Зображення обкладинки

Investigation of thin films deposition into porous material

Although the direct contact of the treated material with the plasma is assumed by the plasma community as a necessary condition of successful plasma treatment, several references mention penetration of active species into the porous material. Hydrophylity enhancement has been obser...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2006
Автори:	Sedláková, L., Kolouch, A., Hladík, J., Spatenka, P.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82307
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Investigation of thin films deposition into porous material / L. Sedláková, A. Kolouch, J. Hladík, P. Spatenka // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 6. — С. 207-209. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films
за авторством: Kolouch, A., та інші
Опубліковано: (2006)

Polymer powder adhesion to metallic surface improvement with plasma
за авторством: Hladík, J., та інші
Опубліковано: (2008)

Application of atmospheric dielectric barrier discharge plasma for polyethylene powder modification
за авторством: Píchal, J., та інші
Опубліковано: (2006)

Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)

The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)

PES fabric modification with a corona discharge
за авторством: Pichal, J., та інші
Опубліковано: (2005)

Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)

The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)

Stability of thin quasi-crystalline Ti-Zr-Ni films and related crystalline phases under low-energy transient plasma irradiation
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)

Investigation of thermal plasma of arc discharge between novel composite Cu-W materials
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2023)

Ultra high vacuum cathodic arc for deposition of superconducting lead photo-cathodes
за авторством: Strzyzewski, P., та інші
Опубліковано: (2007)

Development of complex technology of strengthening of thin-walled cutting tools
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2016)

Design and investigation of HF-ozonators
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2000)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Vacuum-arc equipment for ion-plasma deposition of coatings
за авторством: Aksenov, I.I., та інші
Опубліковано: (2000)

Structure and properties of the (Cr, Al)N coatings deposited by PIII&D method
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)

Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)

Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)

Experimental and numerical studies of pressure and gap length effects on energy deposition in spark discharge
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2021)

Composite Cu-Cr materials under thermal action of electric arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2021)

Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Dc glow discharge for synthesis diamond films with high growth rate
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Investigation of jumping pulsed electrical discharge for plasma chemistry application
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)

Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Investigation of plate-type barrier ozonizers with ac and pulse power supplies
за авторством: Krasnji, V.V., та інші
Опубліковано: (2002)

Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)

Plasma-aided surface technology for modification of materials referred to fire protection
за авторством: Dineff, P., та інші
Опубліковано: (2008)

The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)