Зображення обкладинки

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2000
Автори:	Langner, J., Cirillo, M., DeMasi, W., Merlo, V., Russo, R., Tazzari, S., Catani, L., Sorchetti, R.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
Теми:	Low Temperature Plasma and Plasma Technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82403
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron / J. Langner, M. Cirillo, W. DeMasi, V. Merlo R. Russo, S. Tazzari, L. Catani, R. Sorchetti // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 141-143. — Бібліогр.: 8 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

RF discharge in argon with cylindrical dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Transition radiation of the cylindrical electron bunch at the sharp vacuum-plasma border
за авторством: Kelnyk, O.I., та інші
Опубліковано: (2003)

Erosion, permeation and outgassing performances of tin coating under/after hydrogen plasma iffadiation
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)

Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)

Ion-cyclotron absorption of fast waves in a cylindrical current-carrying plasma
за авторством: Grishanov, N.I., та інші
Опубліковано: (2021)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Investigation of thin films deposition into porous material
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)

Higher radial modes of azimuthal surface waves above the upper-hybrid frequency in cylindrical waveguides partially filled by plasma
за авторством: Girka, I., та інші
Опубліковано: (2020)

Development of complex technology of strengthening of thin-walled cutting tools
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2016)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)

Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films
за авторством: Kolouch, A., та інші
Опубліковано: (2006)

Hydrogen saturation influence on erosion behavior of thin W-films under steady state nitrogen plasma impact
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2005)

X-RAY luminescence properties of thin organic films
за авторством: L`vov, A.N., та інші
Опубліковано: (2003)

Stability of thin quasi-crystalline Ti-Zr-Ni films and related crystalline phases under low-energy transient plasma irradiation
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)

Recent developments in the ISTTOK heavy ion beam diagnostic
за авторством: Nedzelskiy, I.S., та інші
Опубліковано: (2016)

Morphology and sputtering of tungsten nitrides coatings exposed to deuterium plasma
за авторством: Tolstolutskaya, G.D., та інші
Опубліковано: (2023)

The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)

Plasma of electric arc between electrodes from composite materials
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)

Dusty discharges with secondary electron emission
за авторством: Chutov, Yu. I., та інші
Опубліковано: (2002)

Glow discharge with a hollow cathode in carbon dioxide
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

The electric arc plasma temperature: the role of the secondary structure of the composition electrode's working layer
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2005)

Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)

Experimental and numerical studies of pressure and gap length effects on energy deposition in spark discharge
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2021)

Electrodeposition of chromoxide coatings from electrolytes modified with SiO₂·nH₂O
за авторством: Shtefan, V.V., та інші
Опубліковано: (2022)