Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2000 |
| Автори: | Langner, J., Cirillo, M., DeMasi, W., Merlo, V., Russo, R., Tazzari, S., Catani, L., Sorchetti, R. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2000
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82403 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron / J. Langner, M. Cirillo, W. DeMasi, V. Merlo R. Russo, S. Tazzari, L. Catani, R. Sorchetti // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 141-143. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Ultra high vacuum cathodic arc for deposition of superconducting lead photo-cathodes
за авторством: Strzyzewski, P., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Strzyzewski, P., та інші
Опубліковано: (2007)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Erosion behavior of tungsten coatings in magnetron type discharges with hot cathode
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2008)
The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
RF discharge in argon with cylindrical dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Transition radiation of the cylindrical electron bunch at the sharp vacuum-plasma border
за авторством: Kelnyk, O.I., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Kelnyk, O.I., та інші
Опубліковано: (2003)
Erosion, permeation and outgassing performances of tin coating under/after hydrogen plasma iffadiation
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
Nonlinear theory of symmetric surface waves excitation at cylindrical waveguide structures ‘plasma - vacuum - metal’ by electron beams
за авторством: Akimov, Yu.A., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Akimov, Yu.A., та інші
Опубліковано: (2002)
Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
Ion-cyclotron absorption of fast waves in a cylindrical current-carrying plasma
за авторством: Grishanov, N.I., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Grishanov, N.I., та інші
Опубліковано: (2021)
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Symmetric surface waves in cylindrical waveguide structures filled by radially non-uniform collisional plasma
за авторством: Olefir, V.P., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Olefir, V.P., та інші
Опубліковано: (2007)
Investigation of thin films deposition into porous material
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
Higher radial modes of azimuthal surface waves above the upper-hybrid frequency in cylindrical waveguides partially filled by plasma
за авторством: Girka, I., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Girka, I., та інші
Опубліковано: (2020)
Development of complex technology of strengthening of thin-walled cutting tools
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)
Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films
за авторством: Kolouch, A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Kolouch, A., та інші
Опубліковано: (2006)
X-RAY luminescence properties of thin organic films
за авторством: L`vov, A.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: L`vov, A.N., та інші
Опубліковано: (2003)
Hydrogen saturation influence on erosion behavior of thin W-films under steady state nitrogen plasma impact
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2005)
Stability of thin quasi-crystalline Ti-Zr-Ni films and related crystalline phases under low-energy transient plasma irradiation
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
Structural-phase changes in thin films and surface layers of Ti41.5Zr41.5Ni17 alloy, stimulated by radiation-thermal impact of hydrogen plasma
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Flat electrode diameter effect on glow discharge structure and properties
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Recent developments in the ISTTOK heavy ion beam diagnostic
за авторством: Nedzelskiy, I.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Nedzelskiy, I.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Схожі ресурси
-
Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002) -
Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007) -
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003) -
Ultra high vacuum cathodic arc for deposition of superconducting lead photo-cathodes
за авторством: Strzyzewski, P., та інші
Опубліковано: (2007) -
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)