Вплив умов осадження і відпалу на нанотвердість аморфних Si–C–N-плівок

• Veröffentlicht in: Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
• Datum: 2015
• 1. Verfasser: Порада, О.К.
• Format: Artikel
• Sprache: Ukrainisch
• Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2015
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/87978
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Вплив умов осадження і відпалу на нанотвердість аморфних Si–C–N-плівок / О.К. Порада // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2015. — Т. 13, № 1. — С. 59–74. — Бібліогр.: 32 назв. — укр.

Наведено експериментальні результати по тонких Sі–C–N-плівках, одержаних плазмохімічним методом із гексаметилдісилазану. Досліджено вплив потужности високочастотного газового розряду, кількости доданого до реактивної суміші азоту, зміщення на підкладкотримачеві, температури підкладкотримача та додат...