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Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2000
Hauptverfasser:	Famakinwa, T., Ikezawa, S., Homyara, H., Yoshioka, T., Nakamura, K., Ninomiya, Y., Oda, H., Hara, T., Hori, M., Fujii, S., Yoshimura, K., Taoda, H.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
Schlagworte:	Low Temperature Plasma and Plasma Technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82384
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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