: Garkusha, I.E., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Garkusha, I.E., та інші
Опубліковано: (2023)
On the properties of the nonideal plasma of electrical pulse discharges in water
за авторством: Starchyk, P.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Starchyk, P.D., та інші
Опубліковано: (2008)
On the optical properties of the nonideal plasma of electrical pulse discharge in water
за авторством: Starchyk, P.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Starchyk, P.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Ion source of reactive gases with decreased neutral gas inleakage
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
On the influence of aluminium and iron impurities on the thermal contraction of an argon arc
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2008)
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2008)
Influence of molecular and electronegative impurities on the contraction of the plasma column of an argon arc
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2002)
Multibeam system simulation
за авторством: Martynenko, P.A.
Опубліковано: (2019)
за авторством: Martynenko, P.A.
Опубліковано: (2019)
On the contraction of an arc discharge in gaseous mixtures
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2005)
Plasma generation in the low- pressure gas D.C. discharge with a simple example of the noble gas system
за авторством: Kurbatov, P.F.
Опубліковано: (2007)
за авторством: Kurbatov, P.F.
Опубліковано: (2007)
Influence of voltage pulse duration on ignition of glow discharge in air
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Simulation of gas dynamics in plasma reactor for carbon dioxide conversion
за авторством: Platonov, P.P., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Platonov, P.P., та інші
Опубліковано: (2021)
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Dc glow discharge for synthesis diamond films with high growth rate
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Growth of raileigh-taylor type instability on the surface of discharge channel in liquid
за авторством: Kononov, A.V., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Kononov, A.V., та інші
Опубліковано: (2000)
Studying CO₂ conversion in DC glow discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
DC gas breakdown and townsend discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Peculiarities of properties of the pulse plasma jet
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Hardware and software complex for measuring hard X-ray radiation on the torsatron “Uragan-2M”
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2021)
Kinetic simulaton of CO₂ conversion in low-pressure electrodeless plasma
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2022)
Dissipative structure in the glow discharge
за авторством: Ponomaryov, O.P., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Ponomaryov, O.P., та інші
Опубліковано: (2008)
Схожі ресурси
-
Investigation of thin films deposition into porous material
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006) -
Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008) -
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000) -
Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007) -
Stability of thin quasi-crystalline Ti-Zr-Ni films and related crystalline phases under low-energy transient plasma irradiation
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)