Vacuum-arc equipment for ion-plasma deposition of coatings
A brief overview of NSC KIPT developments intended for creating the process equipment for vacuum-arc deposition of coatings is presented. The equipment devised is to be adapted to large-scale manufacture conditions and to be most suitable for commercial production. Consideration is given to the deve...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2000 |
| Автори: | Aksenov, I.I., Belous, V.A. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2000
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82381 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Vacuum-arc equipment for ion-plasma deposition of coatings / I.I. Aksenov, V.A. Belous // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 156-158. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Tribological properties of vacuum arc Cr-O-N coatings in macro- and microscale
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2016)
The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
Ultra high vacuum cathodic arc for deposition of superconducting lead photo-cathodes
за авторством: Strzyzewski, P., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Strzyzewski, P., та інші
Опубліковано: (2007)
Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Optimization of the magnetic system of a vacuum-arc plasma source with a straight line filter
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)
Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
Combustion of ethanol+air mixture supported by transverse arc plasma
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Plasma of electric arc discharge between Cu-Mo electrodes
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Plasma of electric arc between electrodes from composite materials
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
Electromagnetic dipolar modes in magnetized nonuniform plasma-vacuum-metal waveguide
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
Mechanisms affecting the speed and direction of vacuum arc cathode spots movement in a magnetic field
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2023)
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
Hardware-software complex for automated control and monitoring of the vacuum system of the coating setup "Bulat-6"
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2019)
The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
Plasma of electric arc discharge between copper electrodes in a gas flow
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
Spectroscopy of electric arc discharge plasma with admixtures of W, Mo, Cr
за авторством: Lebid, A.V., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Lebid, A.V., та інші
Опубліковано: (2016)
Сharacterization of ARC-PVD ZrN nanostructured coatings by using the fractals theory
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma and ion beam surface modification at Lawrence Berkeley National Laboratory
за авторством: Brown, I.
Опубліковано: (2000)
за авторством: Brown, I.
Опубліковано: (2000)
Influence of molecular and electronegative impurities on the contraction of the plasma column of an argon arc
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2002)
Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
Peculiarities of interaction of Cu-W composite materials with thermal arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
Performance of thermal barrier coatings produced by smart plasma processing
за авторством: Kobayashi, Akira
Опубліковано: (2006)
за авторством: Kobayashi, Akira
Опубліковано: (2006)
Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Схожі ресурси
-
Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002) -
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007) -
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008) -
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019) -
Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)