Famakinwa, T., Ikezawa, S., Homyara, H., Yoshioka, T., Nakamura, K., Ninomiya, Y., . . . Taoda, H. (2000). Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size. Вопросы атомной науки и техники.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Famakinwa, T., et al. "Industrial Applications of TiO₂ Films Deposited by Electron-beam-excited Plasma of Meter-size." Вопросы атомной науки и техники 2000.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Famakinwa, T., et al. "Industrial Applications of TiO₂ Films Deposited by Electron-beam-excited Plasma of Meter-size." Вопросы атомной науки и техники, 2000.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.