Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2000
• Main Authors: Famakinwa, T., Ikezawa, S., Homyara, H., Yoshioka, T., Nakamura, K., Ninomiya, Y., Oda, H., Hara, T., Hori, M., Fujii, S., Yoshimura, K., Taoda, H.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
• Subjects: Low Temperature Plasma and Plasma Technologies
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82384
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.