Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2000 |
| Автори: | , , , , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2000
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82384 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1859979194355679232 |
|---|---|
| author | Famakinwa, T. Ikezawa, S. Homyara, H. Yoshioka, T. Nakamura, K. Ninomiya, Y. Oda, H. Hara, T. Hori, M. Fujii, S. Yoshimura, K. Taoda, H. |
| author_facet | Famakinwa, T. Ikezawa, S. Homyara, H. Yoshioka, T. Nakamura, K. Ninomiya, Y. Oda, H. Hara, T. Hori, M. Fujii, S. Yoshimura, K. Taoda, H. |
| citation_txt | Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| first_indexed | 2025-12-07T16:25:10Z |
| format | Article |
| fulltext |
UDC 533.2
Problems of Atomic Science and Technology. 2000. N 3. Series: Plasma Physics (5). p. 159-161 159
160
161
|
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-82384 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T16:25:10Z |
| publishDate | 2000 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Famakinwa, T. Ikezawa, S. Homyara, H. Yoshioka, T. Nakamura, K. Ninomiya, Y. Oda, H. Hara, T. Hori, M. Fujii, S. Yoshimura, K. Taoda, H. 2015-05-29T07:56:55Z 2015-05-29T07:56:55Z 2000 Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82384 533.9 en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low Temperature Plasma and Plasma Technologies Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size Article published earlier |
| spellingShingle | Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size Famakinwa, T. Ikezawa, S. Homyara, H. Yoshioka, T. Nakamura, K. Ninomiya, Y. Oda, H. Hara, T. Hori, M. Fujii, S. Yoshimura, K. Taoda, H. Low Temperature Plasma and Plasma Technologies |
| title | Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_full | Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_fullStr | Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_full_unstemmed | Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_short | Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| title_sort | industrial applications of tio₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size |
| topic | Low Temperature Plasma and Plasma Technologies |
| topic_facet | Low Temperature Plasma and Plasma Technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82384 |
| work_keys_str_mv | AT famakinwat industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT ikezawas industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT homyarah industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT yoshiokat industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT nakamurak industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT ninomiyay industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT odah industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT harat industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT horim industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT fujiis industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT yoshimurak industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize AT taodah industrialapplicationsoftio2filmsdepositedbyelectronbeamexcitedplasmaofmetersize |