Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF

Изучено оптическое поглощение излучения для облученных до дозы 1057 Р кристаллов LiF с величинами предварительной деформации 0,155 и 1,5%. Сделан вывод о присутствии F-центров в облученных кристаллах, определена объемная плотность указанных радиационных дефектов. На основании экспериментальных данны...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2015
Hauptverfasser: Петченко, Г.А., Петченко, А.М.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2015
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82435
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF / Г.А. Петченко, А.М. Петченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 2. — С. 25-28. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862625450021355520
author Петченко, Г.А.
Петченко, А.М.
author_facet Петченко, Г.А.
Петченко, А.М.
citation_txt Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF / Г.А. Петченко, А.М. Петченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 2. — С. 25-28. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description Изучено оптическое поглощение излучения для облученных до дозы 1057 Р кристаллов LiF с величинами предварительной деформации 0,155 и 1,5%. Сделан вывод о присутствии F-центров в облученных кристаллах, определена объемная плотность указанных радиационных дефектов. На основании экспериментальных данных, полученных в настоящей и предыдущих работах, изучены деформационные зависимости спектрального показателя ослабления Kλ и концентрации F-центров NF. Вивчено оптичне поглинання випромінювання для опромінених до дози 1057 Р кристалів LiF з величи-нами попередньої деформації 0,155 и 1,5%. Зроблено висновок щодо присутності F-центрів в опромінених кристалах, визначено об’ємну густину вказаних радіаційних дефектів. На підставі екпериментальних даних, отриманих у даній та попередніх роботах, вивчено деформаційні залежності спектрального показника ослаблення Kλ та концентрації F-центрів NF. The optical radiation absorption has been investigated for LiF crystals preliminary deformed to the level of 0.155 and 1.5% under irradiation to a dose of 1057 R. A conclusion on the presence of F-centers in irradiated crystals is drawn. The volume density of the observed radiation defects is evaluated. Basing on the experimental data of the present and previous papers the deformation dependences of the spectral damping coefficient Kλ and the concentration NF of F-centers were investigated.
first_indexed 2025-12-07T13:34:53Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-82435
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language Russian
last_indexed 2025-12-07T13:34:53Z
publishDate 2015
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Петченко, Г.А.
Петченко, А.М.
2015-05-29T16:12:18Z
2015-05-29T16:12:18Z
2015
Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF / Г.А. Петченко, А.М. Петченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 2. — С. 25-28. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82435
539.67:539.374
Изучено оптическое поглощение излучения для облученных до дозы 1057 Р кристаллов LiF с величинами предварительной деформации 0,155 и 1,5%. Сделан вывод о присутствии F-центров в облученных кристаллах, определена объемная плотность указанных радиационных дефектов. На основании экспериментальных данных, полученных в настоящей и предыдущих работах, изучены деформационные зависимости спектрального показателя ослабления Kλ и концентрации F-центров NF.
Вивчено оптичне поглинання випромінювання для опромінених до дози 1057 Р кристалів LiF з величи-нами попередньої деформації 0,155 и 1,5%. Зроблено висновок щодо присутності F-центрів в опромінених кристалах, визначено об’ємну густину вказаних радіаційних дефектів. На підставі екпериментальних даних, отриманих у даній та попередніх роботах, вивчено деформаційні залежності спектрального показника ослаблення Kλ та концентрації F-центрів NF.
The optical radiation absorption has been investigated for LiF crystals preliminary deformed to the level of 0.155 and 1.5% under irradiation to a dose of 1057 R. A conclusion on the presence of F-centers in irradiated crystals is drawn. The volume density of the observed radiation defects is evaluated. Basing on the experimental data of the present and previous papers the deformation dependences of the spectral damping coefficient Kλ and the concentration NF of F-centers were investigated.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных повреждений и явлений в твердых телах
Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF
Залежність концентрації електронних центрів забарвлення від стану дислокаційної структури опромінених кристалів LiF
Dependence of electronic color center concentration on the state of irradiated LiF crystal dislocation structure
Article
published earlier
spellingShingle Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF
Петченко, Г.А.
Петченко, А.М.
Физика радиационных повреждений и явлений в твердых телах
title Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF
title_alt Залежність концентрації електронних центрів забарвлення від стану дислокаційної структури опромінених кристалів LiF
Dependence of electronic color center concentration on the state of irradiated LiF crystal dislocation structure
title_full Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF
title_fullStr Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF
title_full_unstemmed Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF
title_short Зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов LiF
title_sort зависимость концентрации электронных центров окраски от состояния дислокационной структуры облученных кристаллов lif
topic Физика радиационных повреждений и явлений в твердых телах
topic_facet Физика радиационных повреждений и явлений в твердых телах
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82435
work_keys_str_mv AT petčenkoga zavisimostʹkoncentraciiélektronnyhcentrovokraskiotsostoâniâdislokacionnoistrukturyoblučennyhkristallovlif
AT petčenkoam zavisimostʹkoncentraciiélektronnyhcentrovokraskiotsostoâniâdislokacionnoistrukturyoblučennyhkristallovlif
AT petčenkoga zaležnístʹkoncentracííelektronnihcentrívzabarvlennâvídstanudislokacíinoístrukturiopromínenihkristalívlif
AT petčenkoam zaležnístʹkoncentracííelektronnihcentrívzabarvlennâvídstanudislokacíinoístrukturiopromínenihkristalívlif
AT petčenkoga dependenceofelectroniccolorcenterconcentrationonthestateofirradiatedlifcrystaldislocationstructure
AT petčenkoam dependenceofelectroniccolorcenterconcentrationonthestateofirradiatedlifcrystaldislocationstructure