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Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures

Single and dual frequency capacitively coupled plasma (CCP) sources operating in pure Ar, O₂ and Ar/O₂ mixtures are investigated by means of particle-in-cell/Monte Carlo collisions (PIC/MCC) simulations. The different possibilities to control ion energy distribution functions (IEDFs) and ion ang...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2006
Hauptverfasser:	Manuilenko, O.V., Minaeva, K.M., Golota, V.I.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Schlagworte:	Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82350
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures / O.V. Manuilenko, K.M. Minaeva, V.I. Golota // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 6. — С. 228-230. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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